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1. 发明专利

TW201305372A 蒸鍍裝置及蒸鍍方法审中-公开
简体标题：蒸镀设备及蒸镀方法
公开(公告)号：TW201305372A
公开(公告)日：2013-02-01
申请号：TW101108853
申请日：2012-03-15
申请人：佳能特機股份有限公司 , CANON TOKKI CORPORATION
发明人：鳴海廣治 , NARUMI, HIROJI , 田村博之 , TAMURA, HIROYUKI , 市原正浩 , ICHIHARA, MASAHIRO , 松本榮一 , MATSUMOTO, EIICHI , 田島三之 , TAJIMA, MIYUKI , 永田博彰 , NAGATA, HIROAKI , 吉岡正樹 , YOSHIOKA, MASAKI
IPC分类号： C23C14/56
CPC分类号： C23C14/042 , C23C14/12 , H01L51/001 , H01L51/5012
摘要：提供一種蒸鍍裝置及蒸鍍方法，其係使基板在分離狀態下作相對移動，藉此即使為小型的蒸鍍遮罩，亦可大範圍地將成膜圖案的蒸鍍膜進行蒸鍍，而且防止成膜圖案重疊，並且抑制來自蒸發源的輻射熱的入射，在作為使基板與蒸鍍遮罩在分離狀態下作相對移動的構成的同時，可進行高精度且高效率的蒸鍍。該蒸鍍裝置係在蒸發源(1)與基板(4)之間配設具有設有限制用開口部(5)的飛散限制部的遮罩保持具(6)，在該遮罩保持具(6)附設蒸鍍遮罩(2)，相對於附設有蒸鍍遮罩(2)的遮罩保持具(6)及前述蒸發源(1)，在保持與蒸鍍遮罩(2)的分離狀態下以相對移動自如的方式構成前述基板(4)，蒸鍍遮罩(2)的遮罩開口部(3)係形成為朝前述基板(1)的相對移動方向為長形且與此呈正交的橫向為寬幅狹窄的開縫狀，以該橫向並排設置複數個。
简体摘要：提供一种蒸镀设备及蒸镀方法，其系使基板在分离状态下作相对移动，借此即使为小型的蒸镀遮罩，亦可大范围地将成膜图案的蒸镀膜进行蒸镀，而且防止成膜图案重叠，并且抑制来自蒸发源的辐射热的入射，在作为使基板与蒸镀遮罩在分离状态下作相对移动的构成的同时，可进行高精度且高效率的蒸镀。该蒸镀设备系在蒸发源(1)与基板(4)之间配设具有设有限制用开口部(5)的飞散限制部的遮罩保持具(6)，在该遮罩保持具(6)附设蒸镀遮罩(2)，相对于附设有蒸镀遮罩(2)的遮罩保持具(6)及前述蒸发源(1)，在保持与蒸镀遮罩(2)的分离状态下以相对移动自如的方式构成前述基板(4)，蒸镀遮罩(2)的遮罩开口部(3)系形成为朝前述基板(1)的相对移动方向为长形且与此呈正交的横向为宽幅狭窄的开缝状，以该横向并排设置复数个。

