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1. 发明专利

TW201819475A 含有聚矽氧骨架之高分子化合物、光硬化性樹脂組成物、光硬化性乾薄膜、層合體及圖型形成方法审中-公开
简体标题：含有聚硅氧骨架之高分子化合物、光硬化性树脂组成物、光硬化性干薄膜、层合体及图型形成方法
公开(公告)号：TW201819475A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106110873
申请日：2017-03-30
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：丸山仁 , MARUYAMA, HITOSHI , 近藤和紀 , KONDO, KAZUNORI , 菅生道博 , SUGO, MICHIHIRO
IPC分类号： C08G77/455 , C08G77/52 , G03F7/038 , G03F7/075 , H01L21/312
摘要：本發明提供一種容易進行厚膜且微細圖型之形成，且，具有耐龜裂性，或對基板、電子零件或半導體元件等，特別是對線路基板所使用的基材可形成具有優良密著性等的各種薄膜特性之電氣‧電子零件保護用被膜，或作為基板接合用被膜等實可形成具有優良信賴性的硬化物層(硬化被膜)的含有聚矽氧骨架之高分子化合物、含有該高分子化合物之光硬化性樹脂組成物、該光硬化性乾薄膜、使用該些之層合體，及圖型形成方法。一種含有聚矽氧骨架之高分子化合物，其為含有下述式(1)所示聚矽氧骨架，且重量平均分子量為3,000~500,000者。
简体摘要：本发明提供一种容易进行厚膜且微细图型之形成，且，具有耐龟裂性，或对基板、电子零件或半导体组件等，特别是对线路基板所使用的基材可形成具有优良密着性等的各种薄膜特性之电气‧电子零件保护用被膜，或作为基板接合用被膜等实可形成具有优良信赖性的硬化物层(硬化被膜)的含有聚硅氧骨架之高分子化合物、含有该高分子化合物之光硬化性树脂组成物、该光硬化性干薄膜、使用该些之层合体，及图型形成方法。一种含有聚硅氧骨架之高分子化合物，其为含有下述式(1)所示聚硅氧骨架，且重量平均分子量为3,000~500,000者。

2. 发明专利

TW202030555A 感光性樹脂組成物、圖型形成方法及抗反射膜审中-公开
简体标题：感光性树脂组成物、图型形成方法及抗反射膜
公开(公告)号：TW202030555A
公开(公告)日：2020-08-16
申请号：TW108141725
申请日：2019-11-18
申请人：日商信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：丸山仁 , MARUYAMA, HITOSHI , 大和田保 , OOWADA, TAMOTSU
IPC分类号： G03F7/075 , G03F7/26 , G02B1/11
摘要：本發明之課題在於提供感光性樹脂組成物、使用該感光性樹脂組成物之圖型形成方法、使用該感光性樹脂組成物而得的具有抗反射功能之硬化膜，該感光性樹脂組成物具有作為抗反射膜的充分功能，具有良好的可靠性(密著性、耐龜裂性)、可撓性、微影解像性、耐光性。本發明之解決手段為一種感光性樹脂組成物，其包含(A)含酸交聯性基的聚矽氧樹脂、(B)光酸產生劑及(C)中空二氧化矽。
简体摘要：本发明之课题在于提供感光性树脂组成物、使用该感光性树脂组成物之图型形成方法、使用该感光性树脂组成物而得的具有抗反射功能之硬化膜，该感光性树脂组成物具有作为抗反射膜的充分功能，具有良好的可靠性(密着性、耐龟裂性)、可挠性、微影解像性、耐光性。本发明之解决手段为一种感光性树脂组成物，其包含(A)含酸交联性基的聚硅氧树脂、(B)光酸产生剂及(C)中空二氧化硅。

