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1. 发明专利

TW201829547A 光學膜及使用該光學膜之積層膜、以及光學膜的製造方法审中-公开
简体标题：光学膜及使用该光学膜之积层膜、以及光学膜的制造方法
公开(公告)号：TW201829547A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106133388
申请日：2017-09-28
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：池内淳一 , IKEUCHI, JUNICHI , 西幸二朗 , NISHI, KOJIRO , 植田幸治 , UEDA, KOJI , 豊田 , TOYODA, HIROSHI
IPC分类号： C08G73/10 , C08L79/08
摘要：本發明提供處理時不易發生所謂折痕、刮傷等缺陷之光學膜。本發明之光學膜係含有聚醯亞胺系高分子的光學膜，上述光學膜的端面為對上述光學膜的表面傾斜5°以上75°以下角度的傾斜面。
简体摘要：本发明提供处理时不易发生所谓折痕、刮伤等缺陷之光学膜。本发明之光学膜系含有聚酰亚胺系高分子的光学膜，上述光学膜的端面为对上述光学膜的表面倾斜5°以上75°以下角度的倾斜面。

2. 发明专利

TW201817780A 光學膜及其製造方法审中-公开
简体标题：光学膜及其制造方法
公开(公告)号：TW201817780A
公开(公告)日：2018-05-16
申请号：TW106133387
申请日：2017-09-28
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：池内淳一 , IKEUCHI, JUNICHI , 西幸二朗 , NISHI, KOJIRO , 植田幸治 , UEDA, KOJI
IPC分类号： C08G73/14 , G02B1/04
摘要：本發明之課題係提供一種光學膜，即使以經變形之狀態在高溫高濕環境下保管，端部亦不易產生龜裂。該課題之解決手段為一種光學膜，係含有在分子內含有氟原子之聚醯亞胺系高分子，其中，在上述光學膜之端面以X射線光電子光譜法所測定之氟原子對碳原子之原子比(F/C)大於在從上述光學膜之上述端面切斷1mm內側而得之剖面以X射線光電子光譜法所測定之氟原子對碳原子之原子比(F/C)。
简体摘要：本发明之课题系提供一种光学膜，即使以经变形之状态在高温高湿环境下保管，端部亦不易产生龟裂。该课题之解决手段为一种光学膜，系含有在分子内含有氟原子之聚酰亚胺系高分子，其中，在上述光学膜之端面以X射线光电子光谱法所测定之氟原子对碳原子之原子比(F/C)大于在从上述光学膜之上述端面切断1mm内侧而得之剖面以X射线光电子光谱法所测定之氟原子对碳原子之原子比(F/C)。

3. 发明专利

TW201727281A 偏光板、圖像顯示裝置及偏光板的製造方法审中-公开
简体标题：偏光板、图像显示设备及偏光板的制造方法
公开(公告)号：TW201727281A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW105125421
申请日：2016-08-10
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：植田幸治 , UEDA, KOJI , 藤井幹士 , FUJII, MIKIO , 西幸二朗 , NISHI, KOJIRO
IPC分类号： G02B5/30 , G02B1/08 , G02F1/1335
CPC分类号： G02B5/30 , G02F1/1335
摘要：偏光板1A係具備偏光片2及積層於其兩面之保護膜3,3。保護膜3,3係任一者均成形為預定之形狀，保護膜3,3係分別積層於偏光片2之單面的整面，且偏光片2之至少一部分之端部2a位於較至少一方之保護膜3之端部3a更內側處。
简体摘要：偏光板1A系具备偏光片2及积层于其两面之保护膜3,3。保护膜3,3系任一者均成形为预定之形状，保护膜3,3系分别积层于偏光片2之单面的整面，且偏光片2之至少一部分之端部2a位于较至少一方之保护膜3之端部3a更内侧处。

4. 发明专利

TWI592706B 附黏著劑層之偏光板及影像顯示裝置有权
简体标题：附黏着剂层之偏光板及影像显示设备
公开(公告)号：TWI592706B
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：TW105130151
申请日：2016-09-19
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：植田幸治 , UEDA, KOJI , 藤井幹士 , FUJII, MIKIO , 西幸二朗 , NISHI, KOJIRO
IPC分类号： G02B5/30 , G02F1/1335