2. 发明专利

TW201608207A 水晶振盪式膜厚計审中-公开
简体标题：水晶振荡式膜厚计
公开(公告)号：TW201608207A
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：TW104111253
申请日：2015-04-08
申请人：佳能特機股份有限公司 , CANON TOKKI CORPORATION
发明人：田島三之 , TAJIMA, MIYUKI , 田村博之 , TAMURA, HIROYUKI
IPC分类号： G01B17/02 , C23C14/24 , C23C14/52
摘要：提供藉於水晶振動子(4)的蒸鍍面側的電極膜(5)上預先形成之基底膜的設定，抑制水晶振動子的等效串聯電阻之上升，謀求長壽命化的優異之水晶振盪式膜厚計。一種水晶振盪式膜厚計，係在真空槽(1)內使從蒸發源(2)予以蒸發之蒸鍍材料堆積於基板(3)表面而形成薄膜的真空蒸鍍裝置(D)下之膜厚控制用的水晶振盪式膜厚計(M)，構成為將與前述蒸鍍材料不同之由包含至少一個以上的碳原子之有機物所構成的有機材料，在水晶振動子(4)之蒸鍍面側的電極膜(5)上藉預先蒸鍍作被覆而形成有機材料基底膜(6)，在此有機材料基底膜(6)上予以蒸鍍前述蒸鍍材料而就此蒸鍍材料的膜厚或蒸鍍速度作計測。
简体摘要：提供藉于水晶振动子(4)的蒸镀面侧的电极膜(5)上预先形成之基底膜的设置，抑制水晶振动子的等效串联电阻之上升，谋求长寿命化的优异之水晶振荡式膜厚计。一种水晶振荡式膜厚计，系在真空槽(1)内使从蒸发源(2)予以蒸发之蒸镀材料堆积于基板(3)表面而形成薄膜的真空蒸镀设备(D)下之膜厚控制用的水晶振荡式膜厚计(M)，构成为将与前述蒸镀材料不同之由包含至少一个以上的碳原子之有机物所构成的有机材料，在水晶振动子(4)之蒸镀面侧的电极膜(5)上藉预先蒸镀作被覆而形成有机材料基底膜(6)，在此有机材料基底膜(6)上予以蒸镀前述蒸镀材料而就此蒸镀材料的膜厚或蒸镀速度作计测。

3. 发明专利

TW201346051A 蒸鍍裝置及使用蒸鍍裝置之成膜方法审中-公开
简体标题：蒸镀设备及使用蒸镀设备之成膜方法
公开(公告)号：TW201346051A
公开(公告)日：2013-11-16
申请号：TW102104883
申请日：2013-02-07
申请人：佳能特機股份有限公司 , CANON TOKKI CORPORATION
发明人：鳴海廣治 , NARUMI, HIROJI , 市原正浩 , ICHIHARA, MASAHIRO , 田村博之 , TAMURA, HIROYUKI , 松本栄一 , MATSUMOTO, EIICHI , 永田博彰 , NAGATA, HIROAKI , 田島三之 , TAJIMA, MIYUKI , 吉岡正樹 , YOSHIOKA, MASAKI
IPC分类号： C23C14/24 , C23C14/56 , H01L51/56
CPC分类号： C23C14/04 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/24
摘要：提供一種蒸鍍裝置以及使用該蒸鍍裝置之成膜方法，藉由將基板(2)、與蒸鍍遮罩(3)及蒸發源(1)於分開之狀態下進行相對移動，雖是小型的蒸鍍遮罩(3)卻能蒸鍍在大型的基板，且蒸鍍遮罩(3)為小型者較佳，因而，能夠實現高度精細的遮罩開口部(4)，也不容易產生歪斜問題，而且，藉由成膜部周圍的非成膜部也是做成利用別的用途設置的保護遮罩(5)所覆蓋之構成，可確實地防止蒸鍍到非成膜部，且能夠實現品質優良、高良品率的蒸鍍之優良的蒸鍍裝置以及使用該蒸鍍裝置之成膜方法。一種做成具備於基板(2)與蒸鍍遮罩分開之狀態下，使基板(2)、與蒸發源(1)及蒸鍍遮罩(3)相對移動之移動裝置之構成，以蒸鍍膜不會附著在成膜部周圍的非成膜部(29)之方式將覆蓋該非成膜部(29)之保護遮罩(5)設在基板(2)與蒸鍍遮罩(3)之間之蒸鍍裝置。
简体摘要：提供一种蒸镀设备以及使用该蒸镀设备之成膜方法，借由将基板(2)、与蒸镀遮罩(3)及蒸发源(1)于分开之状态下进行相对移动，虽是小型的蒸镀遮罩(3)却能蒸镀在大型的基板，且蒸镀遮罩(3)为小型者较佳，因而，能够实现高度精细的遮罩开口部(4)，也不容易产生歪斜问题，而且，借由成膜部周围的非成膜部也是做成利用别的用途设置的保护遮罩(5)所覆盖之构成，可确实地防止蒸镀到非成膜部，且能够实现品质优良、高良品率的蒸镀之优良的蒸镀设备以及使用该蒸镀设备之成膜方法。一种做成具备于基板(2)与蒸镀遮罩分开之状态下，使基板(2)、与蒸发源(1)及蒸镀遮罩(3)相对移动之移动设备之构成，以蒸镀膜不会附着在成膜部周围的非成膜部(29)之方式将覆盖该非成膜部(29)之保护遮罩(5)设在基板(2)与蒸镀遮罩(3)之间之蒸镀设备。

