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1. 发明专利

TWI651591B 光阻組成物以及用以製造光阻圖案的方法有权
简体标题：光阻组成物以及用以制造光阻图案的方法
公开(公告)号：TWI651591B
公开(公告)日：2019-02-21
申请号：TW104110209
申请日：2015-03-30
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：増山達郎 , MASUYAMA, TATSURO , 市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI
IPC分类号： G03F7/004 , C08F220/22 , C08F220/26 , C07C381/12 , C07D309/08 , C07C309/17 , C07D327/06 , C08K5/42 , C08K5/46 , G03F7/039 , G03F7/38 , H01L21/027

2. 发明专利

TW201533034A 鹽及含有該鹽之光阻組成物审中-公开
简体标题：盐及含有该盐之光阻组成物
公开(公告)号：TW201533034A
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW104102067
申请日：2015-01-22
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：増山達郎 , MASUYAMA, TATSURO , 市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI , 吉田昌史 , YOSHIDA, MASAFUMI
IPC分类号： C07D319/08 , C07D327/06 , C07C381/12 , G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC分类号： C07D317/72 , C07C381/12 , C07D319/08 , C07D327/06 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397
摘要：一種具下式(a)所示基團之鹽：式中Xa與Xb各自獨立地表示氧原子或硫基團；X1表示具羥基之C1-C12二價飽和烴基；及*表示結合位點。
简体摘要：一种具下式(a)所示基团之盐：式中Xa与Xb各自独立地表示氧原子或硫基团；X1表示具羟基之C1-C12二价饱和烃基；及*表示结合位点。

3. 发明专利

TW201821455A 光阻圖案的製造程序及光阻組成物审中-公开
简体标题：光阻图案的制造进程及光阻组成物
公开(公告)号：TW201821455A
公开(公告)日：2018-06-16
申请号：TW106114967
申请日：2017-05-05
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：増山達郎 , MASUYAMA, TATSURO , 市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI
IPC分类号： C08F220/18 , C08F220/28 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/38
摘要：一種製造光阻圖案的程序，係包含步驟(1)至(5)：(1)施用光阻組成物於基板上，該光阻組成物係包含酸產生劑及包含具酸不穩定基之結構單元的樹脂；(2)乾燥所施用之組成物，以形成組成物層；(3)曝光該組成物層；(4)加熱經曝光之組成物層；以及(5)使用包含乙酸丁酯之顯影劑將經加熱之組成物層顯影，其中，該樹脂與乙酸丁酯間之漢森溶解度參數的距離為3.3至4.3，該距離係自式(1)計算者：R=(4×(δ dR-15.8)2+(δ pR-3.7)2+(δ hR-6.3)2)1/2 (1) 式中，δ dR係表示該樹脂之分散參數，δ pR係表示該樹脂之極性參數，δ hR係表示該樹脂之氫鍵結參數，且R係表示該距離，以及該光阻圖案相對於該組成物層之膜留存率係調節為65%或更高。
简体摘要：一种制造光阻图案的进程，系包含步骤(1)至(5)：(1)施用光阻组成物于基板上，该光阻组成物系包含酸产生剂及包含具酸不稳定基之结构单元的树脂；(2)干燥所施用之组成物，以形成组成物层；(3)曝光该组成物层；(4)加热经曝光之组成物层；以及(5)使用包含乙酸丁酯之显影剂将经加热之组成物层显影，其中，该树脂与乙酸丁酯间之汉森溶解度参数的距离为3.3至4.3，该距离系自式(1)计算者：R=(4×(δ dR-15.8)2+(δ pR-3.7)2+(δ hR-6.3)2)1/2 (1) 式中，δ dR系表示该树脂之分散参数，δ pR系表示该树脂之极性参数，δ hR系表示该树脂之氢键结参数，且R系表示该距离，以及该光阻图案相对于该组成物层之膜留存率系调节为65%或更高。

