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1. 发明专利

TW502135B 正型光敏性樹脂組成物及使用彼以製備聚苯並噁唑樹脂薄膜之方法失效
简体标题：正型光敏性树脂组成物及使用彼以制备聚苯并恶唑树脂薄膜之方法
公开(公告)号：TW502135B
公开(公告)日：2002-09-11
申请号：TW086105647
申请日：1997-04-29
申请人：住友電木股份有限公司
发明人：平野孝 , 番場敏夫 , 真壁裕明 , 竹田直滋 , 竹田敏郎
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/0226 , G03F7/0755 , G03F7/0757 , Y10S430/107
摘要：一種正型光敏性樹脂組成物，其包含：(A)100重量份下式(1)聚醯胺：其中X示四價芳族基；Y示二價芳族基；Z示下式所示二價基團：其中R1及R2示二價有機基以及R3及R4示單價有機基； a及b示莫耳分率；a+b=100莫耳%；a=60.0-100.0莫耳%；b=O-40.O莫耳%；及n示2至500之整數，(B)1至100重量份之光敏性重氮化合物，以及(C)1至50重量份之特定結構之苯酚化合物，及/或(D)0.1至20重量份之特定結構之有機矽化合物；以及一種藉著使用上述光敏性樹脂組成物，以製備聚苯並噁唑樹脂薄膜的方法。
简体摘要：一种正型光敏性树脂组成物，其包含：(A)100重量份下式(1)聚酰胺：其中X示四价芳族基；Y示二价芳族基；Z示下式所示二价基团：其中R1及R2示二价有机基以及R3及R4示单价有机基； a及b示莫耳分率；a+b=100莫耳%；a=60.0-100.0莫耳%；b=O-40.O莫耳%；及n示2至500之整数，(B)1至100重量份之光敏性重氮化合物，以及(C)1至50重量份之特定结构之苯酚化合物，及/或(D)0.1至20重量份之特定结构之有机硅化合物；以及一种借着使用上述光敏性树脂组成物，以制备聚苯并恶唑树脂薄膜的方法。

2. 发明专利

TW200947124A 正型感光性樹脂組成物，硬化膜，保護膜，絕緣膜及使用其等之半導體裝置，顯示體裝置 POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, PROTECTION FILM AND INSULATION FILM, AND SEMICONDUCTOR DEVICE AND DISPLAY DEVICE THEREWITH 审中-公开
简体标题：正型感光性树脂组成物，硬化膜，保护膜，绝缘膜及使用其等之半导体设备，显示体设备 POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, PROTECTION FILM AND INSULATION FILM, AND SEMICONDUCTOR DEVICE AND DISPLAY DEVICE THEREWITH
公开(公告)号：TW200947124A
公开(公告)日：2009-11-16
申请号：TW098100600
申请日：2009-01-09
申请人：住友電木股份有限公司
发明人：水島彩子 , 真壁裕明 , 竹田直滋
IPC分类号： G03F , C08G
CPC分类号： G03F7/0233 , C08G69/42 , G03F7/022 , G03F7/0757
摘要：本發明之目的在於，於正型感光性樹脂組成物圖案化步驟中，兼顧正型感光性樹脂組成物開口部之浮渣（scum）產生的抑制與感度。該目的係可藉由一種正型感光性樹脂組成物而實現，該正型感光性樹脂組成物係含有分子量80000以上之高分子成分含有量在0.5％以下之鹼可溶性樹脂（A）與感光劑（B），其特徵為，感光劑（B）相對於鹼可溶性樹脂（A）100重量份之含有量為10重量份以上且40重量份以下。
简体摘要：本发明之目的在于，于正型感光性树脂组成物图案化步骤中，兼顾正型感光性树脂组成物开口部之浮渣（scum）产生的抑制与感度。该目的系可借由一种正型感光性树脂组成物而实现，该正型感光性树脂组成物系含有分子量80000以上之高分子成分含有量在0.5％以下之碱可溶性树脂（A）与感光剂（B），其特征为，感光剂（B）相对于碱可溶性树脂（A）100重量份之含有量为10重量份以上且40重量份以下。