4. 发明专利

TW201305355A 蒸鍍裝置及蒸鍍方法审中-公开
简体标题：蒸镀设备及蒸镀方法
公开(公告)号：TW201305355A
公开(公告)日：2013-02-01
申请号：TW101108852
申请日：2012-03-15
申请人：佳能特機股份有限公司 , CANON TOKKI CORPORATION
发明人：鳴海廣治 , NARUMI, HIROJI , 田村博之 , TAMURA, HIROYUKI , 松本榮一 , MATSUMOTO, EIICHI , 市原正浩 , ICHIHARA, MASAHIRO , 永田博彰 , NAGATA, HIROAKI , 田島三之 , TAJIMA, MIYUKI , 吉岡正樹 , YOSHIOKA, MASAKI
IPC分类号： C23C14/04 , C23C14/24 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC分类号： C23C14/12 , C23C14/042 , C23C14/24
摘要：提供可高精度蒸鍍、亦可長時間連續運轉的蒸鍍裝置及蒸鍍方法。該蒸鍍裝置係構成為：在成膜室(30)中，將由蒸發源(1)所蒸發的成膜材料透過蒸鍍遮罩(2)的遮罩開口部而堆積在基板(4)上，藉由該蒸鍍遮罩(2)所決定的成膜圖案的蒸鍍膜被形成在基板(4)上的蒸鍍裝置，其特徵為：具有設有用以限制由前述蒸發源(1)所蒸發的蒸發粒子的飛散方向的限制用開口部(5)的飛散限制部，具備附設有前述蒸鍍遮罩(2)的遮罩保持具(6)，且具備有交換室(31)，該交換室(31)具有：附設有該蒸鍍遮罩(2)的前述遮罩保持具(6)可與前述成膜室(30)往來的負載鎖定室(32)；前述遮罩保持具(6)可與前述負載鎖定室(32)往來的待機室(33)；及可將前述遮罩保持具(6)取出至裝置外部的取出室(34)。
简体摘要：提供可高精度蒸镀、亦可长时间连续运转的蒸镀设备及蒸镀方法。该蒸镀设备系构成为：在成膜室(30)中，将由蒸发源(1)所蒸发的成膜材料透过蒸镀遮罩(2)的遮罩开口部而堆积在基板(4)上，借由该蒸镀遮罩(2)所决定的成膜图案的蒸镀膜被形成在基板(4)上的蒸镀设备，其特征为：具有设有用以限制由前述蒸发源(1)所蒸发的蒸发粒子的飞散方向的限制用开口部(5)的飞散限制部，具备附设有前述蒸镀遮罩(2)的遮罩保持具(6)，且具备有交换室(31)，该交换室(31)具有：附设有该蒸镀遮罩(2)的前述遮罩保持具(6)可与前述成膜室(30)往来的负载锁定室(32)；前述遮罩保持具(6)可与前述负载锁定室(32)往来的待机室(33)；及可将前述遮罩保持具(6)取出至设备外部的取出室(34)。