4. 发明专利

TW201602723A 光阻組成物以及用以製造光阻圖案的方法审中-公开
简体标题：光阻组成物以及用以制造光阻图案的方法
公开(公告)号：TW201602723A
公开(公告)日：2016-01-16
申请号：TW104110209
申请日：2015-03-30
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：増山達郎 , MASUYAMA, TATSURO , 市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI
IPC分类号： G03F7/004 , C08F220/22 , C08F220/26 , C07C381/12 , C07D309/08 , C07C309/17 , C07D327/06 , C08K5/42 , C08K5/46 , G03F7/039 , G03F7/38 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/38 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要：一種光阻組成物，其包含：具有酸不穩定基且不具氟原子之樹脂，具有氟原子之樹脂，以及式(I)所示之鹽：
简体摘要：一种光阻组成物，其包含：具有酸不稳定基且不具氟原子之树脂，具有氟原子之树脂，以及式(I)所示之盐：

5. 发明专利

TW201841885A 鹽、酸產生劑、光阻組成物以及用於生產光阻圖案的製程审中-公开
简体标题：盐、酸产生剂、光阻组成物以及用于生产光阻图案的制程
公开(公告)号：TW201841885A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107107151
申请日：2018-03-05
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：増山達郎 , MASUYAMA, TATSURO , 山口訓史 , YAMAGUCHI, SATOSHI , 市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI
IPC分类号： C07C381/12 , C07D319/06 , C07D319/08 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/38
摘要：一種鹽，由式（I）表示。
简体摘要：一种盐，由式（I）表示。

6. 发明专利

TW201835123A 樹脂、阻劑組成物及阻劑圖案的製造方法审中-公开
简体标题：树脂、阻剂组成物及阻剂图案的制造方法
公开(公告)号：TW201835123A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW106143350
申请日：2017-12-11
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：増山達郎 , MASUYAMA, TATSURO , 山口訓史 , YAMAGUCHI, SATOSHI , 市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI
IPC分类号： C08F220/10 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/38 , H01L21/027
摘要：本發明係提供一種樹脂，其含有源自式(I’)表示的化合物的結構單元及具有酸不安定基的結構單元。 [式中，R1及R2係各自獨立地表示可具有鹵素原子之烷基、氫原子或鹵素原子。Ar係表示可具有取代基之芳香族烴基。L1係表示式(X1-1)等表示之基。L11、L13、L15及L17係各自獨立地表示烷二基。L12、L14、L16及L18係各自獨立地表示-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-或-O-CO-O-。*、**為連結鍵，並且**係表示與碘原子之連結鍵]。
简体摘要：本发明系提供一种树脂，其含有源自式(I’)表示的化合物的结构单元及具有酸不安定基的结构单元。 [式中，R1及R2系各自独立地表示可具有卤素原子之烷基、氢原子或卤素原子。Ar系表示可具有取代基之芳香族烃基。L1系表达式(X1-1)等表示之基。L11、L13、L15及L17系各自独立地表示烷二基。L12、L14、L16及L18系各自独立地表示-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-或-O-CO-O-。*、**为链接键，并且**系表示与碘原子之链接键]。

7. 发明专利

TW201835030A 化合物、樹脂、阻劑組成物及阻劑圖案的製造方法审中-公开
简体标题：化合物、树脂、阻剂组成物及阻剂图案的制造方法
公开(公告)号：TW201835030A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW107103988
申请日：2018-02-05
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：増山達郎 , MASUYAMA, TATSURO , 山口訓史 , YAMAGUCHI, SATOSHI , 市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI
IPC分类号： C07C69/62 , C07C69/753 , C07C69/75 , C08F220/26 , C08F220/22 , G03F7/004 , H01L21/027
摘要：本發明係一種式(I)表示的化合物， [式(I)中，R1及R2分別獨立地表示氫原子或甲基。 X1及X2分別獨立地表示式(X1-1)至式(X1-8)中任一式表示之基。 (式(X1-5)至式(X1-8)中，L11、L13、L15及L17分別獨立地表示碳數1至6之烷二基。 L12、L14、L16及L18分別獨立地表示-O-、-CO-、 -CO-O-、-O-CO-或-O-CO-O-。 *及**分別是鍵結鍵，**表示與A1或A2的鍵結鍵。) R3表示可具有取代基的碳數1至24之烴基，含在該烴基中的-CH2-可被取代成-O-、-S-、-CO-或-S(O)2-]。
简体摘要：本发明系一种式(I)表示的化合物， [式(I)中，R1及R2分别独立地表示氢原子或甲基。 X1及X2分别独立地表达式(X1-1)至式(X1-8)中任一式表示之基。 (式(X1-5)至式(X1-8)中，L11、L13、L15及L17分别独立地表示碳数1至6之烷二基。 L12、L14、L16及L18分别独立地表示-O-、-CO-、 -CO-O-、-O-CO-或-O-CO-O-。 *及**分别是键结键，**表示与A1或A2的键结键。) R3表示可具有取代基的碳数1至24之烃基，含在该烃基中的-CH2-可被取代成-O-、-S-、-CO-或-S(O)2-]。

