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1. 发明专利

TW201722686A 用於壓印裝置的調整方法、壓印方法、及物品製造方法审中-公开
简体标题：用于压印设备的调整方法、压印方法、及物品制造方法
公开(公告)号：TW201722686A
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW105141429
申请日：2016-12-14
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：浅田邦彦 , ASADA, KUNIHIKO , 石田晋吾 , ISHIDA, SHINGO , 笹健太 , SASA, KENTA
IPC分类号： B29C59/02 , B29C33/30 , H01L21/027 , H01L21/68
CPC分类号： G05B19/418 , B05D3/06 , B05D3/12 , G03F7/0002 , G03F9/7042 , G05B2219/45031
摘要：本發明提供一種壓印裝置的調整方法、壓印方法和物品製造方法。一種用於調整壓印裝置的調整方法包括：準備步驟，準備用於對測試模具的接觸區域與供給在基板上的壓印材料接觸的狀態進行評估的樣品；評估步驟，對樣品進行評估；以及調整步驟，基於在評估步驟中獲得的評估結果來調整壓印裝置。接觸區域包括不包括圖案的平坦區域，評估步驟中的評估包括第一評估，該第一評估是對平坦區域中的壓印材料的狀態的評估，並且，在調整步驟中基於第一評估的結果來調整壓印裝置。
简体摘要：本发明提供一种压印设备的调整方法、压印方法和物品制造方法。一种用于调整压印设备的调整方法包括：准备步骤，准备用于对测试模具的接触区域与供给在基板上的压印材料接触的状态进行评估的样品；评估步骤，对样品进行评估；以及调整步骤，基于在评估步骤中获得的评估结果来调整压印设备。接触区域包括不包括图案的平坦区域，评估步骤中的评估包括第一评估，该第一评估是对平坦区域中的压印材料的状态的评估，并且，在调整步骤中基于第一评估的结果来调整压印设备。

2. 发明专利

TWI680349B 圖型形成方法、以及加工基板、光學零件及石英複製模的製造方法、以及壓印前處理塗佈材料及其與壓印抗蝕劑的套組有权
简体标题：图型形成方法、以及加工基板、光学零件及石英复制模的制造方法、以及压印前处理涂布材料及其与压印抗蚀剂的套组
公开(公告)号：TWI680349B
公开(公告)日：2019-12-21
申请号：TW107107549
申请日：2018-03-07
申请人：日商佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：千葉啓子 , CHIBA, KEIKO , 石田晋吾 , ISHIDA, SHINGO , 安藤敏明 , ANDO, TOSHIAKI , 伊藤俊樹 , ITO, TOSHIKI , 史塔維克堤墨希 , STACHOWIAK, TIMOTHY BRIAN , 劉衛軍 , LIU, WEIJUN
IPC分类号： G03F7/00 , H01L21/027

3. 发明专利

TW201512769A 形成圖案化薄膜之方法、製造光學元件之方法、製造電路板之方法及製造電子元件之方法审中-公开
简体标题：形成图案化薄膜之方法、制造光学组件之方法、制造电路板之方法及制造电子组件之方法
公开(公告)号：TW201512769A
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：TW103132793
申请日：2014-09-23
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：伊藤俊樹 , ITO, TOSHIKI , 石田晋吾 , ISHIDA, SHINGO , 川陽司 , KAWASAKI, YOUJI , 酒井啓太 , SAKAI, KEITA
IPC分类号： G03F7/00 , B82Y40/00
CPC分类号： H05K3/245 , G03F7/0002 , G03F7/027 , G03F7/038 , H01L21/0274
摘要：所提供的方法可準確且簡單偵測模具與基板的對準標記，因而提供高產量之形成圖案化薄膜的方法，並且亦提供製造光學元件的方法、製造電路板的方法以及製造電子元件的方法。藉由光奈米壓印而形成之圖案化薄膜。在此方法中，氣體滿足以下不等式(1)：在不等式(1)中，nR代表不含氣體的組成物在光之波長的折射率，nR’代表含有該氣體的該光可固化組成物在該光之波長的折射率，以及nM代表模具在該光之波長的折射率。
简体摘要：所提供的方法可准确且简单侦测模具与基板的对准标记，因而提供高产量之形成图案化薄膜的方法，并且亦提供制造光学组件的方法、制造电路板的方法以及制造电子组件的方法。借由光奈米压印而形成之图案化薄膜。在此方法中，气体满足以下不等式(1)：在不等式(1)中，nR代表不含气体的组成物在光之波长的折射率，nR’代表含有该气体的该光可固化组成物在该光之波长的折射率，以及nM代表模具在该光之波长的折射率。

