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1. 发明专利

TW201244137A 刻劃碲化鎘太陽能電池的薄膜層之方法及設備 METHOD AND APPARATUS TO SCRIBE THIN FILM LAYERS OF CADMIUM TELLURIDE SOLAR CELLS 审中-公开
简体标题：刻划碲化镉太阳能电池的薄膜层之方法及设备 METHOD AND APPARATUS TO SCRIBE THIN FILM LAYERS OF CADMIUM TELLURIDE SOLAR CELLS
公开(公告)号：TW201244137A
公开(公告)日：2012-11-01
申请号：TW101111738
申请日：2012-04-02
申请人： ESI 派羅弗特尼克斯雷射股份有限公司
发明人：潘那瑞羅土立歐 , 瑞考馬修 , 幕力森李察德
IPC分类号： H01L
CPC分类号： Y02E10/50 , Y02P70/521
摘要：一種雷射刻畫CdTe太陽能電池結構之方法包括提供可操作以產生光脈衝之雷射。光脈衝以時間輪廓為特徵,該時間輪廓在光脈衝之第一部分期間具有第一功率位准且在光脈衝之第二部分期間具有小於第一功率位准之第二功率位准。方法亦包括引導光脈衝以照射CdTe太陽能電池結構。CdTe太陽能電池結構包括基板、鄰近於基板之透射譜控制層、鄰近於透射譜控制層之障壁層,及鄰近於障壁層之導電層。方法進一步包括以下步驟:起始導電層之移除程序及在移除絕緣層之前終止移除程序。
简体摘要：一种激光刻画CdTe太阳能电池结构之方法包括提供可操作以产生光脉冲之激光。光脉冲以时间轮廓为特征,该时间轮廓在光脉冲之第一部分期间具有第一功率位准且在光脉冲之第二部分期间具有小于第一功率位准之第二功率位准。方法亦包括引导光脉冲以照射CdTe太阳能电池结构。CdTe太阳能电池结构包括基板、邻近于基板之透射谱控制层、邻近于透射谱控制层之障壁层,及邻近于障壁层之导电层。方法进一步包括以下步骤:起始导电层之移除进程及在移除绝缘层之前终止移除进程。

2. 发明专利

TW201141644A 使用具有利的脈衝形狀之雷射脈衝的脈衝串在薄膜材料中劃線的方法及設備 METHOD AND APPARATUS TO SCRIBE A LINE IN A THIN FILM MATERIAL USING A BURST OF LASER PULSES WITH BENEFICIAL PULSE SHAPE 审中-公开
简体标题：使用具有利的脉冲形状之激光脉冲的脉冲串在薄膜材料中划线的方法及设备 METHOD AND APPARATUS TO SCRIBE A LINE IN A THIN FILM MATERIAL USING A BURST OF LASER PULSES WITH BENEFICIAL PULSE SHAPE
公开(公告)号：TW201141644A
公开(公告)日：2011-12-01
申请号：TW099132376
申请日：2010-09-24
申请人： ESI 派羅弗特尼克斯雷射股份有限公司
发明人：潘那瑞羅土立歐 , 瑞考馬修 , 幕力森李察德
IPC分类号： B23K
CPC分类号： B23K26/364 , B23K26/0622 , B23K26/40 , B23K2203/42 , B23K2203/50
摘要：一脈衝列內的一系列雷射脈衝在一基材上的薄膜材料中劃線，每一個脈衝均具一有利的時間功率形狀而非習知的時間功率形狀。該有利的時間脈衝形狀擁有尖峰/平原椅形或方形脈衝形狀。在該薄膜中劃線係藉由將該系列雷射脈衝光點設置在欲劃的線上，使得沿著該線之毗鄰雷射脈衝光點間具有重疊區來達成。使用具有利脈衝形狀之一系列雷射脈衝以在該薄膜中劃線，與利用習知脈衝形狀者相比，會造成較佳品質及較乾淨的劃線製程。
简体摘要：一脉冲列内的一系列激光脉冲在一基材上的薄膜材料中划线，每一个脉冲均具一有利的时间功率形状而非习知的时间功率形状。该有利的时间脉冲形状拥有尖峰/平原椅形或方形脉冲形状。在该薄膜中划线系借由将该系列激光脉冲光点设置在欲划的在线，使得沿着该线之毗邻激光脉冲光点间具有重叠区来达成。使用具有利脉冲形状之一系列激光脉冲以在该薄膜中划线，与利用习知脉冲形状者相比，会造成较佳品质及较干净的划线制程。