3. 发明专利

TW201947325A 感光性樹脂組成物、感光性乾薄膜及圖型形成方法审中-公开
简体标题：感光性树脂组成物、感光性干薄膜及图型形成方法
公开(公告)号：TW201947325A
公开(公告)日：2019-12-16
申请号：TW108116851
申请日：2019-05-16
申请人：日商信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：丸山仁 , MARUYAMA, HITOSHI , 加藤英人 , KATO, HIDETO , 菅生道博 , SUGO, MICHIHIRO
IPC分类号： G03F7/075 , H01L21/027
摘要：本發明之課題在於提供能容易進行厚膜且微細的圖型形成，且可形成耐龜裂性或對於基板、電子零件或半導體元件等，尤其電路基板所使用的基材之密著性等各種薄膜特性優異，作為電氣、電子零件保護用皮膜的可靠性優異之硬化皮膜(硬化物層)的包含矽伸苯基骨架之聚合物、包含該聚合物之感光性樹脂組成物、其感光性乾薄膜及圖型形成方法。本發明之解決手段為一種感光性樹脂組成物，其係包含：(A)含有包含以下述式(1)～(4)所示的重複單元之矽伸苯基骨架及聚醚骨架之聚合物，及(B)光酸產生劑； [式中，X1～X4各自為以下述式(X1)～(X4)所示的2價之基；p、q、r及s為滿足0＜p＜1、0≦q＜1、0≦r＜1、0≦s＜1、0＜q+r+s＜1及p+q+r+s=1之數]。
简体摘要：本发明之课题在于提供能容易进行厚膜且微细的图型形成，且可形成耐龟裂性或对于基板、电子零件或半导体组件等，尤其电路基板所使用的基材之密着性等各种薄膜特性优异，作为电气、电子零件保护用皮膜的可靠性优异之硬化皮膜(硬化物层)的包含硅伸苯基骨架之聚合物、包含该聚合物之感光性树脂组成物、其感光性干薄膜及图型形成方法。本发明之解决手段为一种感光性树脂组成物，其系包含：(A)含有包含以下述式(1)～(4)所示的重复单元之硅伸苯基骨架及聚醚骨架之聚合物，及(B)光酸产生剂； [式中，X1～X4各自为以下述式(X1)～(X4)所示的2价之基；p、q、r及s为满足0＜p＜1、0≦q＜1、0≦r＜1、0≦s＜1、0＜q+r+s＜1及p+q+r+s=1之数]。

4. 发明专利

TW201840652A 聚矽氧改質聚苯并噁唑樹脂以及其製造方法审中-公开
简体标题：聚硅氧改质聚苯并恶唑树脂以及其制造方法
公开(公告)号：TW201840652A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107103575
申请日：2018-02-01
申请人：日商信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：丸山仁 , MARUYAMA, HITOSHI , 林竜人 , HAYASHI, RYUTO , 近藤和紀 , KONDO, KAZUNORI , 柳澤秀好 , YANAGISAWA, HIDEYOSHI
IPC分类号： C08G73/22 , C08G77/452 , C08G77/04
摘要：本發明之課題在於提供具有可撓性，在有機溶劑中的溶解性優異，使用方便性良好的聚矽氧改質聚苯并噁唑樹脂及其製造方法。　　本發明之解決手段為一種聚矽氧改質聚苯并噁唑樹脂，其具有下述式(1a)所示的重複單位及下述式(1b)所示的重複單位； [式中，R1～R4各自獨立地為碳數1～8的1價烴基，亦可包含環氧丙基、丙烯醯基或甲基丙烯醯基；m及n各自獨立地為0～300之整數；R5為直鏈狀、分枝狀或環狀之碳數1～8的伸烷基或伸苯基；a及b係滿足0＜a＜1、0＜b＜1及a+b=1之正數；X1為下述式(2)所示之2價的連結基。
简体摘要：本发明之课题在于提供具有可挠性，在有机溶剂中的溶解性优异，使用方便性良好的聚硅氧改质聚苯并恶唑树脂及其制造方法。　　本发明之解决手段为一种聚硅氧改质聚苯并恶唑树脂，其具有下述式(1a)所示的重复单位及下述式(1b)所示的重复单位； [式中，R1～R4各自独立地为碳数1～8的1价烃基，亦可包含环氧丙基、丙烯酰基或甲基丙烯酰基；m及n各自独立地为0～300之整数；R5为直链状、分枝状或环状之碳数1～8的伸烷基或伸苯基；a及b系满足0＜a＜1、0＜b＜1及a+b=1之正数；X1为下述式(2)所示之2价的链接基。