8. 发明专利

TW201529542A 鹽及包含該鹽的光阻組成物审中-公开
简体标题：盐及包含该盐的光阻组成物
公开(公告)号：TW201529542A
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW103143221
申请日：2014-12-11
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：増山達郎 , MASUYAMA, TATSURO , 市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI , 荒木香 , ARAKI, KAORU
IPC分类号： C07C309/07 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0046 , C07C309/00 , C07C309/04 , C07C319/02 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/325 , G03F7/38 , G03F7/40
摘要：一種下式(I)所示之鹽：式中Q1與Q2各自獨立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基；Lb1表示C1-C24二價飽和烴基等；R1、R2、R3與R4於每次出現時獨立地表示C1-C12脂族烴基等；及A+表示有機抗衡離子。
简体摘要：一种下式(I)所示之盐：式中Q1与Q2各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基；Lb1表示C1-C24二价饱和烃基等；R1、R2、R3与R4于每次出现时独立地表示C1-C12脂族烃基等；及A+表示有机抗衡离子。

9. 发明专利

TW202021948A 鹽、酸產生劑、抗蝕劑組成物及抗蝕劑圖案的製造方法审中-公开
简体标题：盐、酸产生剂、抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案的制造方法
公开(公告)号：TW202021948A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：TW108134416
申请日：2019-09-24
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：増山達郎 , MASUYAMA, TATSURO , 山本敏 , YAMAMOTO, SATOSHI , 市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI
IPC分类号： C07C309/12 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07D327/06 , C09K3/00 , C08F20/28 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/32 , C08F212/14 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/09 , G03F7/20 , G03F7/38 , H01L21/027
摘要：本發明的目的在於提供一種可製造線邊緣粗糙度（LER）良好的抗蝕劑圖案的鹽、含有該鹽的酸產生劑、及含有該酸產生劑的抗蝕劑組成物。一種鹽，由式（I）所表示。 [式（I）中， Q1及Q2分別獨立地表示氟原子等。 R1及R2分別獨立地表示氫原子等。 zi表示0～6的任一整數，於zi為2以上時，多個R1及R2相互可相同亦可不同。 X1表示*-CO-O-或*-O-CO-（其中，*表示與C(R1)(R2)或C(Q1)(Q2)的鍵結位）等。 L1表示單鍵或碳數1～28的二價飽和烴基等。 R3及R4分別獨立地表示可具有取代基的碳數3～18的環狀烴基等。 Z+表示有機陽離子。]
简体摘要：本发明的目的在于提供一种可制造线边缘粗糙度（LER）良好的抗蚀剂图案的盐、含有该盐的酸产生剂、及含有该酸产生剂的抗蚀剂组成物。一种盐，由式（I）所表示。 [式（I）中， Q1及Q2分别独立地表示氟原子等。 R1及R2分别独立地表示氢原子等。 zi表示0～6的任一整数，于zi为2以上时，多个R1及R2相互可相同亦可不同。 X1表示*-CO-O-或*-O-CO-（其中，*表示与C(R1)(R2)或C(Q1)(Q2)的键结位）等。 L1表示单键或碳数1～28的二价饱和烃基等。 R3及R4分别独立地表示可具有取代基的碳数3～18的环状烃基等。 Z+表示有机阳离子。]

10. 发明专利

TWI651315B 鹽及含有該鹽之光阻組成物有权
简体标题：盐及含有该盐之光阻组成物
公开(公告)号：TWI651315B
公开(公告)日：2019-02-21
申请号：TW104102068
申请日：2015-01-22
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：増山達郎 , MASUYAMA, TATSURO , 市川幸司 , ICHIKAWA, KOJI , 山本敏 , YAMAMOTO, SATOSHI
IPC分类号： C07D317/72 , C07D319/04 , C07D339/06 , C07D339/08 , C07D327/02 , C07D337/04 , C07D333/46 , C07D335/02 , C07C381/12 , G03F7/004 , G03F7/38

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