专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201624120A 微影用共聚合物的製造方法审中-公开
简体标题：微影用共聚合物的制造方法
公开(公告)号：TW201624120A
公开(公告)日：2016-07-01
申请号：TW105110453
申请日：2013-03-05
申请人：三菱麗陽股份有限公司 , MITSUBISHI RAYON CO., LTD.
发明人：安田敦 , YASUDA,ATSUSHI , 押切友也 , OSHIKIRA,TOMOYA , 中条美帆 , CHUJO,MIHO
IPC分类号： G03F7/004 , C08F2/04
CPC分类号： C08F24/00 , C08F220/18 , C08F220/20 , C09D4/00 , G03F7/004 , G03F7/0397 , G03F7/20
摘要：一種微影用共聚合物，其包括含有酸脫離性基的單體單元、及不含酸脫離性基的單體單元，於藉由凝膠滲透層析法（GPC）所獲得的溶出曲線中相當於共聚合物的波峰的溶離液以體積變成均等的方式分割成5個餾分，其中按溶出順序，將自最早溶出的第1個至第4個為止的各餾分中所含有的共聚合物中的含有酸脫離性基的單體單元的比率稱為N（v1 ）莫耳%～N（v4 ）莫耳%，並將5個餾分合計所含有的共聚合物中的含有酸脫離性基的單體單元的比率稱為Nave 莫耳%，此時N（v1 ）/Nave 為1.01～1.09，N（v2 ）/Nave 、N（v3 ）/Nave 、及N（v4 ）/Nave 均為0.95～1.05。
简体摘要：一种微影用共聚合物，其包括含有酸脱离性基的单体单元、及不含酸脱离性基的单体单元，于借由凝胶渗透层析法（GPC）所获得的溶出曲线中相当于共聚合物的波峰的溶离液以体积变成均等的方式分割成5个馏分，其中按溶出顺序，将自最早溶出的第1个至第4个为止的各馏分中所含有的共聚合物中的含有酸脱离性基的单体单元的比率称为N（v1 ）莫耳%～N（v4 ）莫耳%，并将5个馏分合计所含有的共聚合物中的含有酸脱离性基的单体单元的比率称为Nave 莫耳%，此时N（v1 ）/Nave 为1.01～1.09，N（v2 ）/Nave 、N（v3 ）/Nave 、及N（v4 ）/Nave 均为0.95～1.05。

2. 发明专利

TWI534533B 微影用共聚合物及其製造方法、抗蝕劑組成物、以及基板的製造方法有权
简体标题：微影用共聚合物及其制造方法、抗蚀剂组成物、以及基板的制造方法
公开(公告)号：TWI534533B
公开(公告)日：2016-05-21
申请号：TW102107723
申请日：2013-03-05
申请人：三菱麗陽股份有限公司 , MITSUBISHI RAYON CO., LTD.
发明人：安田敦 , YASUDA, ATSUSHI , 押切友也 , OSHIKIRI, TOMOYA , 中条美帆 , CHUJO, MIHO
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： C08F24/00 , C08F220/18 , C08F220/20 , C09D4/00 , G03F7/004 , G03F7/0397 , G03F7/20

3. 发明专利

TWI540383B 微影製程用共聚合物及其製造方法、抗蝕劑組成物、形成有圖案的基板的製造方法、共聚合物的評價方法、共聚合物組成分析方法有权
简体标题：微影制程用共聚合物及其制造方法、抗蚀剂组成物、形成有图案的基板的制造方法、共聚合物的评价方法、共聚合物组成分析方法
公开(公告)号：TWI540383B
公开(公告)日：2016-07-01
申请号：TW100137365
申请日：2011-10-14
申请人：三菱麗陽股份有限公司 , MITSUBISHI RAYON CO., LTD.
发明人：安田敦 , YASUDA, ATSUSHI , 押切友也 , OSHIKIRI, TOMOYA , 百瀬陽 , MOMOSE, HIKARU
IPC分类号： G03F7/004 , H01L21/027 , G01N24/08 , G01N33/44 , G06F19/00 , C08L101/00
CPC分类号： G03F7/004 , C08F2/00 , C08F120/28 , C08F220/18 , C08F220/20 , C08F220/28 , C08F2220/283 , C08F2400/02 , G01N24/085 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/20

