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1. 发明专利

TWI475333B 照明光學系統、曝光設備、和製造裝置的方法有权
简体标题：照明光学系统、曝光设备、和制造设备的方法
公开(公告)号：TWI475333B
公开(公告)日：2015-03-01
申请号：TW101105097
申请日：2012-02-16
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：大阪昇 , OSAKA, NOBORU
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7005 , G03F7/70075 , G03F7/70208

2. 发明专利

TW201821857A 反射折射光學系統、照明光學系統、曝光裝置及物品製造方法审中-公开
简体标题：反射折射光学系统、照明光学系统、曝光设备及物品制造方法
公开(公告)号：TW201821857A
公开(公告)日：2018-06-16
申请号：TW106140227
申请日：2017-11-21
申请人：日商佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：大阪昇 , OSAKA, NOBORU
IPC分类号： G02B17/08 , G02B13/18 , G03F7/20
摘要：本發明涉及反射折射光學系統、照明光學系統、曝光裝置。在物面以及像面為遠心的反射折射光學系統包括：第1反射面、第2反射面、第3反射面以及第4反射面；以及具有正的折射力的折射面，該折射面配置於前述物面與前述第1反射面之間，從前述物面出來的光依序經由前述折射面、前述第1反射面、前述折射面、前述第2反射面、前述折射面、前述第3反射面、前述第4反射面到達前述像面。
简体摘要：本发明涉及反射折射光学系统、照明光学系统、曝光设备。在物面以及像面为远心的反射折射光学系统包括：第1反射面、第2反射面、第3反射面以及第4反射面；以及具有正的折射力的折射面，该折射面配置于前述物面与前述第1反射面之间，从前述物面出来的光依序经由前述折射面、前述第1反射面、前述折射面、前述第2反射面、前述折射面、前述第3反射面、前述第4反射面到达前述像面。

3. 发明专利

TWI588868B 冷卻裝置、照明光學系統、曝光裝置及製造物品之方法有权
简体标题：冷却设备、照明光学系统、曝光设备及制造物品之方法
公开(公告)号：TWI588868B
公开(公告)日：2017-06-21
申请号：TW104137334
申请日：2015-11-12
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：昼間健太郎 , HIRUMA, KENTARO , 古澤磨奈人 , FURUSAWA, MANATO , 大阪昇 , OSAKA, NOBORU
IPC分类号： H01J7/24 , H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： H01J61/526 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/70016 , G03F7/70891 , H01J61/86

4. 发明专利

TWI569104B 照明光學系、曝光裝置、元件之製造方法及光學元件有权
简体标题：照明光学系、曝光设备、组件之制造方法及光学组件
公开(公告)号：TWI569104B
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW103103205
申请日：2014-01-28
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：大阪昇 , OSAKA, NOBORU , 福岡亮介 , FUKUOKA, RYOUSUKE , 吉岡均 , YOSHIOKA, HITOSHI
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027

5. 发明专利

TW202030558A 照明光學系統、曝光裝置以及物品製造方法审中-公开
简体标题：照明光学系统、曝光设备以及物品制造方法
公开(公告)号：TW202030558A
公开(公告)日：2020-08-16
申请号：TW109100020
申请日：2020-01-02
申请人：日商佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：大阪昇 , OSAKA, NOBORU
IPC分类号： G03F7/20 , G02B3/00 , G02B5/00
摘要：本發明公開照明光學系統、曝光裝置以及物品製造方法。照明光學系統使用從光源射出的非相干光對被照明面進行照明。前述照明光學系統包括：積分器，配置於前述光源與前述被照明面之間；光學系統，配置於前述積分器與前述被照明面之間；以及光學元件，配置於前述積分器與前述光學系統之間，前述光學元件包括楔形狀部。
简体摘要：本发明公开照明光学系统、曝光设备以及物品制造方法。照明光学系统使用从光源射出的非相干光对被照明面进行照明。前述照明光学系统包括：积分器，配置于前述光源与前述被照明面之间；光学系统，配置于前述积分器与前述被照明面之间；以及光学组件，配置于前述积分器与前述光学系统之间，前述光学组件包括楔形状部。

6. 发明专利

TWI668522B 照明光學系統、曝光裝置及物品製造方法有权
简体标题：照明光学系统、曝光设备及物品制造方法
公开(公告)号：TWI668522B
公开(公告)日：2019-08-11
申请号：TW106129103
申请日：2017-08-28
申请人：日商佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：大阪昇 , OSAKA, NOBORU
IPC分类号： G03F7/20 , H05B37/02

