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1. 发明专利

TW201433436A 光學物品、用於製造光學物品的模具及模具的製造方法审中-公开
简体标题：光学物品、用于制造光学物品的模具及模具的制造方法
公开(公告)号：TW201433436A
公开(公告)日：2014-09-01
申请号：TW102148580
申请日：2013-12-27
申请人：三菱麗陽股份有限公司 , MITSUBISHI RAYON CO., LTD.
发明人：尾野本広志 , ONOMOTO, HIROSHI , 中西志茉 , NAKANISHI, SHIMA , 河内秀樹 , KAWACHI, HIDEKI , 地紙哲哉 , JIGAMI, TETSUYA
IPC分类号： B29C33/42 , B29C33/38 , B29C43/18 , B29L11/00
CPC分类号： G02B1/118 , B29C33/42 , B29C59/046 , B29C2059/023 , B29K2905/02 , B29L2011/00 , G02B1/18
摘要：本發明提供一種可容易地識別具有微細凹凸結構的成形體的缺陷部位，並且在捲取該成形體時，亦會防止微細凹凸結構變形的微細凹凸轉印用模具。上述模具用於製造在表面具有週期為可見光的波長以下的多個凸部、及形成於鄰接的該凸部之間的多個凹部的光學物品。上述模具的特徵在於：在表面具有轉印區域，上述轉印區域設置有具有與上述光學物品的凸部及凹部互補的尺寸形狀的凹部及凸部，在上述轉印區域設置有標記部，上述凸部的高度低於轉印區域的其他部分的凸部的高度。
简体摘要：本发明提供一种可容易地识别具有微细凹凸结构的成形体的缺陷部位，并且在卷取该成形体时，亦会防止微细凹凸结构变形的微细凹凸转印用模具。上述模具用于制造在表面具有周期为可见光的波长以下的多个凸部、及形成于邻接的该凸部之间的多个凹部的光学物品。上述模具的特征在于：在表面具有转印区域，上述转印区域设置有具有与上述光学物品的凸部及凹部互补的尺寸形状的凹部及凸部，在上述转印区域设置有标记部，上述凸部的高度低于转印区域的其他部分的凸部的高度。

2. 发明专利

TWI444279B 表面上具有微細凹凸構造之物品的製造方法、模具的離型處理方法以及模具表面離型處理用活性能量線硬化性樹脂組成物有权
简体标题：表面上具有微细凹凸构造之物品的制造方法、模具的离型处理方法以及模具表面离型处理用活性能量线硬化性树脂组成物
公开(公告)号：TWI444279B
公开(公告)日：2014-07-11
申请号：TW100119868
申请日：2011-06-07
申请人：三菱麗陽股份有限公司 , MITSUBISHI RAYON CO., LTD.
发明人：地紙哲哉 , JIGAMI, TETSUYA , 內田雅行 , UCHIDA, MASAYUKI , 牧野伸治 , MAKINO, SHINJI , 中村雅 , NAKAMURA, TADASHI , 川副隆也 , KAWASOE, TAKAYA
IPC分类号： B29C33/38 , B29C33/56 , C09D133/04 , C09D4/00 , C08K5/521 , C07F7/12
CPC分类号： B29C41/42 , B29C33/62 , B29C43/222 , B29C43/28 , B29C59/04 , B29C2059/023 , B32B38/06 , C08F283/065 , H01L31/02168 , H01L31/02366 , Y02E10/50 , C08F222/20

3. 发明专利

TW201641577A 活性能量線硬化性樹脂組成物及物品审中-公开
简体标题：活性能量线硬化性树脂组成物及物品
公开(公告)号：TW201641577A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW105109149
申请日：2016-03-24
申请人：三菱麗陽股份有限公司 , MITSUBISHI RAYON CO., LTD.
发明人：大谷剛 , OTANI, GO , 中井祐介 , NAKAI, YUSUKE , 地紙哲哉 , JIGAMI, TETSUYA
IPC分类号： C08L33/06 , C08K5/521 , B32B3/30 , B32B27/00 , B29C59/02 , B29C59/16 , G02B1/11
CPC分类号： B29C59/02 , C08F2/50 , C08F290/06 , G02B1/18
摘要：一種物品，其於表面具有多個凸部，所述多個凸部的鄰接的凸部彼此的平均間隔為400 nm以下，所述多個凸部包含活性能量線硬化性樹脂組成物的硬化物，所述物品的具有所述多個凸部的部分的水接觸角度為80度以上，所述活性能量線硬化樹脂性組成物含有聚合性成分（P）與光聚合起始劑（E）及內部脫模劑（F），且含有磷酸單烷基酯及磷酸二烷基酯的至少一者作為所述內部脫模劑（F）。
简体摘要：一种物品，其于表面具有多个凸部，所述多个凸部的邻接的凸部彼此的平均间隔为400 nm以下，所述多个凸部包含活性能量线硬化性树脂组成物的硬化物，所述物品的具有所述多个凸部的部分的水接触角度为80度以上，所述活性能量线硬化树脂性组成物含有聚合性成分（P）与光聚合起始剂（E）及内部脱模剂（F），且含有磷酸单烷基酯及磷酸二烷基酯的至少一者作为所述内部脱模剂（F）。