4. 发明专利

TW201833661A 圖型形成方法、以及加工基板、光學零件及石英複製模的製造方法、以及壓印前處理塗佈材料及其與壓印抗蝕劑的套組审中-公开
简体标题：图型形成方法、以及加工基板、光学零件及石英复制模的制造方法、以及压印前处理涂布材料及其与压印抗蚀剂的套组
公开(公告)号：TW201833661A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW107107549
申请日：2018-03-07
申请人：日商佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：千葉啓子 , CHIBA, KEIKO , 石田晋吾 , ISHIDA, SHINGO , 安藤敏明 , ANDO, TOSHIAKI , 伊藤俊樹 , ITO, TOSHIKI , 史塔維克堤墨希 , STACHOWIAK, TIMOTHY BRIAN , 劉衛軍 , LIU, WEIJUN
IPC分类号： G03F7/00 , H01L21/027
摘要：本發明提供高處理量且可以均一精度加工注料區域的圖型形成方法。　　該圖型形成方法係光奈米壓印技術，且其特徵係依序具有下述步驟之硬化物圖型製造方法：於基板表面層合由至少包含聚合性化合物的成分(a1)之硬化性組成物(A1)所成之層的步驟(1)、於硬化性組成物(A1)層上離散地滴下至少包含聚合性化合物的成分(a2)之硬化性組成物(A2)的液滴並層合之步驟(2)、於模具與前述基板之間夾入前述硬化性組成物(A1)及前述硬化性組成物(A2)經部分混合而成之層的步驟(3)、藉由自前述模具側照射光而使前述硬化性組成物(A1)及前述硬化性組成物(A2)經部分混合而成之層一次硬化之步驟(4)、及自硬化後之硬化性組成物所成之層拉離前述模具之步驟(5)，其中位於注料區域之前述硬化性組成物(A2)之體積(Vr)除以前述硬化性組成物(A1)之體積(Vc)之值Vr/Vc為4以上15以下。
简体摘要：本发明提供高处理量且可以均一精度加工注料区域的图型形成方法。　　该图型形成方法系光奈米压印技术，且其特征系依序具有下述步骤之硬化物图型制造方法：于基板表面层合由至少包含聚合性化合物的成分(a1)之硬化性组成物(A1)所成之层的步骤(1)、于硬化性组成物(A1)层上离散地滴下至少包含聚合性化合物的成分(a2)之硬化性组成物(A2)的液滴并层合之步骤(2)、于模具与前述基板之间夹入前述硬化性组成物(A1)及前述硬化性组成物(A2)经部分混合而成之层的步骤(3)、借由自前述模具侧照射光而使前述硬化性组成物(A1)及前述硬化性组成物(A2)经部分混合而成之层一次硬化之步骤(4)、及自硬化后之硬化性组成物所成之层拉离前述模具之步骤(5)，其中位于注料区域之前述硬化性组成物(A2)之体积(Vr)除以前述硬化性组成物(A1)之体积(Vc)之值Vr/Vc为4以上15以下。

5. 发明专利

TWI624349B 用於壓印裝置的調整方法、壓印方法、及物品製造方法有权
简体标题：用于压印设备的调整方法、压印方法、及物品制造方法
公开(公告)号：TWI624349B
公开(公告)日：2018-05-21
申请号：TW105141429
申请日：2016-12-14
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：浅田邦彦 , ASADA, KUNIHIKO , 石田晋吾 , ISHIDA, SHINGO , 笹健太 , SASA, KENTA
IPC分类号： B29C59/02 , B29C33/30 , H01L21/027 , H01L21/68

6. 发明专利

TWI539232B 形成圖案化薄膜之方法、製造光學元件之方法、製造電路板之方法及製造電子元件之方法有权
简体标题：形成图案化薄膜之方法、制造光学组件之方法、制造电路板之方法及制造电子组件之方法
公开(公告)号：TWI539232B
公开(公告)日：2016-06-21
申请号：TW103132793
申请日：2014-09-23
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：伊藤俊樹 , ITO, TOSHIKI , 石田晋吾 , ISHIDA, SHINGO , 川陽司 , KAWASAKI, YOUJI , 酒井啓太 , SAKAI, KEITA
IPC分类号： G03F7/00 , B82Y40/00
CPC分类号： H05K3/245 , G03F7/0002 , G03F7/027 , G03F7/038 , H01L21/0274

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