5. 发明专利

TW201250026A 蒸鍍裝置及蒸鍍方法审中-公开
简体标题：蒸镀设备及蒸镀方法
公开(公告)号：TW201250026A
公开(公告)日：2012-12-16
申请号：TW101108129
申请日：2012-03-09
申请人：佳能特機股份有限公司
发明人：鳴海廣治 , 田村博之 , 松本榮一 , 市原正浩 , 永田博彰 , 田島三之 , 吉岡正樹
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C23C14/12 , C23C14/042 , C23C14/24 , H05B33/10
摘要：提供一種伴隨著基板的大型化，無須使蒸鍍遮罩同等地大型化，即使為比基板更為小型的蒸鍍遮罩，亦使基板在分離狀態下作相對移動，而可大範圍地將藉由蒸鍍遮罩所致之成膜圖案的蒸鍍膜進行蒸鍍，而且防止成膜圖案重疊，並且抑制來自蒸發源的輻射熱的入射，可高精度且有效率地進行蒸鍍的蒸鍍裝置及蒸鍍方法。該蒸鍍裝置係在蒸發源(1)與基板(4)之間配設具有設有限制用開口部(5)的飛散限制部的遮罩保持具(6)，在該遮罩保持具(6)附設前述蒸鍍遮罩(2)，相對附設有前述蒸鍍遮罩(2)的前述遮罩保持具(6)及前述蒸發源(1)，在保持與前述蒸鍍遮罩(2)的分離狀態下以相對移動自如的方式構成前述基板(4)，前述蒸發源(1)係以線膨脹係數小於不銹鋼的材料所形成。
简体摘要：提供一种伴随着基板的大型化，无须使蒸镀遮罩同等地大型化，即使为比基板更为小型的蒸镀遮罩，亦使基板在分离状态下作相对移动，而可大范围地将借由蒸镀遮罩所致之成膜图案的蒸镀膜进行蒸镀，而且防止成膜图案重叠，并且抑制来自蒸发源的辐射热的入射，可高精度且有效率地进行蒸镀的蒸镀设备及蒸镀方法。该蒸镀设备系在蒸发源(1)与基板(4)之间配设具有设有限制用开口部(5)的飞散限制部的遮罩保持具(6)，在该遮罩保持具(6)附设前述蒸镀遮罩(2)，相对附设有前述蒸镀遮罩(2)的前述遮罩保持具(6)及前述蒸发源(1)，在保持与前述蒸镀遮罩(2)的分离状态下以相对移动自如的方式构成前述基板(4)，前述蒸发源(1)系以线膨胀系数小于不锈钢的材料所形成。

6. 发明专利

TW201250025A 蒸鍍裝置以及蒸鍍方法审中-公开
简体标题：蒸镀设备以及蒸镀方法
公开(公告)号：TW201250025A
公开(公告)日：2012-12-16
申请号：TW101107918
申请日：2012-03-08
申请人：佳能特機股份有限公司
发明人：鳴海廣治 , 田村博之 , 市原正浩 , 松本榮一 , 田島三之 , 永田博彰 , 吉岡正樹
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C23C14/044 , C23C14/042 , C23C14/243
摘要：提供一種蒸鍍裝置及蒸鍍方法，其係伴隨著基板的大型化，無須使蒸鍍遮罩同等地大型化，即使為比基板更為小型的蒸鍍遮罩，亦使基板在分離狀態下作相對移動，而可大範圍地將藉由蒸鍍遮罩所致之成膜圖案的蒸鍍膜進行蒸鍍，而且防止成膜圖案重疊，並且抑制來自蒸發源的輻射熱的入射，可高精度且高效率地進行蒸鍍。該蒸鍍裝置之特徵為：在蒸發源(1)與基板(4)之間，配設具有設有限制用開口部(5)的飛散限制部的遮罩保持具(6)，使前述蒸鍍遮罩(2)接合而附設在該遮罩保持具(6)，相對於附設有前述蒸鍍遮罩(2)的前述遮罩保持具(6)及前述蒸發源(1)，在保持與前述蒸鍍遮罩(2)的分離狀態下以相對移動自如的方式構成前述基板(4)，前述蒸發源(1)的蒸發口部(8)係形成為朝前述基板(4)的相對移動方向為長形且與此呈正交的橫向為寬幅狹窄的開縫狀。
简体摘要：提供一种蒸镀设备及蒸镀方法，其系伴随着基板的大型化，无须使蒸镀遮罩同等地大型化，即使为比基板更为小型的蒸镀遮罩，亦使基板在分离状态下作相对移动，而可大范围地将借由蒸镀遮罩所致之成膜图案的蒸镀膜进行蒸镀，而且防止成膜图案重叠，并且抑制来自蒸发源的辐射热的入射，可高精度且高效率地进行蒸镀。该蒸镀设备之特征为：在蒸发源(1)与基板(4)之间，配设具有设有限制用开口部(5)的飞散限制部的遮罩保持具(6)，使前述蒸镀遮罩(2)接合而附设在该遮罩保持具(6)，相对于附设有前述蒸镀遮罩(2)的前述遮罩保持具(6)及前述蒸发源(1)，在保持与前述蒸镀遮罩(2)的分离状态下以相对移动自如的方式构成前述基板(4)，前述蒸发源(1)的蒸发口部(8)系形成为朝前述基板(4)的相对移动方向为长形且与此呈正交的横向为宽幅狭窄的开缝状。