4. 发明专利

TWI500954B 積層體、抗反射物品、圖像顯示裝置以及觸控面板有权
简体标题：积层体、抗反射物品、图像显示设备以及触摸皮肤
公开(公告)号：TWI500954B
公开(公告)日：2015-09-21
申请号：TW102121151
申请日：2013-06-14
申请人：三菱麗陽股份有限公司 , MITSUBISHI RAYON CO., LTD.
发明人：藤山恒祐 , FUJIYAMA, KOUSUKE , 守誠一朗 , MORI, SEIICHIRO , 大谷剛 , OTANI, GO , 井川雅資 , IKAWA, MASASHI , 中井祐介 , NAKAI, YUSUKE , 地紙哲哉 , JIGAMI, TETSUYA
IPC分类号： G02B1/10 , B32B27/30 , B32B7/02
CPC分类号： G02B1/111 , B32B3/30 , B32B27/08 , B32B27/16 , B32B27/308 , B32B2307/412 , B32B2307/51 , B32B2307/554 , B32B2307/584 , B32B2307/728 , B32B2457/20 , G02B1/118 , G02B1/18 , G02B27/0006 , Y10T428/24355

5. 发明专利

TW201504059A 積層結構體及其製造方法、物品审中-公开
简体标题：积层结构体及其制造方法、物品
公开(公告)号：TW201504059A
公开(公告)日：2015-02-01
申请号：TW103112576
申请日：2014-04-03
申请人：三菱麗陽股份有限公司 , MITSUBISHI RAYON CO., LTD.
发明人：中井祐介 , NAKAI, YUSUKE , 大谷剛 , OTANI, GO , 小澤覚 , OZAWA, SATORU , 地紙哲哉 , JIGAMI, TETSUYA
IPC分类号： B32B7/02 , B32B3/30 , B32B27/30 , B32B37/00 , B29C41/30 , B29C41/32 , B29C59/16 , G02B1/10 , G09F9/00
CPC分类号： B32B3/30 , B29C35/0805 , B29C35/10 , B29C39/148 , B29C41/26 , B29C59/046 , B29C2035/0827 , B29K2033/04 , B32B27/06 , B32B27/08 , B32B27/16 , B32B2307/51 , B32B2307/7265 , G02B1/118 , G02B5/0294
摘要：本發明提供一種積層結構體，其是基材、中間層及最表層依序積層而成的積層結構體，並且中間層的馬氏硬度為120N/mm2以上，最表層的彈性回復率為70%以上，且最表層於表面上具有週期為可見光的波長以下的微細凹凸結構。本發明提供一種積層結構體的製造方法，製造基材、中間層及最表層依序積層而成的積層結構體，並且所述積層結構體的製造方法包括下述步驟(1)~步驟(3)。步驟(1)：於光透射性基材上配置活性能量線硬化性的樹脂組成物(X)，然後進行第1活性能量線照射，形成中間層的步驟，所述活性能量線硬化性的樹脂組成物(X)含有具有聚合性官能基的化合物，所述中間層的表面的聚合性官能基的反應率為35mol%~85mol%。步驟(2)：於中間層與微細凹凸結構轉印用的模具之間，配置活性能量線硬化性的樹脂組成物(Y)的步驟。步驟(3)：自基材側進行第2活性能量線照射，使樹脂組成物(Y)硬化而形成最表層，將積層結構體自模具脫模的步驟。
简体摘要：本发明提供一种积层结构体，其是基材、中间层及最表层依序积层而成的积层结构体，并且中间层的马氏硬度为120N/mm2以上，最表层的弹性回复率为70%以上，且最表层于表面上具有周期为可见光的波长以下的微细凹凸结构。本发明提供一种积层结构体的制造方法，制造基材、中间层及最表层依序积层而成的积层结构体，并且所述积层结构体的制造方法包括下述步骤(1)~步骤(3)。步骤(1)：于光透射性基材上配置活性能量线硬化性的树脂组成物(X)，然后进行第1活性能量线照射，形成中间层的步骤，所述活性能量线硬化性的树脂组成物(X)含有具有聚合性官能基的化合物，所述中间层的表面的聚合性官能基的反应率为35mol%~85mol%。步骤(2)：于中间层与微细凹凸结构转印用的模具之间，配置活性能量线硬化性的树脂组成物(Y)的步骤。步骤(3)：自基材侧进行第2活性能量线照射，使树脂组成物(Y)硬化而形成最表层，将积层结构体自模具脱模的步骤。

