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1. 发明专利

TWI693433B 偏光板及液晶面板有权
简体标题：偏光板及液晶皮肤
公开(公告)号：TWI693433B
公开(公告)日：2020-05-11
申请号：TW105128226
申请日：2016-09-01
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：名田敬之 , NADA, TAKAYUKI , 河村真一 , KAWAMURA, SHINICHI , 吉田義史 , YOSHIDA, YOSHIFUMI
IPC分类号： G02B5/30 , G02F1/1335

2. 发明专利

TWI443389B 偏光板之製造方法有权
简体标题：偏光板之制造方法
公开(公告)号：TWI443389B
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW098102436
申请日：2009-01-22
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：武藤清 , MUTO, KIYOSHI , 河村真一 , KAWAMURA, SHINICHI
IPC分类号： G02B5/30 , B32B27/30

3. 发明专利

TWI554395B 偏光板及其製造方法有权
简体标题：偏光板及其制造方法
公开(公告)号：TWI554395B
公开(公告)日：2016-10-21
申请号：TW101135254
申请日：2012-09-26
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：河村真一 , KAWAMURA, SHINICHI
IPC分类号： B32B27/06 , C08J5/18 , C09J7/02 , G02B5/30
CPC分类号： G02B5/3033

4. 发明专利

TWI454510B 偏光板之製造方法有权
简体标题：偏光板之制造方法
公开(公告)号：TWI454510B
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：TW097141325
申请日：2008-10-28
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：武藤清 , MUTO, KIYOSHI , 河村真一 , KAWAMURA, SHINICHI
IPC分类号： C08J5/18 , G02B5/30

5. 发明专利

TWI679118B 積層膜及積層膜的製造方法有权
简体标题：积层膜及积层膜的制造方法
公开(公告)号：TWI679118B
公开(公告)日：2019-12-11
申请号：TW105115291
申请日：2016-05-18
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：河村真一 , KAWAMURA, SHINICHI
IPC分类号： B32B3/02 , B32B27/30 , G02B5/30 , B29C41/30 , B29C55/06 , B29K29/00 , B29L7/00 , B29L9/00 , B29L11/00

6. 发明专利

TWI601988B 積層膜之製造方法有权
简体标题：积层膜之制造方法
公开(公告)号：TWI601988B
公开(公告)日：2017-10-11
申请号：TW106108526
申请日：2017-03-15
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：河村真一 , KAWAMURA, SHINICHI
IPC分类号： G02B5/30 , B32B27/30

7. 发明专利

TW201530200A 氣泡缺陷少的偏光片审中-公开
简体标题：气泡缺陷少的偏光片
公开(公告)号：TW201530200A
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW103141752
申请日：2014-12-02
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：河村真一 , KAWAMURA, SHINICHI
IPC分类号： G02B5/30 , B01D9/02 , B32B38/18
CPC分类号： G02B5/3033
摘要：本發明係提供一種於吸收軸方向的長度為100μm以上的空隙為10個/m2以下之由聚乙烯醇系樹脂所構成之偏光片，於基材膜的至少一側之面，積層該偏光片之偏光性積層膜，於該偏光片的至少一側之面積層有透明保護膜之偏光板，及其製造方法。
简体摘要：本发明系提供一种于吸收轴方向的长度为100μm以上的空隙为10个/m2以下之由聚乙烯醇系树脂所构成之偏光片，于基材膜的至少一侧之面，积层该偏光片之偏光性积层膜，于该偏光片的至少一侧之面积层有透明保护膜之偏光板，及其制造方法。

