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    • 4. 发明专利
    • 圖型形成方法、以及加工基板、光學零件及石英複製模的製造方法、以及壓印前處理塗佈材料及其與壓印抗蝕劑的套組
    • 图型形成方法、以及加工基板、光学零件及石英复制模的制造方法、以及压印前处理涂布材料及其与压印抗蚀剂的套组
    • TW201833661A
    • 2018-09-16
    • TW107107549
    • 2018-03-07
    • 日商佳能股份有限公司CANON KABUSHIKI KAISHA
    • 千葉啓子CHIBA, KEIKO石田晋吾ISHIDA, SHINGO安藤敏明ANDO, TOSHIAKI伊藤俊樹ITO, TOSHIKI史塔維克 堤墨希STACHOWIAK, TIMOTHY BRIAN劉衛軍LIU, WEIJUN
    • G03F7/00H01L21/027
    • 本發明提供高處理量且可以均一精度加工注料區域的圖型形成方法。   該圖型形成方法係光奈米壓印技術,且其特徵係依序具有下述步驟之硬化物圖型製造方法:於基板表面層合由至少包含聚合性化合物的成分(a1)之硬化性組成物(A1)所成之層的步驟(1)、於硬化性組成物(A1)層上離散地滴下至少包含聚合性化合物的成分(a2)之硬化性組成物(A2)的液滴並層合之步驟(2)、於模具與前述基板之間夾入前述硬化性組成物(A1)及前述硬化性組成物(A2)經部分混合而成之層的步驟(3)、藉由自前述模具側照射光而使前述硬化性組成物(A1)及前述硬化性組成物(A2)經部分混合而成之層一次硬化之步驟(4)、及自硬化後之硬化性組成物所成之層拉離前述模具之步驟(5),其中位於注料區域之前述硬化性組成物(A2)之體積(Vr)除以前述硬化性組成物(A1)之體積(Vc)之值Vr/Vc為4以上15以下。
    • 本发明提供高处理量且可以均一精度加工注料区域的图型形成方法。   该图型形成方法系光奈米压印技术,且其特征系依序具有下述步骤之硬化物图型制造方法:于基板表面层合由至少包含聚合性化合物的成分(a1)之硬化性组成物(A1)所成之层的步骤(1)、于硬化性组成物(A1)层上离散地滴下至少包含聚合性化合物的成分(a2)之硬化性组成物(A2)的液滴并层合之步骤(2)、于模具与前述基板之间夹入前述硬化性组成物(A1)及前述硬化性组成物(A2)经部分混合而成之层的步骤(3)、借由自前述模具侧照射光而使前述硬化性组成物(A1)及前述硬化性组成物(A2)经部分混合而成之层一次硬化之步骤(4)、及自硬化后之硬化性组成物所成之层拉离前述模具之步骤(5),其中位于注料区域之前述硬化性组成物(A2)之体积(Vr)除以前述硬化性组成物(A1)之体积(Vc)之值Vr/Vc为4以上15以下。