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1. 发明专利

TWI651197B 偏光板有权
公开(公告)号：TWI651197B
公开(公告)日：2019-02-21
申请号：TW107108263
申请日：2018-03-12
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：西上由紀 , NISHIKAMI, YUKI , 名田敬之 , NADA, TAKAYUKI
IPC分类号： B32B27/08 , B32B7/12 , G02B1/04 , G02B5/30

2. 发明专利

TW201919874A 偏光板审中-公开
公开(公告)号：TW201919874A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW108101203
申请日：2018-03-12
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：西上由紀 , NISHIKAMI, YUKI , 名田敬之 , NADA, TAKAYUKI
IPC分类号： B32B7/12 , B32B27/30 , G02B5/30
摘要：本發明提供一種偏光板，係可抑制於濕熱環境下暴露後的顏色不均。偏光板1依序具有偏光件層10、接著劑層15及第1樹脂層21。偏光件層10係吸附配向有碘的聚乙烯醇系樹脂膜，膜厚為18μm以上25μm以下。第1樹脂層21中，與接著劑層接觸側的表面之氮元素與碳元素的原子濃度比(N/C比)為1.0以上。接著劑層15係包含作為活性能量線硬化性化合物的脂環式環氧化合物與陽離子系聚合引發劑的活性能量線硬化型接著劑組成物的硬化物層。相對於活性能量線硬化性化合物100重量份，脂環式環氧化合物的含量為10至70重量份。
简体摘要：本发明提供一种偏光板，系可抑制于湿热环境下暴露后的颜色不均。偏光板1依序具有偏光件层10、接着剂层15及第1树脂层21。偏光件层10系吸附配向有碘的聚乙烯醇系树脂膜，膜厚为18μm以上25μm以下。第1树脂层21中，与接着剂层接触侧的表面之氮元素与碳元素的原子浓度比(N/C比)为1.0以上。接着剂层15系包含作为活性能量线硬化性化合物的脂环式环氧化合物与阳离子系聚合引发剂的活性能量线硬化型接着剂组成物的硬化物层。相对于活性能量线硬化性化合物100重量份，脂环式环氧化合物的含量为10至70重量份。

3. 发明专利

TWI693433B 偏光板及液晶面板有权
简体标题：偏光板及液晶皮肤
公开(公告)号：TWI693433B
公开(公告)日：2020-05-11
申请号：TW105128226
申请日：2016-09-01
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：名田敬之 , NADA, TAKAYUKI , 河村真一 , KAWAMURA, SHINICHI , 吉田義史 , YOSHIDA, YOSHIFUMI
IPC分类号： G02B5/30 , G02F1/1335

4. 发明专利

TWI646349B 偏光板之製造方法有权
简体标题：偏光板之制造方法
公开(公告)号：TWI646349B
公开(公告)日：2019-01-01
申请号：TW104123665
申请日：2015-07-22
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：久米悦夫 , KUME, ETSUO , 名田敬之 , NADA, TAKAYUKI , 岩田智 , IWATA, TOMO
IPC分类号： G02B1/08 , B29C65/14 , B29K29/00

5. 发明专利

TW201841760A 偏光板审中-公开
公开(公告)号：TW201841760A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107108263
申请日：2018-03-12
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：西上由紀 , NISHIKAMI, YUKI , 名田敬之 , NADA, TAKAYUKI
IPC分类号： B32B27/08 , B32B7/12 , G02B1/04 , G02B5/30
摘要：本發明提供一種偏光板，係可抑制於濕熱環境下暴露後的顏色不均。偏光板1依序具有偏光件層10、接著劑層15及第1樹脂層21。偏光件層10係吸附配向有碘的聚乙烯醇系樹脂膜，膜厚為18μm以上25μm以下。第1樹脂層21中，與接著劑層接觸側的表面之氮元素與碳元素的原子濃度比(N/C比)為1.0以上。接著劑層15係包含作為活性能量線硬化性化合物的脂環式環氧化合物與陽離子系聚合引發劑的活性能量線硬化型接著劑組成物的硬化物層。相對於活性能量線硬化性化合物100重量份，脂環式環氧化合物的含量為10至70重量份。
简体摘要：本发明提供一种偏光板，系可抑制于湿热环境下暴露后的颜色不均。偏光板1依序具有偏光件层10、接着剂层15及第1树脂层21。偏光件层10系吸附配向有碘的聚乙烯醇系树脂膜，膜厚为18μm以上25μm以下。第1树脂层21中，与接着剂层接触侧的表面之氮元素与碳元素的原子浓度比(N/C比)为1.0以上。接着剂层15系包含作为活性能量线硬化性化合物的脂环式环氧化合物与阳离子系聚合引发剂的活性能量线硬化型接着剂组成物的硬化物层。相对于活性能量线硬化性化合物100重量份，脂环式环氧化合物的含量为10至70重量份。