5. 发明专利

TW201719204A 附黏著劑層之偏光板及影像顯示裝置审中-公开
简体标题：附黏着剂层之偏光板及影像显示设备
公开(公告)号：TW201719204A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW105130151
申请日：2016-09-19
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：植田幸治 , UEDA, KOJI , 藤井幹士 , FUJII, MIKIO , 西幸二朗 , NISHI, KOJIRO
IPC分类号： G02B5/30 , G02F1/1335
摘要：本發明的附黏著劑層的偏光板，係具備偏光板1、和積層於偏光板1的至少一個面的黏著劑層5。偏光板1為俯視四邊形，黏著劑層5的端部在偏光板1中的位於黏著劑層5側的至少一條邊3b所延長的方向延伸地具有凹陷部5a，該凹陷部5a相對於該邊3b係位於四邊形的內側，凹陷部5a與邊3b的距離係隨著從邊3b的端側向中央側變大。
简体摘要：本发明的附黏着剂层的偏光板，系具备偏光板1、和积层于偏光板1的至少一个面的黏着剂层5。偏光板1为俯视四边形，黏着剂层5的端部在偏光板1中的位于黏着剂层5侧的至少一条边3b所延长的方向延伸地具有凹陷部5a，该凹陷部5a相对于该边3b系位于四边形的内侧，凹陷部5a与边3b的距离系随着从边3b的端侧向中央侧变大。

6. 发明专利

TW201839433A 偏光板及影像顯示裝置审中-公开
简体标题：偏光板及影像显示设备
公开(公告)号：TW201839433A
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：TW107124102
申请日：2017-02-17
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：植田幸治 , UEDA, KOJI , 西幸二朗 , NISHI, KOJIRO
IPC分类号： G02B5/30 , G02B7/00
摘要：本發明提供可抑制漏光的偏光板。偏光板(1)具備膜狀的偏光片(7)及重疊於偏光片(7)的複數個光學膜(3、5、9、11、13)。貫穿偏光板(1)的孔(21)的垂直度(a/b)為0.00以上、未達0.32。孔(21)周圍之偏光消除部(23)的寬度(W)為0.00μm以上、未達32μm。
简体摘要：本发明提供可抑制漏光的偏光板。偏光板(1)具备膜状的偏光片(7)及重叠于偏光片(7)的复数个光学膜(3、5、9、11、13)。贯穿偏光板(1)的孔(21)的垂直度(a/b)为0.00以上、未达0.32。孔(21)周围之偏光消除部(23)的宽度(W)为0.00μm以上、未达32μm。

7. 发明专利

TW201734583A 顯示面板之製造方法审中-公开
简体标题：显示皮肤之制造方法
公开(公告)号：TW201734583A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW106105570
申请日：2017-02-20
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：植田幸治 , UEDA, KOJI , 西幸二朗 , NISHI, KOJIRO
IPC分类号： G02F1/13 , G02F1/1335 , G02B5/30
CPC分类号： G02B5/30 , G02F1/13 , G02F1/1333 , G09F9/00 , G09F9/30 , H01L51/50 , H05B33/10
摘要：本發明之課題在於提供一種顯示面板之製造方法，其可抑制於製造時在顯示面板端部產生的缺損、破裂。上述課題之解決手段係包含下述步驟：將貼合於對向用母基板的外表面之光學膜沿著成為顯示面板1的對向基板2之各部分的輪廓進行裁切之後，將經裁切的各部分之內側5a保留，並將光學膜的多餘部分從對向用母基板之表面上剝離去除之步驟；沿著成為顯示面板1的對向基板2之各部分的輪廓裁切對向用母基板之步驟；將貼合於元件用母基板的外表面之光學膜沿著成為顯示面板1的元件基板3之各部分的輪廓進行裁切之後，將經裁切的各部分之內側5b保留，並將光學膜的多餘部分從對向用母基板之表面上剝離去除之步驟；將元件用母基板沿著成為顯示面板1的元件基板3之各部分的輪廓進行裁切之步驟。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种显示皮肤之制造方法，其可抑制于制造时在显示皮肤端部产生的缺损、破裂。上述课题之解决手段系包含下述步骤：将贴合于对向用母基板的外表面之光学膜沿着成为显示皮肤1的对向基板2之各部分的轮廓进行裁切之后，将经裁切的各部分之内侧5a保留，并将光学膜的多余部分从对向用母基板之表面上剥离去除之步骤；沿着成为显示皮肤1的对向基板2之各部分的轮廓裁切对向用母基板之步骤；将贴合于组件用母基板的外表面之光学膜沿着成为显示皮肤1的组件基板3之各部分的轮廓进行裁切之后，将经裁切的各部分之内侧5b保留，并将光学膜的多余部分从对向用母基板之表面上剥离去除之步骤；将组件用母基板沿着成为显示皮肤1的组件基板3之各部分的轮廓进行裁切之步骤。

