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1. 发明专利

TW201303390A 光學膜片之製造方法、偏光板，以及圖像顯示裝置审中-公开
简体标题：光学膜片之制造方法、偏光板，以及图像显示设备
公开(公告)号：TW201303390A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：TW101110518
申请日：2012-03-27
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：神野亨 , JINNO, TORU , 神崎昌 , KANZAKI, SHO , 金玉馨 , KIM, OKHYONG , 金雲基 , KIM, WOONKI
IPC分类号： G02B5/30 , G02B1/10 , B32B27/16
摘要：本發明之光學膜片的製造方法，其係包含如下步驟：塗佈步驟，其係於基材膜片上塗佈含有活性能量線硬化性樹脂的塗佈液以形成塗佈層；第1硬化步驟，其係對與塗佈層的基材膜片之搬送方向正交的方向之兩端部區域，照射活性能量線；第2硬化步驟，其係將鑄模表面以貼壓於塗佈層的表面之狀態，從基材膜片側對塗佈層照射活性能量線。若依本發明，可提供一種可生產性佳地製造高品質、且無缺陷之光學膜片的製造方法。
简体摘要：本发明之光学膜片的制造方法，其系包含如下步骤：涂布步骤，其系于基材膜片上涂布含有活性能量线硬化性树脂的涂布液以形成涂布层；第1硬化步骤，其系对与涂布层的基材膜片之搬送方向正交的方向之两端部区域，照射活性能量线；第2硬化步骤，其系将铸模表面以贴压于涂布层的表面之状态，从基材膜片侧对涂布层照射活性能量线。若依本发明，可提供一种可生产性佳地制造高品质、且无缺陷之光学膜片的制造方法。

2. 发明专利

TWI526711B 光學膜之製造方法、偏光板及畫像顯示裝置有权
简体标题：光学膜之制造方法、偏光板及画像显示设备
公开(公告)号：TWI526711B
公开(公告)日：2016-03-21
申请号：TW100148259
申请日：2011-12-23
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：神崎昌 , KANZAKI, SHO
IPC分类号： G02B1/10 , G02B1/12 , G02B5/30 , G02F1/1335
CPC分类号： G02B1/10 , B29C35/0266 , B29C35/10 , B29C39/18 , B29C59/046 , B29C2035/0827 , B29K2995/0034 , G02B1/11

3. 发明专利

TWI512318B 防眩性偏光板及使用該偏光板之影像顯示裝置有权
简体标题：防眩性偏光板及使用该偏光板之影像显示设备
公开(公告)号：TWI512318B
公开(公告)日：2015-12-11
申请号：TW100107861
申请日：2011-03-09
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：古谷勉 , FURUYA, TSUTOMU , 藤井貴志 , FUJII, TAKASHI , 神崎昌 , KANZAKI, SHO , 神野亨 , JINNO, TORU
IPC分类号： G02B1/11 , G02B5/30 , C09J163/00 , B32B27/30 , G02F1/1335

4. 发明专利

TWI498603B 防眩膜及防眩性偏光板有权
公开(公告)号：TWI498603B
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW100107512
申请日：2011-03-07
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：古谷勉 , FURUYA, TSUTOMU , 藤井貴志 , FUJII, TAKASHI , 神崎昌 , KANZAKI, SHO , 神野亨 , JINNO, TORU
IPC分类号： G02B5/02 , G02B5/30

5. 发明专利

TWI513995B 硬塗層膜、偏光板及圖像顯示裝置有权
简体标题：硬涂层膜、偏光板及图像显示设备
公开(公告)号：TWI513995B
公开(公告)日：2015-12-21
申请号：TW100110910
申请日：2011-03-29
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD.
发明人：神崎昌 , KANZAKI, SHO , 羽場康弘 , HABA, YASUHIRO , 金玉馨 , KIM, OKHYONG
IPC分类号： G02B1/10 , G02B5/30 , G02F1/1335 , B32B27/30

6. 发明专利

TWI496691B 硬塗層膜、偏光板及圖像顯示裝置有权
简体标题：硬涂层膜、偏光板及图像显示设备
公开(公告)号：TWI496691B
公开(公告)日：2015-08-21
申请号：TW100110841
申请日：2011-03-29
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD.
发明人：神崎昌 , KANZAKI, SHO , 古谷勉 , FURUYA, TSUTOMU , 神野亨 , JINNO, TORU
IPC分类号： B32B33/00 , B32B27/16 , B29C59/02 , G02B1/11 , G02B5/30

7. 发明专利

TW201300221A 光學膜之製造方法、偏光板及圖像顯示裝置审中-公开
简体标题：光学膜之制造方法、偏光板及图像显示设备
公开(公告)号：TW201300221A
公开(公告)日：2013-01-01
申请号：TW101114986
申请日：2012-04-26
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD.
发明人：神崎昌 , KANZAKI, SHO , 金雲基 , KIM, WOONKI
IPC分类号： B29C39/18 , G02B5/02
摘要：本案發明係一種光學膜之製造方法，其包括：塗佈步驟，其將含有活性能量線硬化性樹脂之塗佈液塗佈於連續搬送之基材膜11上而形成塗佈層；及硬化步驟，其於將塗佈層之表面抵壓於鑄模14之表面上之狀態下，自基材膜11側對塗佈層照射活性能量線；並且於該硬化步驟中，於將塗佈層之表面抵壓於鑄模14之表面上時，施加於塗佈層中之寬度方向之兩端部區域上之壓力小於位於該兩端部區域間之寬度方向之中央部區域。根據本案發明，可有效防止基材膜上之硬化樹脂之樹脂剝落及對鑄模之樹脂殘留之產生，因而可不產生缺陷等不良情況而連續高效地製造光學膜。
简体摘要：本案发明系一种光学膜之制造方法，其包括：涂布步骤，其将含有活性能量线硬化性树脂之涂布液涂布于连续搬送之基材膜11上而形成涂布层；及硬化步骤，其于将涂布层之表面抵压于铸模14之表面上之状态下，自基材膜11侧对涂布层照射活性能量线；并且于该硬化步骤中，于将涂布层之表面抵压于铸模14之表面上时，施加于涂布层中之宽度方向之两端部区域上之压力小于位于该两端部区域间之宽度方向之中央部区域。根据本案发明，可有效防止基材膜上之硬化树脂之树脂剥落及对铸模之树脂残留之产生，因而可不产生缺陷等不良情况而连续高效地制造光学膜。

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