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1. 发明专利

TW200428416A 高耐電壓性構件审中-公开
简体标题：高耐电压性构件
公开(公告)号：TW200428416A
公开(公告)日：2004-12-16
申请号：TW092137113
申请日：2003-12-26
申请人：信越化學工業股份有限公司 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：前田孝雄 MAEDA, TAKAO , 島聰 SHIMA, SATOSHI
IPC分类号： H01B , C23C
CPC分类号： H02H1/00 , C23C4/11 , C23C24/04
摘要：〔用以解決課題之手段〕本發明為一種高耐電壓性構件，其特徵為由含有原子序64～71的稀土元素(Rere earth elements)氧化物之溶射皮膜所構成之高耐電壓溶射皮膜材料。〔發明之效果〕本發明提供一種高耐電壓性構件，可妥適地作為介電體滾筒(dielectric roll)、加熱基板、半導體製造裝置的靜電吸盤構件、微波發熱體等之用。
简体摘要：〔用以解决课题之手段〕本发明为一种高耐电压性构件，其特征为由含有原子序64～71的稀土元素(Rere earth elements)氧化物之溶射皮膜所构成之高耐电压溶射皮膜材料。〔发明之效果〕本发明提供一种高耐电压性构件，可妥适地作为介电体滚筒(dielectric roll)、加热基板、半导体制造设备的静电吸盘构件、微波发热体等之用。

2. 发明专利

TWI295327B 高耐電壓性構件有权
简体标题：高耐电压性构件
公开(公告)号：TWI295327B
公开(公告)日：2008-04-01
申请号：TW092137113
申请日：2003-12-26
申请人：信越化學工業股份有限公司 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：前田孝雄 MAEDA, TAKAO , 島聰 SHIMA, SATOSHI
IPC分类号： H01B , C23C
CPC分类号： H02H1/00 , C23C4/11 , C23C24/04
摘要： [用以解決課題之手段]本發明為一種高耐電壓性構件，其特徵為由含有原子序64~71的稀土元素(Rere earth elements)氧化物之溶射皮膜所構成之高耐電壓溶射皮膜材料。[發明之效果]本發明提供一種高耐電壓性構件，可妥適地作為介電體滾筒(dielectric roll)、加熱基板、半導體製造裝置的靜電吸盤構件、微波發熱體等之用。
简体摘要： [用以解决课题之手段]本发明为一种高耐电压性构件，其特征为由含有原子序64~71的稀土元素(Rere earth elements)氧化物之溶射皮膜所构成之高耐电压溶射皮膜材料。[发明之效果]本发明提供一种高耐电压性构件，可妥适地作为介电体滚筒(dielectric roll)、加热基板、半导体制造设备的静电吸盘构件、微波发热体等之用。

3. 发明专利

TWI313306B 含氟化物之薄膜及被覆構件有权
简体标题：含氟化物之薄膜及被覆构件
公开(公告)号：TWI313306B
公开(公告)日：2009-08-11
申请号：TW092136021
申请日：2003-12-18
申请人：信越化學工業股份有限公司 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：前田孝雄 MAEDA, TAKAO , 中野瑞 NAKANO, HAJIME , 島聰 SHIMA, SATOSHI
IPC分类号： C23F
CPC分类号： C23C30/00 , C23C4/04 , C23C24/04 , C23C30/005 , Y10T428/31678
摘要：本發明提供一種含有第IIIA族元素之氟化物的薄膜,係至少含有第IIIA族元素、與氟元素之皮膜者;其特徵為,含有第IIIA族氟化物相,而且此氟化物相為正交晶系,含有50%以上之屬於空間群Pnma的結晶相。
使用本發明,為授與曝露於腐蝕性鹵素原料存在之大氣下的構件耐蝕性,在其表面形成含有第IIIA族之氟化物的皮膜中,藉由控制其結晶相之狀態,可以抑制因腐蝕而產生的變色之故,藉由此含第IIIA族氟化物皮膜之所含結晶相,能提高耐蝕性;更由於此結晶相為正交晶系,乃實質的單相,能抑制皮膜之變色。
又,皮膜之硬度,以顯微型威氏硬度計測定,在硬度Hv100以上,為能減低‧抑制皮膜之損耗量者。
简体摘要：本发明提供一种含有第IIIA族元素之氟化物的薄膜,系至少含有第IIIA族元素、与氟元素之皮膜者;其特征为,含有第IIIA族氟化物相,而且此氟化物相为正交晶系,含有50%以上之属于空间群Pnma的结晶相。使用本发明,为授与曝露于腐蚀性卤素原料存在之大气下的构件耐蚀性,在其表面形成含有第IIIA族之氟化物的皮膜中,借由控制其结晶相之状态,可以抑制因腐蚀而产生的变色之故,借由此含第IIIA族氟化物皮膜之所含结晶相,能提高耐蚀性;更由于此结晶相为正交晶系,乃实质的单相,能抑制皮膜之变色。又,皮膜之硬度,以显微型威氏硬度计测定,在硬度Hv100以上,为能减低‧抑制皮膜之损耗量者。

4. 发明专利

TW200427870A 含氟化物之薄膜及被覆構件审中-公开
简体标题：含氟化物之薄膜及被覆构件
公开(公告)号：TW200427870A
公开(公告)日：2004-12-16
申请号：TW092136021
申请日：2003-12-18
申请人：信越化學工業股份有限公司 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：前田孝雄 MAEDA, TAKAO , 中野瑞 NAKANO, HAJIME , 島聰 SHIMA, SATOSHI
IPC分类号： C23F
CPC分类号： C23C30/00 , C23C4/04 , C23C24/04 , C23C30/005 , Y10T428/31678
摘要：本發明提供一種含有第IIIA族元素之氟化物的薄膜，係至少含有第IIIA族元素、與氟元素之皮膜者；其特徵為，含有第IIIA族氟化物相，而且此氟化物相為正交晶系，含有50％以上之屬於空間群Pnma的結晶相。使用本發明，為授與曝露於腐蝕性鹵素原料存在之大氣下的構件耐蝕性，在其表面形成含有第IIIA族之氟化物的皮膜中，藉由控制其結晶相之狀態，可以抑制因腐蝕而產生的變色之故，藉由此含第IIIA族氟化物皮膜之所含結晶相，能提高耐蝕性；更由於此結晶相為正交晶系，乃實質的單相，能抑制皮膜之變色。又，皮膜之硬度，以顯微型威氏硬度計測定，在硬度Hv100以上，為能減低．抑制皮膜之損耗量者。
简体摘要：本发明提供一种含有第IIIA族元素之氟化物的薄膜，系至少含有第IIIA族元素、与氟元素之皮膜者；其特征为，含有第IIIA族氟化物相，而且此氟化物相为正交晶系，含有50％以上之属于空间群Pnma的结晶相。使用本发明，为授与曝露于腐蚀性卤素原料存在之大气下的构件耐蚀性，在其表面形成含有第IIIA族之氟化物的皮膜中，借由控制其结晶相之状态，可以抑制因腐蚀而产生的变色之故，借由此含第IIIA族氟化物皮膜之所含结晶相，能提高耐蚀性；更由于此结晶相为正交晶系，乃实质的单相，能抑制皮膜之变色。又，皮膜之硬度，以显微型威氏硬度计测定，在硬度Hv100以上，为能减低．抑制皮膜之损耗量者。

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