8. 发明专利

TW201706642A 偏光板及圖像顯示裝置审中-公开
简体标题：偏光板及图像显示设备
公开(公告)号：TW201706642A
公开(公告)日：2017-02-16
申请号：TW105120902
申请日：2016-07-01
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：植田幸治 , UEDA, KOJI , 藤井幹士 , FUJII, MIKIO , 西幸二朗 , NISHI, KOJIRO
IPC分类号： G02B5/30 , G02F1/1335
CPC分类号： B32B7/02 , B32B27/00 , G02B5/30
摘要：本發明提供一種偏光板，其係抑制光學膜從偏光板剝離，同時可容易地從疊合的複數個偏光板將偏光板逐片地拿起。偏光板1具備膜狀的偏光元件7、與和偏光元件7重疊之光學膜(3、5、9、13)，於垂直於偏光元件7及光學膜(3、5、9、13)之方向的偏光板1的截面1cs係具有角部3c,13c，角部3c,13c係經倒角。
简体摘要：本发明提供一种偏光板，其系抑制光学膜从偏光板剥离，同时可容易地从叠合的复数个偏光板将偏光板逐片地拿起。偏光板1具备膜状的偏光组件7、与和偏光组件7重叠之光学膜(3、5、9、13)，于垂直于偏光组件7及光学膜(3、5、9、13)之方向的偏光板1的截面1cs系具有角部3c,13c，角部3c,13c系经倒角。

9. 发明专利

TWI701480B 顯示面板之製造方法有权
简体标题：显示皮肤之制造方法
公开(公告)号：TWI701480B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW106105569
申请日：2017-02-20
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：植田幸治 , UEDA, KOJI , 西幸二朗 , NISHI, KOJIRO
IPC分类号： G02F1/1333 , G02F1/136

10. 发明专利

TW201818097A 光學膜及光學膜的製造方法审中-公开
简体标题：光学膜及光学膜的制造方法
公开(公告)号：TW201818097A
公开(公告)日：2018-05-16
申请号：TW106133380
申请日：2017-09-28
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：池内淳一 , IKEUCHI, JUNICHI , 西幸二朗 , NISHI, KOJIRO , 植田幸治 , UEDA, KOJI
IPC分类号： G02B1/04 , G02B1/10
摘要：本發明係提供一種光學膜及使用該光學膜之裝置，該光學膜可抑制可撓性裝置中之來自端面EF的漏光。本發明之光學膜係含有聚醯亞胺系高分子之透明光學膜，且光學膜之端部EP被著色。端部EP係可在孟色耳表色系中，具有2YR至3Y之色相、或無彩色。
简体摘要：本发明系提供一种光学膜及使用该光学膜之设备，该光学膜可抑制可挠性设备中之来自端面EF的漏光。本发明之光学膜系含有聚酰亚胺系高分子之透明光学膜，且光学膜之端部EP被着色。端部EP系可在孟色耳表色系中，具有2YR至3Y之色相、或无彩色。

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