7. 发明专利

TW201247912A 蒸鍍裝置以及蒸鍍方法审中-公开
简体标题：蒸镀设备以及蒸镀方法
公开(公告)号：TW201247912A
公开(公告)日：2012-12-01
申请号：TW101104375
申请日：2012-02-10
申请人：佳能特機股份有限公司
发明人：鳴海廣治 , 市原正浩 , 田村博之 , 松本榮一 , 田島三之 , 永田博彰 , 吉岡正樹
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C23C14/12 , C23C14/042 , C23C14/24 , H01L51/0011
摘要：本發明是提供一種即使是小形的蒸鍍遮罩(2)也能使大型的基板(4)以離間狀態相對移動，在寬廣範圍蒸鍍利用蒸鍍遮罩之成膜圖案的蒸鍍膜，充分抑制蒸鍍遮罩的溫度上昇，使蒸鍍遮罩(2)保持在一定的溫度，因此可防止因蒸鍍遮罩之熱的應變，施行高精度蒸鍍之劃時代的蒸鍍裝置。離間狀態配設基板(4)與蒸鍍遮罩(2)，在該基板(4)與蒸發源(1)之間，配設構成設置限制用開口部(5)之飛散限制部的遮罩架(mask holder)(6)，使前記蒸鍍遮罩(2)接合並附設在該遮罩架(6)，在該遮罩架(6)設置保持蒸鍍遮罩(2)之溫度的溫度控制機構(9)，將基板(4)對著該蒸鍍遮罩(2)進行相對移動，藉此就能在比蒸鍍遮罩(2)更寬廣的範圍，形成精度高的成膜圖案之蒸鍍膜的蒸鍍裝置。
简体摘要：本发明是提供一种即使是小形的蒸镀遮罩(2)也能使大型的基板(4)以离间状态相对移动，在宽广范围蒸镀利用蒸镀遮罩之成膜图案的蒸镀膜，充分抑制蒸镀遮罩的温度上升，使蒸镀遮罩(2)保持在一定的温度，因此可防止因蒸镀遮罩之热的应变，施行高精度蒸镀之划时代的蒸镀设备。离间状态配设基板(4)与蒸镀遮罩(2)，在该基板(4)与蒸发源(1)之间，配设构成设置限制用开口部(5)之飞散限制部的遮罩架(mask holder)(6)，使前记蒸镀遮罩(2)接合并附设在该遮罩架(6)，在该遮罩架(6)设置保持蒸镀遮罩(2)之温度的温度控制机构(9)，将基板(4)对着该蒸镀遮罩(2)进行相对移动，借此就能在比蒸镀遮罩(2)更宽广的范围，形成精度高的成膜图案之蒸镀膜的蒸镀设备。

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