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1. 发明专利

TWI346767B 自參考外差反射計及測量放置在基底上之目標層厚度的外差反射計 SELF REFERENCING HETERODYNE REFLECTOMETER AND HETERODYNE REFLECTOMETER FOR MEASURING THICKNESS OF A TARGET LAYER DEPOSED ON A SUBSTRATE 有权
简体标题：自参考外差反射计及测量放置在基底上之目标层厚度的外差反射计 SELF REFERENCING HETERODYNE REFLECTOMETER AND HETERODYNE REFLECTOMETER FOR MEASURING THICKNESS OF A TARGET LAYER DEPOSED ON A SUBSTRATE
公开(公告)号：TWI346767B
公开(公告)日：2011-08-11
申请号：TW096136037
申请日：2007-09-27
申请人：真實儀器公司
发明人：阿蘭阿南斯艾裏 , 馬克A 梅洛尼
IPC分类号： G01B
摘要：本發明係關於一種從外差光學信號獲取高精確相位偏移資訊的自參考外差反射計系統和方法，而不用一個參考晶片來校正。該自參考外差反射計在外差反射(HR)模式和自參考(SR)模式之間快速轉換，其中在HR模式下使用的HR光束包含s和p極化光束分量，該極化光束分量係於分角頻率為ω和ω+△ω下極化的；在SR模式下使用的SR光束包含p極化光束分量，該極化光束分量係於分角頻率為ω和ω+△ω下極化的。當兩個測量快速連續的進行時，假設檢測器中的溫度感應雜訊對兩個測量是相同的。從HR光束中產生一個測量相位偏移δRef/film，從SR光束中產生一個參考相位偏移δRef/Sub。從HR光束的差拍信號產生的測量相位偏移δRef/film係用於薄膜厚度測量。SR光束是p極化的，不會從薄膜表面產生顯著的反射，並且不會攜帶任何屬於薄膜的相位資訊。從SR光束的差拍信號產生的參考相位偏移δRef/Sub等同於使用參考樣本得到的資訊。然後從測量的相位偏移δRef/film和相位偏移的造成與溫度無關的參考相位偏移δRef/Sub得到薄膜相位偏移資訊。從薄膜相位偏移資訊計算得到薄膜厚度。
简体摘要：本发明系关于一种从外差光学信号获取高精确相位偏移信息的自参考外差反射计系统和方法，而不用一个参考芯片来校正。该自参考外差反射计在外差反射(HR)模式和自参考(SR)模式之间快速转换，其中在HR模式下使用的HR光束包含s和p极化光束分量，该极化光束分量系于分角频率为ω和ω+△ω下极化的；在SR模式下使用的SR光束包含p极化光束分量，该极化光束分量系于分角频率为ω和ω+△ω下极化的。当两个测量快速连续的进行时，假设检测器中的温度感应噪声对两个测量是相同的。从HR光束中产生一个测量相位偏移δRef/film，从SR光束中产生一个参考相位偏移δRef/Sub。从HR光束的差拍信号产生的测量相位偏移δRef/film系用于薄膜厚度测量。SR光束是p极化的，不会从薄膜表面产生显着的反射，并且不会携带任何属于薄膜的相位信息。从SR光束的差拍信号产生的参考相位偏移δRef/Sub等同于使用参考样本得到的信息。然后从测量的相位偏移δRef/film和相位偏移的造成与温度无关的参考相位偏移δRef/Sub得到薄膜相位偏移信息。从薄膜相位偏移信息计算得到薄膜厚度。

2. 发明专利

TWI395830B 用於反應環境視口視窗減少視窗模糊效應的方法和裝置有权
简体标题：用于反应环境视口窗口减少窗口模煳效应的方法和设备
公开(公告)号：TWI395830B
公开(公告)日：2013-05-11
申请号：TW097115708
申请日：2008-04-29
申请人：真實儀器公司 , VERITY INSTRUMENTS, INC.
发明人：凱尼斯哈飛 , KENNETH C. HARVEY
IPC分类号： C23C14/52 , C23C16/52 , G01J1/00 , B01J19/00
CPC分类号： G01J5/02 , G01J5/0007 , G01J5/026 , G01J5/04 , G01J5/08 , G01J5/0859 , G01J5/0875 , G01J5/0893 , G01N21/15 , G01N21/359 , G01N21/55 , G01N21/73 , G01N2021/151 , G01N2021/8411