4. 发明专利

TWI526454B 聚合物及其製造方法有权
简体标题：聚合物及其制造方法
公开(公告)号：TWI526454B
公开(公告)日：2016-03-21
申请号：TW101119241
申请日：2012-05-30
申请人：三菱麗陽股份有限公司 , MITSUBISHI RAYON CO., LTD.
发明人：押切友也 , OSHIKIRI, TOMOYA , 安田敦 , YASUDA, ATSUSHI
IPC分类号： C08F2/44 , G03F7/028
CPC分类号： C08F2/38 , C08F4/04 , C08F20/18 , C08F220/18 , C08F2438/03 , G03F7/0392 , G03F7/0397

5. 发明专利

TW201348860A 微影用共聚合物及其製造方法、抗蝕劑組成物、以及基板的製造方法审中-公开
简体标题：微影用共聚合物及其制造方法、抗蚀剂组成物、以及基板的制造方法
公开(公告)号：TW201348860A
公开(公告)日：2013-12-01
申请号：TW102107723
申请日：2013-03-05
申请人：三菱麗陽股份有限公司 , MITSUBISHI RAYON CO., LTD.
发明人：安田敦 , YASUDA, ATSUSHI , 押切友也 , OSHIKIRI, TOMOYA , 中条美帆 , CHUJO, MIHO
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： C08F24/00 , C08F220/18 , C08F220/20 , C09D4/00 , G03F7/004 , G03F7/0397 , G03F7/20
摘要：一種微影用共聚合物，其包括含有酸脫離性基的單體單元、及不含酸脫離性基的單體單元，於藉由凝膠滲透層析法(GPC)所獲得的溶出曲線中相當於共聚合物的波峰的溶離液以體積變成均等的方式分割成5個餾分，其中按溶出順序，將自最早溶出的第1個至第4個為止的各餾分中所含有的共聚合物中的含有酸脫離性基的單體單元的比率稱為N(v1)莫耳%~N(v4)莫耳%，並將5個餾分合計所含有的共聚合物中的含有酸脫離性基的單體單元的比率稱為Nave莫耳%，此時N(v1)/Nave為1.01~1.09，N(v2)/Nave、N(v3)/Nave、及N(v4)/Nave均為0.95~1.05。
简体摘要：一种微影用共聚合物，其包括含有酸脱离性基的单体单元、及不含酸脱离性基的单体单元，于借由凝胶渗透层析法(GPC)所获得的溶出曲线中相当于共聚合物的波峰的溶离液以体积变成均等的方式分割成5个馏分，其中按溶出顺序，将自最早溶出的第1个至第4个为止的各馏分中所含有的共聚合物中的含有酸脱离性基的单体单元的比率称为N(v1)莫耳%~N(v4)莫耳%，并将5个馏分合计所含有的共聚合物中的含有酸脱离性基的单体单元的比率称为Nave莫耳%，此时N(v1)/Nave为1.01~1.09，N(v2)/Nave、N(v3)/Nave、及N(v4)/Nave均为0.95~1.05。

