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1. 发明专利

TW201030486A 控制裝置 CONTROL DEVICE 审中-公开
简体标题：控制设备 CONTROL DEVICE
公开(公告)号：TW201030486A
公开(公告)日：2010-08-16
申请号：TW099102460
申请日：2010-01-28
申请人：佳能股份有限公司
发明人：高木清志
IPC分类号： G05D , H01L
CPC分类号： G05B19/042
摘要：一控制裝置，包括一疊代學習控制電路，該疊代學習控制電路包括將一同步誤差輸入至彼等的第一及第二學習濾波器，並組態為基於該第一學習濾波器之一輸出將一控制輸入前授至一第一控制目標及基於該第二學習濾波器之一輸出將一控制輸入前授至一第二控制目標。該第一及第二學習濾波器各者包括該第一及第二控制目標的轉移函數及該第一及第二控制電路之控制器的轉移函數。
简体摘要：一控制设备，包括一叠代学习控制电路，该叠代学习控制电路包括将一同步误差输入至彼等的第一及第二学习滤波器，并组态为基于该第一学习滤波器之一输出将一控制输入前授至一第一控制目标及基于该第二学习滤波器之一输出将一控制输入前授至一第二控制目标。该第一及第二学习滤波器各者包括该第一及第二控制目标的转移函数及该第一及第二控制电路之控制器的转移函数。

2. 发明专利

TWI425333B 用於半導體設備之控制裝置有权
简体标题：用于半导体设备之控制设备
公开(公告)号：TWI425333B
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW099102460
申请日：2010-01-28
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：高木清志 , TAKAGI, KIYOSHI
IPC分类号： G05D3/12 , H01L21/027
CPC分类号： G05B19/042

3. 发明专利

TWI418947B 包含反覆學習電路的位置控制設備，曝光設備，製造裝置的方法，及用於具有包含學習過濾器之反覆學習電路的位置控制設備中的反覆學習方法有权
简体标题：包含反复学习电路的位置控制设备，曝光设备，制造设备的方法，及用于具有包含学习过滤器之反复学习电路的位置控制设备中的反复学习方法
公开(公告)号：TWI418947B
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：TW098106449
申请日：2009-02-27
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：高木清志 , TAKAGI, KIYOSHI
IPC分类号： G03F7/20 , G05B13/02 , G05D3/12 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70725 , G05B13/0265 , G05B19/19 , G05B2219/41439 , G05B2219/42012

4. 发明专利

TW201001086A 包含反覆學習電路的位置控制設備，曝光設備，製造裝置的方法，及用於具有包含學習過濾器之反覆學習電路的位置控制設備中的反覆學習方法 POSITION CONTROL APPARATUS INCLUDING ITERATIVE LEARNING CIRCUIT, EXPOSURE APPARATUS, METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE, AND ITERATIVE LEARNING METHOD FOR USE IN POSITION CONTROL APPARATUS HAVING ITERATIVE LEARNING CIRCUIT INCLUDING LEARNING FILTER 审中-公开
简体标题：包含反复学习电路的位置控制设备，曝光设备，制造设备的方法，及用于具有包含学习过滤器之反复学习电路的位置控制设备中的反复学习方法 POSITION CONTROL APPARATUS INCLUDING ITERATIVE LEARNING CIRCUIT, EXPOSURE APPARATUS, METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE, AND ITERATIVE LEARNING METHOD FOR USE IN POSITION CONTROL APPARATUS HAVING ITERATIVE LEARNING CIRCUIT INCLUDING LEARNING FILTER
公开(公告)号：TW201001086A
公开(公告)日：2010-01-01
申请号：TW098106449
申请日：2009-02-27
申请人：佳能股份有限公司
发明人：高木清志
IPC分类号： G03F , G05B
CPC分类号： G03F7/70725 , G05B13/0265 , G05B19/19 , G05B2219/41439 , G05B2219/42012
摘要：一位置控制設備包含一偵測單元，其被組構成偵測一控制目標之位置；一減去單元，其被組構成由一目標值減去該偵測單元之輸出；一反覆學習控制電路，其包含一過濾器，該偵測單元之輸出及該目標值間之偏差被輸入該過濾器，在此該反覆學習控制電路前饋一控制輸入至該控制目標；及一參數計算單元，其被組構成計算該控制目標的參數中之變化。該過濾器之特徵係按照該控制目標的參數中之變化而改變(計算)。
简体摘要：一位置控制设备包含一侦测单元，其被组构成侦测一控制目标之位置；一减去单元，其被组构成由一目标值减去该侦测单元之输出；一反复学习控制电路，其包含一过滤器，该侦测单元之输出及该目标值间之偏差被输入该过滤器，在此该反复学习控制电路前馈一控制输入至该控制目标；及一参数计算单元，其被组构成计算该控制目标的参数中之变化。该过滤器之特征系按照该控制目标的参数中之变化而改变(计算)。

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