5. 发明专利

TW201837087A 感光性樹脂組成物、感光性乾膜、感光性樹脂被膜，及圖型形成方法审中-公开
简体标题：感光性树脂组成物、感光性干膜、感光性树脂被膜，及图型形成方法
公开(公告)号：TW201837087A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW107103570
申请日：2018-02-01
申请人：日商信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：丸山仁 , MARUYAMA, HITOSHI , 近藤和紀 , KONDO, KAZUNORI , 柳澤秀好 , YANAGISAWA, HIDEYOSHI
IPC分类号： C08G77/42 , C08F283/12 , G03F7/075 , B32B27/06 , H01L21/027
摘要：本發明之課題為提供能夠以厚膜容易地進行微細之圖型形成，且可形成耐龜裂性、各種薄膜特性優良，作為被膜等之信賴性優良之樹脂被膜的感光性樹脂組成物、感光性乾膜、感光性樹脂被膜，及圖型形成方法。　　其解決手段為一種感光性樹脂組成物，其含有(A)包含下述式(1a)表示之重複單位及下述式(1b)表示之重複單位的聚矽氧改質聚苯并噁唑樹脂，及(B)藉由190~500nm之光分解而產生酸之光酸產生劑； [式中，R1~R4係分別獨立地為碳數1~8之1價烴基；m及n係分別獨立地為0~300之整數；R5為碳數1~8之伸烷基，或伸苯基；a及b，為滿足0＜a＜1、0＜b＜1，及a+b=1之正數；X1為下述式(2)表示之2價連結基]。
简体摘要：本发明之课题为提供能够以厚膜容易地进行微细之图型形成，且可形成耐龟裂性、各种薄膜特性优良，作为被膜等之信赖性优良之树脂被膜的感光性树脂组成物、感光性干膜、感光性树脂被膜，及图型形成方法。　　其解决手段为一种感光性树脂组成物，其含有(A)包含下述式(1a)表示之重复单位及下述式(1b)表示之重复单位的聚硅氧改质聚苯并恶唑树脂，及(B)借由190~500nm之光分解而产生酸之光酸产生剂； [式中，R1~R4系分别独立地为碳数1~8之1价烃基；m及n系分别独立地为0~300之整数；R5为碳数1~8之伸烷基，或伸苯基；a及b，为满足0＜a＜1、0＜b＜1，及a+b=1之正数；X1为下述式(2)表示之2价链接基]。

6. 发明专利

TW202010772A 感光性樹脂組成物以及圖型形成方法审中-公开
简体标题：感光性树脂组成物以及图型形成方法
公开(公告)号：TW202010772A
公开(公告)日：2020-03-16
申请号：TW108125047
申请日：2019-07-16
申请人：日商信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：丸山仁 , MARUYAMA, HITOSHI , 大和田保 , OOWADA, TAMOTSU
IPC分类号： C08G77/48 , G03F7/004 , G03F7/075 , H01L21/027
摘要：本發明為提供一種具有充分之反射率，同時也具有良好信賴性(密著性、耐裂痕性)、解像性、可撓性、耐光性之白色之感光性樹脂組成物，及使用該感光性樹脂組成物之圖型形成方法。作為解決手段，為提供一種包含(A)含酸交聯性基之矽氧樹脂、(B)光酸產生劑及(C)白色顏料之感光性樹脂組成物。
简体摘要：本发明为提供一种具有充分之反射率，同时也具有良好信赖性(密着性、耐裂痕性)、解像性、可挠性、耐光性之白色之感光性树脂组成物，及使用该感光性树脂组成物之图型形成方法。作为解决手段，为提供一种包含(A)含酸交联性基之硅氧树脂、(B)光酸产生剂及(C)白色颜料之感光性树脂组成物。

7. 发明专利

TW201920378A 含有聚矽氧骨架之高分子化合物、感光性樹脂組成物、感光性樹脂皮膜、感光性乾膜、層合體及圖型形成方法审中-公开
简体标题：含有聚硅氧骨架之高分子化合物、感光性树脂组成物、感光性树脂皮膜、感光性干膜、层合体及图型形成方法
公开(公告)号：TW201920378A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107127550
申请日：2018-08-08
申请人：日商信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：丸山仁 , MARUYAMA, HITOSHI , 近藤和紀 , KONDO, KAZUNORI
IPC分类号： C08G77/04 , C08G77/26 , C08G77/28 , G03F7/075 , H01L21/312
摘要：本發明的課題為提供一種可輕易進行厚膜且微細之圖型形成，且可形成抗裂性、各種薄膜特性優異，作為皮膜等之信賴性優異之樹脂皮膜的含有聚矽氧骨架之高分子化合物、包含該高分子化合物之感光性樹脂組成物、由該組成物所得之感光性樹脂皮膜、感光性乾膜、使用此等之層合體及圖型形成方法。　　本發明的解決手段為一種含有聚矽氧骨架之高分子化合物，其係包含下述式(a1)表示之重複單位及下述式(b1)表示之重複單位，[式中，X1為下述式(1)表示之2價基；(式中，Y1為單鍵或下述式(1-1)、(1-2)或(1-3)表示之2價有機基) ]。
简体摘要：本发明的课题为提供一种可轻易进行厚膜且微细之图型形成，且可形成抗裂性、各种薄膜特性优异，作为皮膜等之信赖性优异之树脂皮膜的含有聚硅氧骨架之高分子化合物、包含该高分子化合物之感光性树脂组成物、由该组成物所得之感光性树脂皮膜、感光性干膜、使用此等之层合体及图型形成方法。　　本发明的解决手段为一种含有聚硅氧骨架之高分子化合物，其系包含下述式(a1)表示之重复单位及下述式(b1)表示之重复单位，[式中，X1为下述式(1)表示之2价基；(式中，Y1为单键或下述式(1-1)、(1-2)或(1-3)表示之2价有机基) ]。

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