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1. 发明专利

TW201732415A 防塵薄膜組件审中-公开
简体标题：防尘薄膜组件
公开(公告)号：TW201732415A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW105142888
申请日：2016-12-23
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：濱田裕一 , HAMADA, YUICHI
IPC分类号： G03F1/48 , G03F1/62
CPC分类号： G03F1/64
摘要：提供一種在防塵薄膜組件框架的角部沒有疑似異物，從而提高異物檢查的精度，由此減少防塵薄膜組件製品的不合格率。使防塵薄膜組件框架的內側面和上端面以及下端面所成的角部從截面來看為大致曲線狀，特別是，防塵薄膜組件框架的內側面和上端面以及下端面所成的各角部為被C倒棱的防塵薄膜組件中，防塵薄膜組件框架的內側面和該C倒棱面形成的C倒棱面所成的角部被R倒棱或C倒棱。
简体摘要：提供一种在防尘薄膜组件框架的角部没有疑似异物，从而提高异物检查的精度，由此减少防尘薄膜组件制品的不合格率。使防尘薄膜组件框架的内侧面和上端面以及下端面所成的角部从截面来看为大致曲线状，特别是，防尘薄膜组件框架的内侧面和上端面以及下端面所成的各角部为被C倒棱的防尘薄膜组件中，防尘薄膜组件框架的内侧面和该C倒棱面形成的C倒棱面所成的角部被R倒棱或C倒棱。

2. 发明专利

TWI554409B 防塵薄膜組件的貼附方法以及使用於該方法的貼附裝置有权
简体标题：防尘薄膜组件的贴附方法以及使用于该方法的贴附设备
公开(公告)号：TWI554409B
公开(公告)日：2016-10-21
申请号：TW103138632
申请日：2014-11-07
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：濱田裕一 , HAMADA, YUICHI
IPC分类号： B32B38/18 , B32B37/06
CPC分类号： G03F1/38 , B32B37/12 , B32B37/18 , B32B41/00 , B32B2559/00 , G03F1/142 , G03F1/62 , G03F1/64 , G03F7/70983 , Y10T156/10

3. 发明专利

TWI485510B 微影用防塵薄膜組件有权
简体标题：微影用防尘薄膜组件
公开(公告)号：TWI485510B
公开(公告)日：2015-05-21
申请号：TW099139241
申请日：2010-11-15
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：濱田裕一 , HAMADA, YUICHI
IPC分类号： G03F1/62
CPC分类号： G03F1/64

4. 发明专利

TWI468854B 防塵薄膜組件製造用套件有权
简体标题：防尘薄膜组件制造用套件
公开(公告)号：TWI468854B
公开(公告)日：2015-01-11
申请号：TW101104114
申请日：2012-02-08
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：濱田裕一 , HAMADA, YUICHI , 瀨間達也 , SEMA, TATSUYA
IPC分类号： G03F1/62
CPC分类号： G03F1/64

5. 发明专利

TW201831988A 黏著劑之成形方法及藉此成形方法之防塵薄膜之製造方法审中-公开
简体标题：黏着剂之成形方法及借此成形方法之防尘薄膜之制造方法
公开(公告)号：TW201831988A
公开(公告)日：2018-09-01
申请号：TW107102290
申请日：2018-01-23
申请人：日商信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：濱田裕一 , HAMADA, YUICHI , 簗瀬優 , YANASE, YU
IPC分类号： G03F1/62 , G03F1/64
摘要：本發明目的在於提供一種氣泡的混入較少的黏著劑之成形方法及採用此成形方法之防塵薄膜之製造方法。　　解決手段為，由於氦氣與以往在恢復大氣壓時混入的空氣或氮氣相比，氦分子的大小較小，且氦氣的脫泡性良好，因此，本發明係以使用在氦氣環境下所調製的黏著劑來進行成形為特徵。而且，在此調製中，較佳包含保存、加壓、攪拌或脫泡之任一步驟。　　根據本發明，由於可抑制氣泡向黏著劑的混入，而能夠以高良率製作氣泡向黏著劑的混入較少的防塵薄膜。
简体摘要：本发明目的在于提供一种气泡的混入较少的黏着剂之成形方法及采用此成形方法之防尘薄膜之制造方法。　　解决手段为，由于氦气与以往在恢复大气压时混入的空气或氮气相比，氦分子的大小较小，且氦气的脱泡性良好，因此，本发明系以使用在氦气环境下所调制的黏着剂来进行成形为特征。而且，在此调制中，较佳包含保存、加压、搅拌或脱泡之任一步骤。　　根据本发明，由于可抑制气泡向黏着剂的混入，而能够以高良率制作气泡向黏着剂的混入较少的防尘薄膜。