3. 发明专利

TW201330432A 以脈衝雷射源發射預定輸出脈衝輪廓之方法及系統审中-公开
简体标题：以脉冲激光源发射预定输出脉冲轮廓之方法及系统
公开(公告)号：TW201330432A
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：TW101145822
申请日：2012-12-06
申请人： ESI派羅弗特尼克斯雷射股份有限公司 , ESI-PYROPHOTONICS LASERS INC.
发明人：布朗薛特吉約姆 , BLANCHETTE, GUILLAUME , 慕里森理察 , MURISON, RICHARD , 萊德畢諾特 , REID, BENOIT
IPC分类号： H01S3/10 , H01S3/067
CPC分类号： H01S3/06758 , H01S3/0085 , H01S3/10015 , H01S3/1301
摘要：本發明揭示一種操作一光學放大器之方法，其包括判定該光學放大器之一增益及提供一調變器驅動信號至一光學信號源。該調變器驅動信號係該光學放大器之該增益之一函數。該方法亦包括使用該光學信號源產生一輸入光學信號。該輸入光學信號包括第一複數個脈衝，該第一複數個脈衝之各者具有有關於該調變器驅動信號之一振幅。該方法進一步包括將該輸入光學信號耦合至該光學放大器及使用該光學放大器放大該輸入光學信號以產生包括第二複數個脈衝之一輸出光學信號。
简体摘要：本发明揭示一种操作一光学放大器之方法，其包括判定该光学放大器之一增益及提供一调制器驱动信号至一光学信号源。该调制器驱动信号系该光学放大器之该增益之一函数。该方法亦包括使用该光学信号源产生一输入光学信号。该输入光学信号包括第一复数个脉冲，该第一复数个脉冲之各者具有有关于该调制器驱动信号之一振幅。该方法进一步包括将该输入光学信号耦合至该光学放大器及使用该光学放大器放大该输入光学信号以产生包括第二复数个脉冲之一输出光学信号。

4. 发明专利

TW201634165A 使用一系列雷射脈衝用於鑽孔之方法與裝置审中-公开
简体标题：使用一系列激光脉冲用于钻孔之方法与设备
公开(公告)号：TW201634165A
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW105116683
申请日：2011-05-04
申请人： ESI 派羅弗特尼克斯雷射股份有限公司 , ESI-PYROPHOTONICS LASERS, INC.
发明人：幕力森李察德 , MURISON, RICHARD , 瑞考馬修 , REKOW, MATTHEW
IPC分类号： B23K26/38
CPC分类号： B23K26/40 , B23K26/0622 , B23K26/382 , B23K2201/40 , B23K2203/12 , B23K2203/172 , B23K2203/42 , B23K2203/50 , B23K2203/52 , B23K2203/56
摘要：本發明提供用於在一材料中鑽鑿一孔之一系列雷射脈衝，各脈衝特徵為一或更多預定脈衝特徵，包括：波長、脈衝能量、脈衝間時間間隔、脈衝長度或脈衝形狀。將該系列雷射脈衝光點置放於該孔將被鑽鑿之部位處，以達成在該材料中鑽鑿該孔。改變該系列中一或更多雷射脈衝之一或更多特徵，以便最佳化用於該孔之該鑽孔製程。改變該系列脈衝中一或更多雷射脈衝之該等特徵，以最佳化該鑽孔製程之能力，產生具有期望屬性的孔及一高鑽率。
简体摘要：本发明提供用于在一材料中钻凿一孔之一系列激光脉冲，各脉冲特征为一或更多预定脉冲特征，包括：波长、脉冲能量、脉冲间时间间隔、脉冲长度或脉冲形状。将该系列激光脉冲光点置放于该孔将被钻凿之部位处，以达成在该材料中钻凿该孔。改变该系列中一或更多激光脉冲之一或更多特征，以便最优化用于该孔之该钻孔制程。改变该系列脉冲中一或更多激光脉冲之该等特征，以最优化该钻孔制程之能力，产生具有期望属性的孔及一高钻率。

