会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 1. 发明专利
    • 化合物半導體基板、化合物半導體基板的製造方法及發光元件
    • 化合物半导体基板、化合物半导体基板的制造方法及发光组件
    • TW201240106A
    • 2012-10-01
    • TW101105825
    • 2012-02-22
    • 信越半導體股份有限公司
    • 高橋雅宣酒井健滋池田淳篠原政幸
    • H01L
    • H01L33/0062H01L33/30
    • 本發明是一種化合物半導體基板,該化合物半導體基板至少具有四元發光層,該四元發光層是在n型GaP窗層上依序積層由(AlxGa1-x)yIn1-yP所構成的n型包覆層、活性層、以及p型包覆層而成,且該化合物半導體基板,是在四元發光層中的位於n型GaP窗層側的主表面(第二主面)的相反側的主表面(第一主面)上,積層有電流擴散層即p型GaP層而成,其中,所述化合物半導體基板的特徵在於:在n型GaP窗層與四元發光層之間,形成有不純物擴散抑制層,該不純物擴散抑制層是由(Alx“Ga1-x“)y“In1-y“P(其中,0
    • 本发明是一种化合物半导体基板,该化合物半导体基板至少具有四元发光层,该四元发光层是在n型GaP窗层上依序积层由(AlxGa1-x)yIn1-yP所构成的n型包覆层、活性层、以及p型包覆层而成,且该化合物半导体基板,是在四元发光层中的位于n型GaP窗层侧的主表面(第二主面)的相反侧的主表面(第一主面)上,积层有电流扩散层即p型GaP层而成,其中,所述化合物半导体基板的特征在于:在n型GaP窗层与四元发光层之间,形成有不纯物扩散抑制层,该不纯物扩散抑制层是由(Alx“Ga1-x“)y“In1-y“P(其中,0
    • 4. 发明专利
    • 發光元件及發光元件之製造方法
    • 发光组件及发光组件之制造方法
    • TWI318462B
    • 2009-12-11
    • TW093107630
    • 2004-03-22
    • 信越半導體股份有限公司
    • 萩本和德池田淳高橋雅宣山田雅人
    • H01L
    • H01L33/46H01L33/0079H01L33/02H01L33/387
    • 在發光元件100中,於化合物半導體層60與主金屬層10之間,為了降低該主金屬層10與化合物半導體層60之接觸電阻而配置接觸金屬層32。又,化合物半導體層60之位於接觸金屬層32與發光層部24間的部位,係形成擴散阻擋用半導體層25(對來自發光層部24之發光光束具有透光性,且能抑制從接觸金屬層32往發光層部24之成分擴散)。若使擴散阻擋用半導體層25由AlGaAs構成,則能有效抑制從接觸金屬層32往發光層部24之Ge、Ni及Au等的擴散。藉此,可提供一種發光元件,係透過接觸金屬層及反射用金屬層而將元件基板結合於發光層部之發光元件,就算進行接觸金屬層之合金化熱處理,該接觸金屬層也不易對發光層部產生成分擴散的影響。
    • 在发光组件100中,于化合物半导体层60与主金属层10之间,为了降低该主金属层10与化合物半导体层60之接触电阻而配置接触金属层32。又,化合物半导体层60之位于接触金属层32与发光层部24间的部位,系形成扩散阻挡用半导体层25(对来自发光层部24之发光光束具有透光性,且能抑制从接触金属层32往发光层部24之成分扩散)。若使扩散阻挡用半导体层25由AlGaAs构成,则能有效抑制从接触金属层32往发光层部24之Ge、Ni及Au等的扩散。借此,可提供一种发光组件,系透过接触金属层及反射用金属层而将组件基板结合于发光层部之发光组件,就算进行接触金属层之合金化热处理,该接触金属层也不易对发光层部产生成分扩散的影响。
    • 6. 发明专利
    • 發光元件及發光元件之製造方法
    • 发光组件及发光组件之制造方法
    • TW200505051A
    • 2005-02-01
    • TW093107630
    • 2004-03-22
    • 信越半導體股份有限公司 SHIN-ETSU HANDOTAI CO., LTD.
    • 萩本和德池田淳高橋雅宣山田雅人
    • H01L
    • H01L33/46H01L33/0079H01L33/02H01L33/387
    • 在發光元件100中,於化合物半導體層60與主金屬層10之間,為了降低該主金屬層10與化合物半導體層60之接觸電阻而配置接觸金屬層32。又,化合物半導體層60之位於接觸金屬層32與發光層部24間的部位,係形成擴散阻擋用半導體層25(對來自發光層部24之發光光束具有透光性,且能抑制從接觸金屬層32往發光層部24之成分擴散)。若使擴散阻擋用半導體層25由AlGaAs構成,則能有效抑制從接觸金屬層32往發光層部24之Ge、Ni及Au等的擴散。藉此,可提供一種發光元件,係透過接觸金屬層及反射用金屬層而將元件基板結合於發光層部之發光元件,就算進行接觸金屬層之合金化熱處理,該接觸金屬層也不易對發光層部產生成分擴散的影響。
    • 在发光组件100中,于化合物半导体层60与主金属层10之间,为了降低该主金属层10与化合物半导体层60之接触电阻而配置接触金属层32。又,化合物半导体层60之位于接触金属层32与发光层部24间的部位,系形成扩散阻挡用半导体层25(对来自发光层部24之发光光束具有透光性,且能抑制从接触金属层32往发光层部24之成分扩散)。若使扩散阻挡用半导体层25由AlGaAs构成,则能有效抑制从接触金属层32往发光层部24之Ge、Ni及Au等的扩散。借此,可提供一种发光组件,系透过接触金属层及反射用金属层而将组件基板结合于发光层部之发光组件,就算进行接触金属层之合金化热处理,该接触金属层也不易对发光层部产生成分扩散的影响。