6. 发明专利

TW201422439A 積層結構體及其製造方法與物品审中-公开
简体标题：积层结构体及其制造方法与物品
公开(公告)号：TW201422439A
公开(公告)日：2014-06-16
申请号：TW102137598
申请日：2013-10-18
申请人：三菱麗陽股份有限公司 , MITSUBISHI RAYON CO., LTD.
发明人：中井祐介 , NAKAI, YUSUKE , 大谷剛 , OTANI, GO , 地紙哲哉 , JIGAMI, TETSUYA
IPC分类号： B32B7/02 , B32B3/26 , B32B27/30 , G02B1/11
CPC分类号： B29C59/046 , B29C2059/023 , B32B3/30 , B32B27/06 , B32B27/308 , B32B2307/51 , B32B2307/554 , B32B2307/584 , G02B1/115 , G02B1/118 , G02B5/0231 , G02B5/0236 , G02B5/0268
摘要：本發明的積層結構體是積層有兩個以上的層的積層結構體，其中於至少兩層的表面具有微細凹凸結構，且任意層的微細凹凸結構的凹部及凸部是與其他至少一層的微細凹凸結構的凹部及凸部不同地配置，界面未經脫模處理。另外，本發明的積層結構體積層有兩個以上的層，其中最表層為在表面不具有微細凹凸結構的層，於最表層以外的至少一層的表面具有微細凹凸結構。另外，本發明的物品在表面具備本發明的積層結構體。另外，本發明的積層結構體的製造方法是藉由使用模具的轉印法來形成上述微細凹凸結構。
简体摘要：本发明的积层结构体是积层有两个以上的层的积层结构体，其中于至少两层的表面具有微细凹凸结构，且任意层的微细凹凸结构的凹部及凸部是与其他至少一层的微细凹凸结构的凹部及凸部不同地配置，界面未经脱模处理。另外，本发明的积层结构体积层有两个以上的层，其中最表层为在表面不具有微细凹凸结构的层，于最表层以外的至少一层的表面具有微细凹凸结构。另外，本发明的物品在表面具备本发明的积层结构体。另外，本发明的积层结构体的制造方法是借由使用模具的转印法来形成上述微细凹凸结构。

7. 发明专利

TWI569947B 活性能線硬化性樹脂組合物及表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法有权
简体标题：活性能线硬化性树脂组合物及表面具有微细凹凸结构的物品的制造方法
公开(公告)号：TWI569947B
公开(公告)日：2017-02-11
申请号：TW100110149
申请日：2011-03-24
申请人：三菱麗陽股份有限公司 , MITSUBISHI RAYON CO., LTD.
发明人：中井祐介 , NAKAI, YUSUKE , 中村雅 , NAKAMURA, TADASHI , 地紙哲哉 , JIGAMI, TETSUYA , 小澤覺 , OZAWA, SATORU , 岡本英子 , OKAMOTO, EIKO
IPC分类号： B29C59/16 , B29C33/58 , G03F7/028 , C08K5/5333
CPC分类号： G02B1/118 , B29C33/58 , B29C39/148 , B29C39/18 , B29C59/046 , B29C2035/0827 , B29C2035/0833 , B29K2995/0093 , C08G65/3351 , C08G65/3353 , C08L71/02 , C09D171/02 , G02B27/0006

8. 发明专利

TWI547378B 積層結構體及其製造方法、物品有权
简体标题：积层结构体及其制造方法、物品
公开(公告)号：TWI547378B
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW103112576
申请日：2014-04-03
申请人：三菱麗陽股份有限公司 , MITSUBISHI RAYON CO., LTD.
发明人：中井祐介 , NAKAI, YUSUKE , 大谷剛 , OTANI, GO , 小澤覚 , OZAWA, SATORU , 地紙哲哉 , JIGAMI, TETSUYA
IPC分类号： B32B7/02 , B32B3/30 , B32B27/30 , B32B37/00 , B29C41/30 , B29C41/32 , B29C59/16 , G02B1/10 , G09F9/00
CPC分类号： B32B3/30 , B29C35/0805 , B29C35/10 , B29C39/148 , B29C41/26 , B29C59/046 , B29C2035/0827 , B29K2033/04 , B32B27/06 , B32B27/08 , B32B27/16 , B32B2307/51 , B32B2307/7265 , G02B1/118 , G02B5/0294

