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1. 发明专利

TW201903806A 帶電粒子源模組、具有所述帶電粒子源模組的曝光系統、帶電粒子源裝置、用於製造半導體元件的方法以及用於檢視目標物的方法审中-公开
简体标题：带电粒子源模块、具有所述带电粒子源模块的曝光系统、带电粒子源设备、用于制造半导体组件的方法以及用于视图目标物的方法
公开(公告)号：TW201903806A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107112278
申请日：2018-04-10
申请人：荷蘭商瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：丁格勒羅拉 , DINU-GUERTLER, LAURA , 胡格佛斯特艾瑞克佩圖斯 , HOGERVORST, ERIC PETRUS , 凡蘇斯特尤根 , VAN SOEST, JURGEN
IPC分类号： H01J1/88 , H01J37/065
摘要：本發明是關於一種用於產生及發射例如是電子束的帶電粒子束之帶電粒子源模組，其包括：框架，該框架包含第一框架部件、第二框架部件、以及一或多個剛性支撐構件，其被配置在該第一框架部件以及該第二框架部件之間；用於產生例如是電子束的帶電粒子束的帶電粒子源裝置，其中例如是電子源的該帶電粒子源裝置被配置在該第二框架部件；以及電源連接組件，其被配置在該第一框架部件，其中該帶電粒子源裝置經由電性佈線來電連接至該連接組件。
简体摘要：本发明是关于一种用于产生及发射例如是电子束的带电粒子束之带电粒子源模块，其包括：框架，该框架包含第一框架部件、第二框架部件、以及一或多个刚性支撑构件，其被配置在该第一框架部件以及该第二框架部件之间；用于产生例如是电子束的带电粒子束的带电粒子源设备，其中例如是电子源的该带电粒子源设备被配置在该第二框架部件；以及电源连接组件，其被配置在该第一框架部件，其中该带电粒子源设备经由电性布线来电连接至该连接组件。

2. 发明专利

TWI641017B 準直器電極堆疊及帶電粒子微影系統有权
简体标题：准直器电极堆栈及带电粒子微影系统
公开(公告)号：TWI641017B
公开(公告)日：2018-11-11
申请号：TW106139730
申请日：2014-11-14
申请人：荷蘭商瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：爾本尼斯威稜漢克 , URBANUS, WILLEM HENK , 威蘭德瑪寇傑加寇 , WIELAND, MARCO JAN-JACO
IPC分类号： H01J37/04 , H01J37/07 , H01J37/317

3. 发明专利

TW201918796A 帶電粒子阻擋元件、包括此元件的曝光裝置以及使用此曝光裝置的方法审中-公开
简体标题：带电粒子阻挡组件、包括此组件的曝光设备以及使用此曝光设备的方法
公开(公告)号：TW201918796A
公开(公告)日：2019-05-16
申请号：TW107125903
申请日：2018-07-26
申请人：荷蘭商瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：凡賓艾利克山德亨卓克文森 , VAN VEEN, ALEXANDER HENDRIK VINCENT , 沃佛特德克費迪南 , WALVOORT, DERK FERDINAND
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/305 , H01L21/027
摘要：本發明係有關於一種曝光裝置以及一種用於投影一帶電粒子射束到一目標之上的方法。該曝光裝置係包括一帶電粒子光學配置，其係包括一用於產生一帶電粒子射束的帶電粒子源、以及用於阻擋來自一帶電粒子源的一帶電粒子射束的至少一部分的一種帶電粒子阻擋元件及/或一種限制電流的元件。該帶電粒子阻擋元件以及該限制電流的元件係包括一實質平坦的基板，該基板係設置有一包括硼、碳或鈹的吸收層。該基板進一步較佳的是包括一或多個用於透射帶電粒子的孔徑。該吸收層係被配置成和該至少一孔徑間隔開的。
简体摘要：本发明系有关于一种曝光设备以及一种用于投影一带电粒子射束到一目标之上的方法。该曝光设备系包括一带电粒子光学配置，其系包括一用于产生一带电粒子射束的带电粒子源、以及用于阻挡来自一带电粒子源的一带电粒子射束的至少一部分的一种带电粒子阻挡组件及/或一种限制电流的组件。该带电粒子阻挡组件以及该限制电流的组件系包括一实质平坦的基板，该基板系设置有一包括硼、碳或铍的吸收层。该基板进一步较佳的是包括一或多个用于透射带电粒子的孔径。该吸收层系被配置成和该至少一孔径间隔开的。

4. 发明专利

TWI644179B 具有感測器組件之帶電粒子微影系統有权
简体标题：具有传感器组件之带电粒子微影系统
公开(公告)号：TWI644179B
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：TW103144937
申请日：2014-12-23
申请人：荷蘭商瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：史佛爾斯保羅依潔梅爾特 , SCHEFFERS, PAUL IJMERT
IPC分类号： G03F7/20

5. 发明专利

TW201833685A 調整總成及包含此種調整總成之基板曝光系統审中-公开
简体标题：调整总成及包含此种调整总成之基板曝光系统
公开(公告)号：TW201833685A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW106143957
申请日：2017-12-14
申请人：荷蘭商瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：佩斯特傑瑞約翰尼斯馬汀納斯 , PEIJSTER, JERRY JOHANNES MARTINUS
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00
摘要：本發明係關於一種基板曝光系統，其包含一框架、用於承載一基板之一基板支撐模組、用於曝光該基板之一曝光裝置，及用於調整該曝光裝置相對於該基板支撐模組之位置的調整總成。該調整總成包含一液壓致動器、一液壓產生器及一導管，其中該導管將該液壓致動器與該液壓產生器互連以用於形成一液壓系統。該曝光裝置、該框架、該調整總成及該基板支撐模組經配置為一系列以機械方式連結之組件的部分。該系列以機械方式連結之組件的一第一部分包含該曝光裝置，且一第二部分包含該基板支撐模組。該液壓致動器配置於該第一部分與該第二部分之間。較佳地，該液壓致動器包含一第一波紋管且該液壓產生器包含一第二波紋管。
简体摘要：本发明系关于一种基板曝光系统，其包含一框架、用于承载一基板之一基板支撑模块、用于曝光该基板之一曝光设备，及用于调整该曝光设备相对于该基板支撑模块之位置的调整总成。该调整总成包含一液压致动器、一液压产生器及一导管，其中该导管将该液压致动器与该液压产生器互连以用于形成一液压系统。该曝光设备、该框架、该调整总成及该基板支撑模块经配置为一系列以机械方式链接之组件的部分。该系列以机械方式链接之组件的一第一部分包含该曝光设备，且一第二部分包含该基板支撑模块。该液压致动器配置于该第一部分与该第二部分之间。较佳地，该液压致动器包含一第一波纹管且该液压产生器包含一第二波纹管。

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