6. 发明专利

TW201730594A 曲面圖像顯示面板用凸面側偏光板审中-公开
简体标题：曲面图像显示皮肤用凸面侧偏光板
公开(公告)号：TW201730594A
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW105126223
申请日：2016-08-17
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：名田敬之 , NADA, TAKAYUKI
IPC分类号： G02B5/30 , G02B1/08 , B32B27/00
摘要：本發明之課題是提供一種曲面圖像顯示面板用凸面側偏光板，其在曲面圖像顯示面板中可抑制配置在凸面側的偏光板之後面側表面的刮傷。上述課題之解決手段為一種偏光板，係具有7000mm以下的平均曲率半徑之曲面圖像顯示面板用凸面側偏光板，且在後面側表面具備相對於該凸面側偏光板的水平方向之表面硬度為H以上的保護層。
简体摘要：本发明之课题是提供一种曲面图像显示皮肤用凸面侧偏光板，其在曲面图像显示皮肤中可抑制配置在凸面侧的偏光板之后面侧表面的刮伤。上述课题之解决手段为一种偏光板，系具有7000mm以下的平均曲率半径之曲面图像显示皮肤用凸面侧偏光板，且在后面侧表面具备相对于该凸面侧偏光板的水平方向之表面硬度为H以上的保护层。

7. 发明专利

TWI584005B 偏光板的保管方法、偏光板所具有之皺褶缺陷的消除或減低方法，及偏光板的製造方法有权
简体标题：偏光板的保管方法、偏光板所具有之皱褶缺陷的消除或减低方法，及偏光板的制造方法
公开(公告)号：TWI584005B
公开(公告)日：2017-05-21
申请号：TW104102493
申请日：2015-01-26
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：市原正寛 , ICHIHARA, MASAHIRO , 名田敬之 , NADA, TAKAYUKI
IPC分类号： G02B5/30 , B01D53/26

8. 发明专利

TWI617442B 偏光板的製造方法有权
简体标题：偏光板的制造方法
公开(公告)号：TWI617442B
公开(公告)日：2018-03-11
申请号：TW102120073
申请日：2013-06-06
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：市原正寬 , ICHIHARA, MASAHIRO , 林秀樹 , HAYASHI, HIDEKI , 名田敬之 , NADA, TAKAYUKI , 丁民載 , CHUNG, MIN JAE
IPC分类号： B32B27/06 , B32B37/06 , B32B27/18 , B32B27/30 , G02B5/30
CPC分类号： G02B5/3033 , B29D11/00644

9. 发明专利

TW201538321A 偏光板及液晶面板审中-公开
简体标题：偏光板及液晶皮肤
公开(公告)号：TW201538321A
公开(公告)日：2015-10-16
申请号：TW104103682
申请日：2015-02-04
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：名田敬之 , NADA, TAKAYUKI
IPC分类号： B32B27/30 , B32B27/38 , B32B27/16 , G02B5/30 , C08F220/10 , C08F222/40 , G02F1/1335
摘要：本發明提供一種偏光板及使用該偏光板之液晶面板，該偏光板係包括：聚乙烯醇系偏光片以及於其一側的面上隔著第1接著劑層積層的第1保護層；其中第1接著劑層為無溶劑型活性能量線硬化性接著劑的硬化物層；第1保護層為含有具有50至95重量%的通式(I)所示的第1構成單元、0.1至20重量%的通式(II)所示的第2構成單元以及0.1至49.9重量%的通式(III)所示的第3構成單元之甲基丙烯酸系樹脂的層。
简体摘要：本发明提供一种偏光板及使用该偏光板之液晶皮肤，该偏光板系包括：聚乙烯醇系偏光片以及於其一侧的面上隔着第1接着剂层积层的第1保护层；其中第1接着剂层为无溶剂型活性能量线硬化性接着剂的硬化物层；第1保护层为含有具有50至95重量%的通式(I)所示的第1构成单元、0.1至20重量%的通式(II)所示的第2构成单元以及0.1至49.9重量%的通式(III)所示的第3构成单元之甲基丙烯酸系树脂的层。

10. 发明专利

TW201513954A 端面加工偏光板之製造方法审中-公开
简体标题：端面加工偏光板之制造方法
公开(公告)号：TW201513954A
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：TW103128401
申请日：2014-08-19
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：丁民載 , CHUNG, MIN JAE , 市原正寛 , ICHIHARA, MASAHIRO , 名田敬之 , NADA, TAKAYUKI
IPC分类号： B23C3/12 , G02B5/30 , G02F1/1335
摘要：本發明係提供一種端面加工偏光板的製造方法，包括：堆疊複數片偏光膜上具備(甲基)丙烯酸系樹脂膜的方形的偏光板而得到露出端面的偏光板積層體之步驟；以及藉由對偏光板積層體相對移動具有n片切削刀片的切削工具而切削加工端面之步驟；其中，以使端面滿足下述條件之方式，藉由切削工具而切削加工：(a)n片切削刀片抵接端面的次數，對端面的長度方向的每100mm的長度為200至1500次；以及(b)因1次的相對移動而切削的切削深度為0.3mm以下。
简体摘要：本发明系提供一种端面加工偏光板的制造方法，包括：堆栈复数片偏光膜上具备(甲基)丙烯酸系树脂膜的方形的偏光板而得到露出端面的偏光板积层体之步骤；以及借由对偏光板积层体相对移动具有n片切削刀片的切削工具而切削加工端面之步骤；其中，以使端面满足下述条件之方式，借由切削工具而切削加工：(a)n片切削刀片抵接端面的次数，对端面的长度方向的每100mm的长度为200至1500次；以及(b)因1次的相对移动而切削的切削深度为0.3mm以下。

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