5. 发明专利

TW201223677A 使用一系列雷射脈衝用於鑽孔之方法與裝置 METHOD AND APPARATUS FOR DRILLING USING A SERIES OF LASER PULSES 审中-公开
简体标题：使用一系列激光脉冲用于钻孔之方法与设备 METHOD AND APPARATUS FOR DRILLING USING A SERIES OF LASER PULSES
公开(公告)号：TW201223677A
公开(公告)日：2012-06-16
申请号：TW100115628
申请日：2011-05-04
申请人： ESI 派羅弗特尼克斯雷射股份有限公司
发明人：幕力森李察德 , 瑞考馬修
IPC分类号： B23K
CPC分类号： B23K26/40 , B23K26/0622 , B23K26/382 , B23K2201/40 , B23K2203/12 , B23K2203/172 , B23K2203/42 , B23K2203/50 , B23K2203/52 , B23K2203/56
摘要：本發明提供用於在一材料中鑽鑿一孔之一系列雷射脈衝，各脈衝特徵為一或更多預定脈衝特徵，包括：波長、脈衝能量、脈衝間時間間隔、脈衝長度或脈衝形狀。將該系列雷射脈衝光點置放於該孔將被鑽鑿之部位處，以達成在該材料中鑽鑿該孔。改變該系列中一或更多雷射脈衝之一或更多特徵，以便最佳化用於該孔之該鑽孔製程。改變該系列脈衝中一或更多雷射脈衝之該等特徵，以最佳化該鑽孔製程之能力，產生具有期望屬性的孔及一高鑽率。
简体摘要：本发明提供用于在一材料中钻凿一孔之一系列激光脉冲，各脉冲特征为一或更多预定脉冲特征，包括：波长、脉冲能量、脉冲间时间间隔、脉冲长度或脉冲形状。将该系列激光脉冲光点置放于该孔将被钻凿之部位处，以达成在该材料中钻凿该孔。改变该系列中一或更多激光脉冲之一或更多特征，以便最优化用于该孔之该钻孔制程。改变该系列脉冲中一或更多激光脉冲之该等特征，以最优化该钻孔制程之能力，产生具有期望属性的孔及一高钻率。

6. 发明专利

TWI548105B 刻劃碲化鎘太陽能電池的薄膜層之方法及設備有权
简体标题：刻划碲化镉太阳能电池的薄膜层之方法及设备
公开(公告)号：TWI548105B
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW101111738
申请日：2012-04-02
申请人： ESI-派羅弗特尼克斯雷射股份有限公司 , ESI-PYROPHOTONICS LASERS INC.
发明人：潘那瑞羅土立歐 , PANARELLO, TULLIO , 瑞考馬修 , REKOW, MATHEW , 幕力森李察德 , MURISON, RICHARD
IPC分类号： H01L31/042 , H01L31/18
CPC分类号： Y02E10/50 , Y02P70/521

7. 发明专利

TWI533962B 使用具有利的脈衝形狀之雷射脈衝的脈衝串在薄膜材料中劃線的方法及設備有权
简体标题：使用具有利的脉冲形状之激光脉冲的脉冲串在薄膜材料中划线的方法及设备
公开(公告)号：TWI533962B
公开(公告)日：2016-05-21
申请号：TW099132376
申请日：2010-09-24
申请人： ESI 派羅弗特尼克斯雷射股份有限公司 , ESI PYROPHOTONICS LASERS, INC.
发明人：潘那瑞羅土立歐 , PANARELLO, TULLIO , 瑞考馬修 , REKOW, MATTHEW , 幕力森李察德 , MURISON, RICHARD
IPC分类号： B23K26/36 , B23K26/06
CPC分类号： B23K26/364 , B23K26/0622 , B23K26/40 , B23K2203/42 , B23K2203/50