8. 发明专利

TW201441011A 偏光性積層膜的製造方法及偏光板的製造方法审中-公开
简体标题：偏光性积层膜的制造方法及偏光板的制造方法
公开(公告)号：TW201441011A
公开(公告)日：2014-11-01
申请号：TW103107390
申请日：2014-03-05
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：河村真一 , KAWAMURA, SHINICHI
IPC分类号： B29C55/02 , B29D11/00 , B05D1/26 , G02B5/30 , G02F1/1335 , G02B1/10 , B29K29/00
CPC分类号： B29C55/026 , B29C55/06
摘要：一種偏光性積層膜的製造方法、及使用藉由該方法而得到的偏光性積層膜之偏光板的製造方法，其中該偏光性積層膜的製造方法具備：塗佈液準備步驟，其係在塗佈機的儲存槽準備塗佈液；樹脂層形成步驟，其係從儲存槽通過塗佈機的塗佈頭而將塗佈液供給、塗佈在基材膜的單面或兩面來形成樹脂層而得到積層膜；延伸步驟，其係將積層膜延伸而得到延伸膜；及染色步驟，其係藉由二色性色素將延伸膜的樹脂層染色而得到偏光性積層膜；其中，在塗佈液準備步驟及/或樹脂層形成步驟，至少一次係通過配管而移送前述塗佈液且從該配管抽取塗佈液的一部分。
简体摘要：一种偏光性积层膜的制造方法、及使用借由该方法而得到的偏光性积层膜之偏光板的制造方法，其中该偏光性积层膜的制造方法具备：涂布液准备步骤，其系在涂布机的存储槽准备涂布液；树脂层形成步骤，其系从存储槽通过涂布机的涂布头而将涂布液供给、涂布在基材膜的单面或两面来形成树脂层而得到积层膜；延伸步骤，其系将积层膜延伸而得到延伸膜；及染色步骤，其系借由二色性色素将延伸膜的树脂层染色而得到偏光性积层膜；其中，在涂布液准备步骤及/或树脂层形成步骤，至少一次系通过配管而移送前述涂布液且从该配管抽取涂布液的一部分。

9. 发明专利

TW201420314A 偏光性積層薄膜之製造方法及偏光板之製造方法审中-公开
简体标题：偏光性积层薄膜之制造方法及偏光板之制造方法
公开(公告)号：TW201420314A
公开(公告)日：2014-06-01
申请号：TW102138100
申请日：2013-10-22
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：河村真一 , KAWAMURA, SHINICHI
IPC分类号： B29C55/04 , G02B5/30 , B29L11/00
CPC分类号： G02B5/3033 , C09D129/04
摘要：一種偏光性積層薄膜之製造方法，以及使用以該方法所得到之偏光性積層薄膜的偏光板之製造方法；其中偏光性積層薄膜之製造方法為具備：樹脂層形成步驟，在基材薄膜上塗敷含有聚乙烯基醇系樹脂之塗敷液而得到積層薄膜；拉伸步驟，對於積層薄膜進行縱向單軸拉伸而得到拉伸薄膜；染色步驟，藉由二色性染料使拉伸薄膜的聚乙烯基醇系樹脂層染色而成為偏光子層；其中拉伸步驟為包括二段以上之拉伸處理步驟；第一段拉伸處理步驟中之拉伸倍率相對於第二段拉伸處理步驟中之拉伸倍率的比值為0.5以上；偏光子層的總拉伸倍率為超過5倍。
简体摘要：一种偏光性积层薄膜之制造方法，以及使用以该方法所得到之偏光性积层薄膜的偏光板之制造方法；其中偏光性积层薄膜之制造方法为具备：树脂层形成步骤，在基材薄膜上涂敷含有聚乙烯基醇系树脂之涂敷液而得到积层薄膜；拉伸步骤，对于积层薄膜进行纵向单轴拉伸而得到拉伸薄膜；染色步骤，借由二色性染料使拉伸薄膜的聚乙烯基醇系树脂层染色而成为偏光子层；其中拉伸步骤为包括二段以上之拉伸处理步骤；第一段拉伸处理步骤中之拉伸倍率相对于第二段拉伸处理步骤中之拉伸倍率的比值为0.5以上；偏光子层的总拉伸倍率为超过5倍。

10. 发明专利

TWI671554B 氣泡缺陷少的偏光片有权
简体标题：气泡缺陷少的偏光片
公开(公告)号：TWI671554B
公开(公告)日：2019-09-11
申请号：TW103141752
申请日：2014-12-02
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：河村真一 , KAWAMURA, SHINICHI
IPC分类号： G02B5/30 , B01D9/02 , B32B38/18

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