6. 发明专利

TW201114782A 聚合體的製造方法、微影用聚合體、光阻組成物及基板的製造方法 METHOD FOR PRODUCING POLYMER, POLYMER FOR LITHOGRAPHY, COMPOSITION FOR RESIST AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE 审中-公开
简体标题：聚合体的制造方法、微影用聚合体、光阻组成物及基板的制造方法 METHOD FOR PRODUCING POLYMER, POLYMER FOR LITHOGRAPHY, COMPOSITION FOR RESIST AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE
公开(公告)号：TW201114782A
公开(公告)日：2011-05-01
申请号：TW099122354
申请日：2010-07-07
申请人：三菱麗陽股份有限公司
发明人：安田敦 , 押切友也 , 松本大祐 , 加藤圭輔 , 前田晉一
IPC分类号： C08F , G03F , H01L
CPC分类号： C08F24/00 , C08F2/00 , C08F297/026 , C08F2500/06 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/085
摘要：一種聚合體的製造方法，可改善共聚體中構成單元含有比率的變動及分子量的變動，且可提高在溶劑中的溶解性及用於光阻組成物時的感度。該方法包括一邊向反應器內滴加單體及聚合起始劑，一邊將兩種以上的單體聚合而獲得聚合體的聚合步驟，且於聚合步驟的初期供給以第1組成含有單體的第1溶液。於第1溶液的供給開始後或同時，開始滴加以第2組成含有單體的第2溶液。第2組成與所欲獲得的聚合體的目標組成相同，第1組成是增加考慮目標組成、及用於聚合的各單體的反應性而預先求出的組成。另外，提高聚合步驟的初期的聚合起始劑的滴加速度。
简体摘要：一种聚合体的制造方法，可改善共聚体中构成单元含有比率的变动及分子量的变动，且可提高在溶剂中的溶解性及用于光阻组成物时的感度。该方法包括一边向反应器内滴加单体及聚合起始剂，一边将两种以上的单体聚合而获得聚合体的聚合步骤，且于聚合步骤的初期供给以第1组成含有单体的第1溶液。于第1溶液的供给开始后或同时，开始滴加以第2组成含有单体的第2溶液。第2组成与所欲获得的聚合体的目标组成相同，第1组成是增加考虑目标组成、及用于聚合的各单体的反应性而预先求出的组成。另外，提高聚合步骤的初期的聚合起始剂的滴加速度。

7. 发明专利

TWI584063B 微影用共聚合物的製造方法有权
简体标题：微影用共聚合物的制造方法
公开(公告)号：TWI584063B
公开(公告)日：2017-05-21
申请号：TW105110453
申请日：2013-03-05
申请人：三菱麗陽股份有限公司 , MITSUBISHI RAYON CO., LTD.
发明人：安田敦 , YASUDA,ATSUSHI , 押切友也 , OSHIKIRA,TOMOYA , 中条美帆 , CHUJO,MIHO
IPC分类号： G03F7/004 , C08F2/04
CPC分类号： C08F24/00 , C08F220/18 , C08F220/20 , C09D4/00 , G03F7/004 , G03F7/0397 , G03F7/20

8. 发明专利

TWI455948B 聚合體的製造方法、微影用聚合體、光阻組成物及基板的製造方法有权
简体标题：聚合体的制造方法、微影用聚合体、光阻组成物及基板的制造方法
公开(公告)号：TWI455948B
公开(公告)日：2014-10-11
申请号：TW099122354
申请日：2010-07-07
申请人：三菱麗陽股份有限公司 , MITSUBISHI RAYON CO., LTD.
发明人：安田敦 , YASUDA, ATSUSHI , 押切友也 , OSHIKIRI, TOMOYA , 松本大祐 , MATSUMOTO, DAISUKE , 加藤圭輔 , KATOU, KEISUKE , 前田晉一 , MAEDA, SHINICHI
IPC分类号： C08F2/44 , C08F20/28 , C08F20/18 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： C08F24/00 , C08F2/00 , C08F297/026 , C08F2500/06 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/085

9. 发明专利

TW201302805A 聚合物及其製造方法审中-公开
简体标题：聚合物及其制造方法
公开(公告)号：TW201302805A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：TW101119241
申请日：2012-05-30
申请人：三菱麗陽股份有限公司 , MITSUBISHI RAYON CO., LTD.
发明人：押切友也 , OSHIKIRA, TOMOYA , 安田敦 , YASUDA, ATSUSHI
IPC分类号： C08F2/44 , G03F7/028
CPC分类号： C08F2/38 , C08F4/04 , C08F20/18 , C08F220/18 , C08F2438/03 , G03F7/0392 , G03F7/0397
摘要：本發明可藉由以下製造方法以高聚合率製造以下聚合物，該聚合物的殘存於聚合物末端的鏈轉移劑殘基減少，且分子量的不均一得到改善，上述製造方法是將於反應器內至少供給有單體及鏈轉移劑、且反應器內的液體溫度達到預先設定的聚合溫度的時間點作為開始時刻T0，將開始使聚合反應停止的操作的時間點作為結束時刻T1。於自T0起至即將到達[(T1-T0)/2]之前為止之間、及自[(T1-T0)/2]起至T1為止之間，於反應器內供給聚合起始劑。將自T0起至T1為止供給的聚合起始劑的合計質量設定為IA，將自[(T1-T0)/2]起至T1為止供給的聚合起始劑的合計質量設定為IB。IA為聚合起始劑的總量中的50質量%~100質量%，且滿足0.50
简体摘要：本发明可借由以下制造方法以高聚合率制造以下聚合物，该聚合物的残存于聚合物末端的链转移剂残基减少，且分子量的不均一得到改善，上述制造方法是将于反应器内至少供给有单体及链转移剂、且反应器内的液体温度达到预先设置的聚合温度的时间点作为开始时刻T0，将开始使聚合反应停止的操作的时间点作为结束时刻T1。于自T0起至即将到达[(T1-T0)/2]之前为止之间、及自[(T1-T0)/2]起至T1为止之间，于反应器内供给聚合起始剂。将自T0起至T1为止供给的聚合起始剂的合计质量设置为IA，将自[(T1-T0)/2]起至T1为止供给的聚合起始剂的合计质量设置为IB。IA为聚合起始剂的总量中的50质量%~100质量%，且满足0.50