8. 发明专利

TW201330082A 使用不連續雷射刻劃線之方法及結構审中-公开
简体标题：使用不连续激光刻划线之方法及结构
公开(公告)号：TW201330082A
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：TW101146041
申请日：2012-12-07
申请人： ESI派羅弗特尼克斯雷射股份有限公司 , ESI-PYROPHOTONICS LASERS INC.
发明人：瑞考馬修 , REKOW, MATTHEW
IPC分类号： H01L21/304 , H01L31/042
CPC分类号： H01L31/022425 , H01L21/42 , H01L31/022458 , H01L31/046 , H01L31/0463 , Y02E10/50
摘要：一種薄膜光伏打裝置包括一基板及一耦接至該基板之第一導電層。該第一導電層包括延伸穿過該第一導電層之一第一部分至該基板之一部分的至少一個第一凹槽。該裝置亦包括耦接至該第一導電層之一剩餘部分及該基板之該部分的至少一個半導體層。該至少一個半導體層包括複數個不重疊通孔，各通孔延伸穿過該至少一個半導體層之一部分至該第一導電層之一部分。該裝置進一步包括一耦接至該至少一個半導體層之一剩餘部分及該第一導電層之各部分的第二導電層。該第二導電層包括延伸穿過該第二導電層之一部分至該至少一個半導體層之一部分的至少一個第二凹槽。
简体摘要：一种薄膜光伏打设备包括一基板及一耦接至该基板之第一导电层。该第一导电层包括延伸穿过该第一导电层之一第一部分至该基板之一部分的至少一个第一凹槽。该设备亦包括耦接至该第一导电层之一剩余部分及该基板之该部分的至少一个半导体层。该至少一个半导体层包括复数个不重叠通孔，各通孔延伸穿过该至少一个半导体层之一部分至该第一导电层之一部分。该设备进一步包括一耦接至该至少一个半导体层之一剩余部分及该第一导电层之各部分的第二导电层。该第二导电层包括延伸穿过该第二导电层之一部分至该至少一个半导体层之一部分的至少一个第二凹槽。

9. 发明专利

TW201141646A 使用雷射脈衝串以對薄膜劃出線條之方法及設備 METHOD AND APPARATUS FOR SCRIBING A LINE IN A THIN FILM USING A SERIES OF LASER PULSES 审中-公开
简体标题：使用激光脉冲串以对薄膜划出线条之方法及设备 METHOD AND APPARATUS FOR SCRIBING A LINE IN A THIN FILM USING A SERIES OF LASER PULSES
公开(公告)号：TW201141646A
公开(公告)日：2011-12-01
申请号：TW099141529
申请日：2010-11-30
申请人： ESI 派羅弗特尼克斯雷射股份有限公司
发明人：瑞考馬修 , 幕力森李察德 , 潘那瑞羅土立歐 , 敦斯基柯瑞
IPC分类号： B23K
CPC分类号： B23K26/36 , B23K26/03 , B23K26/0624 , B23K26/08 , B23K26/40 , B23K2201/40 , B23K2203/172
摘要：使用在脈衝列(pulse train)中的雷射脈衝串對在基底上的薄膜材料劃線，每個脈衝具有預定時間性功率形態(predetermined temporal power shape)。預定時間性功率形態具有快速的上升時間(risetime)與下降時間(falltime)，以及小於10奈秒(ns)的在10%功率點之間的脈衝長度。藉由將該雷射脈衝點串放置在欲劃線的線上，並使沿線之相鄰的雷射脈衝點之間存在一些重疊區域，以對薄膜劃線。使用具有預定脈衝形態之雷射脈衝串以對薄膜劃線，相較於使用傳統脈衝形態劃線，可得到較佳品質與較潔淨的劃線製程。
简体摘要：使用在脉冲列(pulse train)中的激光脉冲串对在基底上的薄膜材料划线，每个脉冲具有预定时间性功率形态(predetermined temporal power shape)。预定时间性功率形态具有快速的上升时间(risetime)与下降时间(falltime)，以及小于10奈秒(ns)的在10%功率点之间的脉冲长度。借由将该激光脉冲点串放置在欲划线的在线，并使沿线之相邻的激光脉冲点之间存在一些重叠区域，以对薄膜划线。使用具有预定脉冲形态之激光脉冲串以对薄膜划线，相较于使用传统脉冲形态划线，可得到较佳品质与较洁净的划线制程。

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