6. 发明专利

TW201820029A 表膜框架及表膜审中-公开
公开(公告)号：TW201820029A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106128561
申请日：2017-08-23
申请人：日商信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：濱田裕一 , HAMADA, YUICHI
IPC分类号： G03F1/62 , G03F1/64 , C25D13/06 , C25D15/00 , B32B27/20
摘要：本發明提供表膜框架及包含其之表膜，該表膜框架於光微影之曝光步驟中，即使雜散光（stray light）碰觸到表膜框架之內側面，碳黑或填料等之微粒子亦不會污染光罩。　　本發明提供表膜框架，其具備框架母材及被覆前述框架母材之至少內周面之聚合物被覆層，前述聚合物被覆層具備存在於距離前述框架母材最遠側之最外聚合物層與前述最外聚合物層以外之至少一層內側聚合物層，前述最外聚合物層之微粒子濃度低於前述至少一層內側聚合物層之各微粒子濃度中之最大微粒子濃度。且提供表膜等，其至少具備該表膜框架、張設於前述表膜框架之上端面之表膜薄膜、及附著於前述表膜框架下端面之黏著劑。
简体摘要：本发明提供表膜框架及包含其之表膜，该表膜框架于光微影之曝光步骤中，即使杂散光（stray light）碰触到表膜框架之内侧面，碳黑或填料等之微粒子亦不会污染光罩。　　本发明提供表膜框架，其具备框架母材及被覆前述框架母材之至少内周面之聚合物被覆层，前述聚合物被覆层具备存在于距离前述框架母材最远侧之最外聚合物层与前述最外聚合物层以外之至少一层内侧聚合物层，前述最外聚合物层之微粒子浓度低于前述至少一层内侧聚合物层之各微粒子浓度中之最大微粒子浓度。且提供表膜等，其至少具备该表膜框架、张设于前述表膜框架之上端面之表膜薄膜、及附着于前述表膜框架下端面之黏着剂。

7. 发明专利

TW201532836A 防塵薄膜組件的貼附方法以及使用於該方法的貼附裝置审中-公开
简体标题：防尘薄膜组件的贴附方法以及使用于该方法的贴附设备
公开(公告)号：TW201532836A
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW103138632
申请日：2014-11-07
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：濱田裕一 , HAMADA, YUICHI
IPC分类号： B32B38/18 , B32B37/06
CPC分类号： G03F1/38 , B32B37/12 , B32B37/18 , B32B41/00 , B32B2559/00 , G03F1/142 , G03F1/62 , G03F1/64 , G03F7/70983 , Y10T156/10
摘要：提供一種可以減輕將防塵薄膜組件貼附於遮罩時的遮罩扭曲的防塵薄膜組件的貼附方法以及實施該方法的貼附裝置。本發明的特徵為在將防塵薄膜組件框架的一個端面通過接著劑將防塵薄膜繃緊設置，在防塵薄膜組件框架的另一個端面設有黏著層的光刻用防塵薄膜組件貼附於遮罩基板時，黏著層和遮罩基板優選加熱為35℃以上80℃以下。另外，本發明的另一個特徵，為將100N以下的貼附負荷分為至少1個以上的加壓步驟斷續上升。
简体摘要：提供一种可以减轻将防尘薄膜组件贴附于遮罩时的遮罩扭曲的防尘薄膜组件的贴附方法以及实施该方法的贴附设备。本发明的特征为在将防尘薄膜组件框架的一个端面通过接着剂将防尘薄膜绷紧设置，在防尘薄膜组件框架的另一个端面设有黏着层的光刻用防尘薄膜组件贴附于遮罩基板时，黏着层和遮罩基板优选加热为35℃以上80℃以下。另外，本发明的另一个特征，为将100N以下的贴附负荷分为至少1个以上的加压步骤断续上升。

8. 发明专利

TWI443451B 光刻用防護薄膜組件的黏貼方法及裝置有权
简体标题：光刻用防护薄膜组件的黏贴方法及设备
公开(公告)号：TWI443451B
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW100141950
申请日：2011-11-17
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：濱田裕一 , HAMADA, YUICHI
IPC分类号： G03F1/64
CPC分类号： G03F1/64

9. 发明专利

TWI415168B 微影用防護薄膜組件有权
简体标题：微影用防护薄膜组件
公开(公告)号：TWI415168B
公开(公告)日：2013-11-11
申请号：TW098115307
申请日：2009-05-08
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：濱田裕一 , HAMADA, YUICHI
IPC分类号： H01L21/027

10. 发明专利

TWI396937B 防護薄膜組件的剝離方法以及用於該方法中的剝離裝置有权
简体标题：防护薄膜组件的剥离方法以及用于该方法中的剥离设备
公开(公告)号：TWI396937B
公开(公告)日：2013-05-21
申请号：TW098115565
申请日：2009-05-11
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：濱田裕一 , HAMADA, YUICHI
IPC分类号： G03F1/62 , H01L21/67
CPC分类号： G03F1/64

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