10. 发明专利

TW201222146A 微影製程用共聚合物及其製造方法、抗蝕劑組成物、形成有圖案的基板的製造方法、共聚合物的評價方法、共聚合物組成分析方法 LITHOGRAPHY COPOLYMER AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, RESIST COMPOSITION, PATTERNED SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD, COPOLYMER EVALUATION METHOD, AND COPOLYMER COMPOSITION ANALYZING METHOD 审中-公开
简体标题：微影制程用共聚合物及其制造方法、抗蚀剂组成物、形成有图案的基板的制造方法、共聚合物的评价方法、共聚合物组成分析方法 LITHOGRAPHY COPOLYMER AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, RESIST COMPOSITION, PATTERNED SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD, COPOLYMER EVALUATION METHOD, AND COPOLYMER COMPOSITION ANALYZING METHOD
公开(公告)号：TW201222146A
公开(公告)日：2012-06-01
申请号：TW100137365
申请日：2011-10-14
申请人：三菱麗陽股份有限公司
发明人：安田敦 , 押切友也 , 百瀬陽
IPC分类号： G03F , H01L , G01N , G06F , C08L
CPC分类号： G03F7/004 , C08F2/00 , C08F120/28 , C08F220/18 , C08F220/20 , C08F220/28 , C08F2220/283 , C08F2400/02 , G01N24/085 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/20
摘要：於目標變數分析部(11)中,根據單體單元的共聚合反應性比算出共聚合物的已知樣品的組成中的單體單元的三單元組分率,而獲得目標變數,於波形處理部(12)中,進行NMR測定及信號等的處理,於說明變數分析部(13)中,根據該已知樣品的NMR測定中的化學位移量及信號强度而獲得說明變數,於模型生成部(14)中,藉由部分最小平方回歸而求出目標變數與說明變數的回歸模型的回歸式,獲得回歸模型的係數,於樣品分析部(15)中,使用上述回歸模型,根據未知樣品共聚合物的NMR測定中的化學位移量與信號强度,以算出該未知樣品中的三單元組分率的方法算出。藉由使用以上述方式所獲得的三單元組分率的合計於共聚合物中為20莫耳%以下的微影製程用共聚合物,可製備溶解性及感光度優異的抗蝕劑組成物。
简体摘要：于目标变量分析部(11)中,根据单体单元的共聚合反应性比算出共聚合物的已知样品的组成中的单体单元的三单元组分率,而获得目标变量,于波形处理部(12)中,进行NMR测定及信号等的处理,于说明变量分析部(13)中,根据该已知样品的NMR测定中的化学位移量及信号强度而获得说明变量,于模型生成部(14)中,借由部分最小平方回归而求出目标变量与说明变量的回归模型的回归式,获得回归模型的系数,于样品分析部(15)中,使用上述回归模型,根据未知样品共聚合物的NMR测定中的化学位移量与信号强度,以算出该未知样品中的三单元组分率的方法算出。借由使用以上述方式所获得的三单元组分率的合计于共聚合物中为20莫耳%以下的微影制程用共聚合物,可制备溶解性及感光度优异的抗蚀剂组成物。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式