3. 发明专利

TW189882B 正光敏性樹脂組成物失效
简体标题：正光敏性树脂组成物
公开(公告)号：TW189882B
公开(公告)日：1992-09-01
申请号：TW080103862
申请日：1991-05-18
申请人：住友電木股份有限公司
发明人：竹內江津 , 竹田直滋 , 竹田敏郎 , 都甲明 , 番場敏夫
IPC分类号： G03F , C07C
摘要：本發明提供一種正光敏性樹脂組成物，其含有作為基礎樹脂之聚苯並二唑（polybenzoxazole）箭驅體，一有機溶劑可溶性聚合物或其前驅體（例如polyamic acid）作為賦予改進之接著性，撓屈性或耐熱性之成分，及一種氮（diazoquinone）化合物及／或一二氫啶（dihydropy- ridine）化合物作為光敏劑。此光敏性樹脂組成物可形成高解析度之模樣並有卓越的接著性及機械性質。本發明更進一步提供三種新穎的重氮酯化合物以作為光敏劑，此等化合物當混合於正光敏性樹脂組成物時可賦予高解析度，高對比性及厚膜形成性。本發明更進而提供一種自得將聚苯並二唑前驅體與作為光敏劑之重氮化合物反應所得之新型之正光敏性樹脂組成物。此正光敏性樹脂組成物具有卓越之非曝光下之耐鹼性並因此可得到高殘留膜比率。
简体摘要：本发明提供一种正光敏性树脂组成物，其含有作为基础树脂之聚苯并二唑（polybenzoxazole）箭驱体，一有机溶剂可溶性聚合物或其前驱体（例如polyamic acid）作为赋予改进之接着性，挠屈性或耐热性之成分，及一种氮（diazoquinone）化合物及／或一二氢啶（dihydropy- ridine）化合物作为光敏剂。此光敏性树脂组成物可形成高分辨率之模样并有卓越的接着性及机械性质。本发明更进一步提供三种新颖的重氮酯化合物以作为光敏剂，此等化合物当混合于正光敏性树脂组成物时可赋予高分辨率，高对比性及厚膜形成性。本发明更进而提供一种自得将聚苯并二唑前驱体与作为光敏剂之重氮化合物反应所得之新型之正光敏性树脂组成物。此正光敏性树脂组成物具有卓越之非曝光下之耐碱性并因此可得到高残留膜比率。

4. 发明专利

TW179679B 溶劑可溶性聚醯亞胺矽氧烷低聚物以及彼之製造方法失效
简体标题：溶剂可溶性聚酰亚胺硅氧烷低聚物以及彼之制造方法
公开(公告)号：TW179679B
公开(公告)日：1992-03-01
申请号：TW080103390
申请日：1991-04-30
申请人：住友電木股份有限公司
发明人：竹田直滋 , 竹田敏郎 , 都甲明
IPC分类号： C08G
摘要：本發明提供一種低聚物，其在３０℃下於Ｎ－甲基－２－咯烷酮中在０．５ｇ／ｄ__濃度下測量之固有黏度η為０．００１－０．５ｄ__／ｇ，其係經由聚合及醯亞胺化下列成份而製得：（ａ）一酸成份，由芳族四羧酸二酐及／或其衍生物所組成，（ｂ）一二胺成份，由５－１００莫耳％之由未決定的式（Ｉ）所示之二胺基矽氧烷，和９５－０莫耳％除式（Ｉ）以外之有機二胺所組成：□ (Ⅰ)，其中Ｒ１是一具有１至５個碳原子之二價脂族基或一具有６或更多個碳原子之二價芳族基；Ｒ２和Ｒ３分別是一單價脂族或芳族基，且可相同或不同；及ｍ及１－１００之整數。以及一種經由將所述低聚物溶於一有機溶劑中所成之低聚物溶液。
简体摘要：本发明提供一种低聚物，其在３０℃下于Ｎ－甲基－２－咯烷酮中在０．５ｇ／ｄ__浓度下测量之固有黏度η为０．００１－０．５ｄ__／ｇ，其系经由聚合及酰亚胺化下列成份而制得：（ａ）一酸成份，由芳族四羧酸二酐及／或其衍生物所组成，（ｂ）一二胺成份，由５－１００莫耳％之由未决定的式（Ｉ）所示之二胺基硅氧烷，和９５－０莫耳％除式（Ｉ）以外之有机二胺所组成：□ (Ⅰ)，其中Ｒ１是一具有１至５个碳原子之二价脂族基或一具有６或更多个碳原子之二价芳族基；Ｒ２和Ｒ３分别是一单价脂族或芳族基，且可相同或不同；及ｍ及１－１００之整数。以及一种经由将所述低聚物溶于一有机溶剂中所成之低聚物溶液。

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