会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 1. 发明专利
    • 薄膜卷材之製造方法
    • 薄膜卷材之制造方法
    • TW201412496A
    • 2014-04-01
    • TW102117200
    • 2013-05-15
    • 住友化學股份有限公司SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED愛司卡波西德股份有限公司ESCARBO SHEET CO., LTD.
    • 小山浩士KOYAMA, KOJI畠山和彥HATAKEYAMA, KAZUHIKO
    • B29C47/16B29C47/92B29L7/00
    • B29C47/165B29C47/0021B29C47/92B29C2947/92152B29C2947/92171B29C2947/92447B29C2947/92523B29C2947/92647B29C2947/92666
    • 本發明係關於不利用振盪製造出外觀良好的薄膜卷材之方法,提供一種薄膜卷材之製造方法,其特徵為:包含:從具備唇部間隙(lip gap)之調整手段的模具擠壓熱可塑性樹脂,且邊移行邊製膜,而形成薄膜的工程(A);在薄膜之移行中調整薄膜之厚度的工程(B);將薄膜捲成捲筒狀的工程(C),在工程(B)中,藉由重複下述(a)~(c)之步驟調整薄膜之厚度,(a)在薄膜之寬方向中,以特定間隔測量薄膜之厚度,製作個別厚度剖面之步驟;(b)根據一個或其以上之該個別厚度剖面,製作測量厚度剖面之步驟;(c)根據測量厚度剖面,和設定厚度剖面,調整唇部間隙之步驟,又,以一次之測量厚度剖面中之薄膜厚度之振幅R1,一次之測量厚度剖面中之薄膜厚度之標準偏差σ1,累計平均剖面中之薄膜厚度之振幅RAV,及累計平均剖面中之薄膜厚度之標準偏差σAV,各滿足R1≦2.0μm、σ1≦0.5μm、RAV≦1.0μm、及σAV≦0.2μm之條件之方式,又調整薄膜之厚度。
    • 本发明系关于不利用振荡制造出外观良好的薄膜卷材之方法,提供一种薄膜卷材之制造方法,其特征为:包含:从具备唇部间隙(lip gap)之调整手段的模具挤压热可塑性树脂,且边移行边制膜,而形成薄膜的工程(A);在薄膜之移行中调整薄膜之厚度的工程(B);将薄膜卷成卷筒状的工程(C),在工程(B)中,借由重复下述(a)~(c)之步骤调整薄膜之厚度,(a)在薄膜之宽方向中,以特定间隔测量薄膜之厚度,制作个别厚度剖面之步骤;(b)根据一个或其以上之该个别厚度剖面,制作测量厚度剖面之步骤;(c)根据测量厚度剖面,和设置厚度剖面,调整唇部间隙之步骤,又,以一次之测量厚度剖面中之薄膜厚度之振幅R1,一次之测量厚度剖面中之薄膜厚度之标准偏差σ1,累计平均剖面中之薄膜厚度之振幅RAV,及累计平均剖面中之薄膜厚度之标准偏差σAV,各满足R1≦2.0μm、σ1≦0.5μm、RAV≦1.0μm、及σAV≦0.2μm之条件之方式,又调整薄膜之厚度。