9. 发明专利

TW201520028A 構造體及其製造方法以及具備前述構造體的物品审中-公开
简体标题：构造体及其制造方法以及具备前述构造体的物品
公开(公告)号：TW201520028A
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：TW103132189
申请日：2014-09-18
申请人：三菱麗陽股份有限公司 , MITSUBISHI RAYON CO., LTD.
发明人：守誠一朗 , MORI, SEIICHIRO , 藤山恒祐 , FUJIYAMA, KOUSUKE , 大谷剛 , OTANI, GO , 中井祐介 , NAKAI, YUSUKE , 地紙哲哉 , JIGAMI, TETSUYA
IPC分类号： B29C59/02 , B29C59/04
CPC分类号： B29C43/58 , B22C9/061 , B29C35/0805 , B29C43/222 , B29C43/46 , B29C59/046 , B29C2035/0827 , B29C2043/463 , B29C2043/467 , B29K2105/0002 , B29K2995/0093 , B29L2007/001 , B29L2011/00 , B32B3/30 , B32B27/06 , B32B27/308 , B32B2307/102 , B32B2307/304 , B32B2307/51 , B32B2419/00 , B32B2439/00 , B32B2551/00 , C25D11/12 , C25D11/16 , G01N3/56 , G02B1/11 , G02B1/118
摘要：本發明是有關於一種構造體，其具有基材、及設置於所述基材的至少一面上的微細凹凸構造層，所述微細凹凸構造層配置於所述構造體的表面，所述構造體的壓入彈性模數為1MPa~1300MPa，且由以下的式(1)所表示的所述構造體表面的動摩擦係數的變化率的比(△μ)為0.15~1.05。根據本發明，可提供一種無損抗反射性能等光學性能、且耐擦傷性優異的構造體及其製造方法，以及具備前述構造體的物品。 △μ=△μf/△μs…(1) (式(1)中，△μs表示構造體表面的往返磨耗試驗中的初期磨耗階段的動摩擦係數的變化率，△μf表示構造體表面的往返磨耗試驗中的試驗即將結束之前的動摩擦係數的變化率。)
简体摘要：本发明是有关于一种构造体，其具有基材、及设置于所述基材的至少一面上的微细凹凸构造层，所述微细凹凸构造层配置于所述构造体的表面，所述构造体的压入弹性模数为1MPa~1300MPa，且由以下的式(1)所表示的所述构造体表面的动摩擦系数的变化率的比(△μ)为0.15~1.05。根据本发明，可提供一种无损抗反射性能等光学性能、且耐擦伤性优异的构造体及其制造方法，以及具备前述构造体的物品。 △μ=△μf/△μs…(1) (式(1)中，△μs表示构造体表面的往返磨耗试验中的初期磨耗阶段的动摩擦系数的变化率，△μf表示构造体表面的往返磨耗试验中的试验即将结束之前的动摩擦系数的变化率。)

10. 发明专利

TW201405159A 積層體、抗反射物品、圖像顯示裝置以及觸控面板审中-公开
简体标题：积层体、抗反射物品、图像显示设备以及触摸皮肤
公开(公告)号：TW201405159A
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW102121151
申请日：2013-06-14
申请人：三菱麗陽股份有限公司 , MITSUBISHI RAYON CO., LTD.
发明人：藤山恒祐 , FUJIYAMA, KOUSUKE , 守誠一朗 , MORI, SEIICHIRO , 大谷剛 , OTANI, GO , 井川雅資 , IKAWA, MASASHI , 中井祐介 , NAKAI, YUSUKE , 地紙哲哉 , JIGAMI, TETSUYA
IPC分类号： G02B1/10 , B32B27/30 , B32B7/02
CPC分类号： G02B1/111 , B32B3/30 , B32B27/08 , B32B27/16 , B32B27/308 , B32B2307/412 , B32B2307/51 , B32B2307/554 , B32B2307/584 , B32B2307/728 , B32B2457/20 , G02B1/118 , G02B1/18 , G02B27/0006 , Y10T428/24355
摘要：本實施形態的目的在於提供一種積層體，其具備可容易地去除污垢的防污性與耐擦傷性優異的表層。本實施形態的積層體具備表層，該表層具有形成有微細凹凸結構的表面，並且上述表層的彈性模量小於250 MPa，且上述表層的摩擦係數的斜率為0.0018以下。
简体摘要：本实施形态的目的在于提供一种积层体，其具备可容易地去除污垢的防污性与耐擦伤性优异的表层。本实施形态的积层体具备表层，该表层具有形成有微细凹凸结构的表面，并且上述表层的弹性模量小于250 MPa，且上述表层的摩擦系数的斜率为0.0018以下。

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