7. 发明专利

TW201921024A 反射折射光學系統、照明光學系統、曝光裝置及物品製造方法审中-公开
简体标题：反射折射光学系统、照明光学系统、曝光设备及物品制造方法
公开(公告)号：TW201921024A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW108102550
申请日：2017-11-21
申请人：日商佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：大阪昇 , OSAKA, NOBORU
IPC分类号： G02B17/08 , G02B13/18 , G03F7/20
摘要：本發明涉及反射折射光學系統、照明光學系統、曝光裝置。在物面以及像面為遠心的反射折射光學系統包括：第1反射面、第2反射面、第3反射面以及第4反射面；以及具有正的折射力的折射面，該折射面配置於前述物面與前述第1反射面之間，從前述物面出來的光依序經由前述折射面、前述第1反射面、前述折射面、前述第2反射面、前述折射面、前述第3反射面、前述第4反射面到達前述像面。
简体摘要：本发明涉及反射折射光学系统、照明光学系统、曝光设备。在物面以及像面为远心的反射折射光学系统包括：第1反射面、第2反射面、第3反射面以及第4反射面；以及具有正的折射力的折射面，该折射面配置于前述物面与前述第1反射面之间，从前述物面出来的光依序经由前述折射面、前述第1反射面、前述折射面、前述第2反射面、前述折射面、前述第3反射面、前述第4反射面到达前述像面。

8. 发明专利

TWI587097B 照明裝置、曝光設備、調整方法及製造物品的方法有权
简体标题：照明设备、曝光设备、调整方法及制造物品的方法
公开(公告)号：TWI587097B
公开(公告)日：2017-06-11
申请号：TW104118491
申请日：2015-06-08
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：米山義邦 , YONEYAMA, YOSHIKUNI , 昼間健太郎 , HIRUMA, KENTAROU , 大阪昇 , OSAKA, NOBORU
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70141 , G02B19/0028 , G02B19/0047 , G03F7/7005 , G03F7/70091 , G03F7/70133

9. 发明专利

TW202004358A 基板保持裝置、曝光裝置及物品製造方法审中-公开
简体标题：基板保持设备、曝光设备及物品制造方法
公开(公告)号：TW202004358A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108116144
申请日：2019-05-10
申请人：日商佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：坂田峻也 , SAKATA, SHUNYA , 高橋彰宏 , TAKAHASHI, AKIHIRO , 大阪昇 , OSAKA, NOBORU
IPC分类号： G03F7/20 , G02B17/08 , G02B13/18
摘要：提供一種基板保持裝置以及包括此基板保持裝置的曝光裝置，基板保持裝置包括設置有間隙的基座、以及設置在間隙中且被配置為向基板側反射已經透過基板的光的反射構件。
简体摘要：提供一种基板保持设备以及包括此基板保持设备的曝光设备，基板保持设备包括设置有间隙的基座、以及设置在间隙中且被配置为向基板侧反射已经透过基板的光的反射构件。

10. 发明专利

TW201910925A 照明光學系統、曝光裝置及物品製造方法审中-公开
简体标题：照明光学系统、曝光设备及物品制造方法
公开(公告)号：TW201910925A
公开(公告)日：2019-03-16
申请号：TW107118894
申请日：2018-06-01
申请人：日商佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：大阪昇 , OSAKA, NOBORU
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/10 , H01L21/027
摘要：本發明涉及照明光學系統、曝光裝置以及物品製造方法。照明光學系統具有：對來自光源的光束進行整形的第1光學系統、第2光學系統；光學積分器；以及光學系統，將來自第1光學系統的光束和來自第2光學系統的光束引導到光學積分器的入射面，第1光學系統具有變更由第1光學系統在光學積分器的入射面形成的第1光強度分佈的光學構材，第2光學系統具有變更由第2光學系統在光學積分器的入射面形成的第2光強度分佈的光學構材，利用第1光學系統以及第2光學系統使第1光強度分佈和第2光強度分佈相互不同而形成光學積分器的入射面處的光強度分佈。
简体摘要：本发明涉及照明光学系统、曝光设备以及物品制造方法。照明光学系统具有：对来自光源的光束进行整形的第1光学系统、第2光学系统；光学积分器；以及光学系统，将来自第1光学系统的光束和来自第2光学系统的光束引导到光学积分器的入射面，第1光学系统具有变更由第1光学系统在光学积分器的入射面形成的第1光强度分布的光学构材，第2光学系统具有变更由第2光学系统在光学积分器的入射面形成的第2光强度分布的光学构材，利用第1光学系统以及第2光学系统使第1光强度分布和第2光强度分布相互不同而形成光学积分器的入射面处的光强度分布。

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