3. 发明专利

TWI379074B 用於故障偵測及過程監測之輻射光學監測系統的校準方法 CALIBRATION METHOD OF A RADIOMETRIC OPTICAL MONITORING SYSTEM USED FOR FAULT DETECTION AND PROCESS MONITORING 有权
简体标题：用于故障侦测及过程监测之辐射光学监测系统的校准方法 CALIBRATION METHOD OF A RADIOMETRIC OPTICAL MONITORING SYSTEM USED FOR FAULT DETECTION AND PROCESS MONITORING
公开(公告)号：TWI379074B
公开(公告)日：2012-12-11
申请号：TW097116708
申请日：2008-05-06
申请人：真實儀器公司
发明人：麥克威倫 , 安德魯威克斯昆尼 , 凱尼斯哈飛 , 約翰道格拉斯柯萊斯
IPC分类号： G01J , G01N
CPC分类号： G01J3/443 , G01J3/28 , G01J2003/2866
摘要：本發明關於一種在故障偵測及過程監測中使用的光譜設備之輻射校準系統和方法。首先，將參考攝譜儀校準於當地基本標準(具有已知光譜強度及可追溯到參考標準的經校準光源)。然後根據參考攝譜儀而非當地基本校準標準來校準其他攝譜儀。其係藉由使用參考攝譜儀及待校準攝譜儀兩者觀察光源來完成。來自待校準攝譜儀的輸出與參考攝譜儀的輸出相比較，然後進行調整以與該輸出一致。目前的校準過程可以分兩個階段完成，第一階段將攝譜儀校準到參考攝譜儀，然後在等離子腔體微調到窄帶光源。
简体摘要：本发明关于一种在故障侦测及过程监测中使用的光谱设备之辐射校准系统和方法。首先，将参考摄谱仪校准于当地基本标准(具有已知光谱强度及可追溯到参考标准的经校准光源)。然后根据参考摄谱仪而非当地基本校准标准来校准其他摄谱仪。其系借由使用参考摄谱仪及待校准摄谱仪两者观察光源来完成。来自待校准摄谱仪的输出与参考摄谱仪的输出相比较，然后进行调整以与该输出一致。目前的校准过程可以分两个阶段完成，第一阶段将摄谱仪校准到参考摄谱仪，然后在等离子腔体微调到窄带光源。

4. 发明专利

TW200902744A 用於反應環境視口視窗減少視窗模糊效應的方法和裝置 METHOD AND APPARATUS FOR REDUCING THE EFFECTS OF WINDOW CLOUDING ON A VIEWPORT WINDOW IN A REACTIVE ENVIRONMENT 审中-公开
简体标题：用于反应环境视口窗口减少窗口模煳效应的方法和设备 METHOD AND APPARATUS FOR REDUCING THE EFFECTS OF WINDOW CLOUDING ON A VIEWPORT WINDOW IN A REACTIVE ENVIRONMENT
公开(公告)号：TW200902744A
公开(公告)日：2009-01-16
申请号：TW097115708
申请日：2008-04-29
申请人：真實儀器公司 VERITY INSTRUMENTS, INC.
发明人：凱尼斯哈飛 KENNETH C. HARVEY
IPC分类号： C23C , G01J , B01J
CPC分类号： G01J5/02 , G01J5/0007 , G01J5/026 , G01J5/04 , G01J5/08 , G01J5/0859 , G01J5/0875 , G01J5/0893 , G01N21/15 , G01N21/359 , G01N21/55 , G01N21/73 , G01N2021/151 , G01N2021/8411
摘要：提供了多通道陣列結構和一種機制,用於在多通道陣列中建立黏滯流來阻止導致視窗模糊的微粒流入。提供反應腔體用於將反應壓力限制在反應容積中,沿著該腔體具有視口視窗用於查看至少部分反應容積。在反應腔體中設置有進入口,連接至反應容積,用於在反應容積中接收反應氣體,而排出口設置在反應腔體中,連接至反應容積用於從反應容積提取出氣體流。多通道陣列(MCA)設置在視口視窗和反應腔體的反應容積之間。MCA具有多個通道,每個通道具有直徑和長度。
简体摘要：提供了多信道数组结构和一种机制,用于在多信道数组中创建黏滞流来阻止导致窗口模煳的微粒流入。提供反应腔体用于将反应压力限制在反应容积中,沿着该腔体具有视口窗口用于查看至少部分反应容积。在反应腔体中设置有进入口,连接至反应容积,用于在反应容积中接收反应气体,而排出口设置在反应腔体中,连接至反应容积用于从反应容积提取出气体流。多信道数组(MCA)设置在视口窗口和反应腔体的反应容积之间。MCA具有多个信道,每个信道具有直径和长度。

5. 发明专利

TW200837326A 自參考外差反射計及其實施方法 SELF REFERENCING HETERODYNE REFLECTOMETER AND METHOD FOR IMPLEMENTING 审中-公开
简体标题：自参考外差反射计及其实施方法 SELF REFERENCING HETERODYNE REFLECTOMETER AND METHOD FOR IMPLEMENTING
公开(公告)号：TW200837326A
公开(公告)日：2008-09-16
申请号：TW096136037
申请日：2007-09-27
申请人：真實儀器公司 VERITY INSTRUMENTS, INC.
发明人：阿蘭阿南斯艾裏 ARUN ANANTH AIYER , 馬克A 梅洛尼 MARK A. MELONI
IPC分类号： G01B , G02B
摘要：本發明係關於一種從外差光學信號獲取高精確相位偏移資訊的自參考外差反射計系統和方法,而不用一個參考晶片來校正。該自參考外差反射計在外差反射(HR)模式和自參考(SR)模式之間快速轉換,其中在HR模式下使用的HR光束包含s和p極化光束分量,該極化光束分量係於分角頻率為��和��+��下極化的;在SR模式下使用的SR光束包含p極化光束分量,該極化光束分量係於分角頻率為��和��+��下極化的。當兩個測量快速連續的進行時,假設檢測器中的溫度感應雜訊對兩個測量是相同的。從HR光束中產生一個測量相位偏移��Ref/film,從SR光束中產生一個參考相位偏移��Ref/Sub。從HR光束的差拍信號產生的測量相位偏移��Ref/film係用於薄膜厚度測量。SR光束是p極化的,不會從薄膜表面產生顯著的反射,並且不會攜帶任何屬於薄膜的相位資訊。從SR光束的差拍信號產生的參考相位偏移��Ref/Sub等同於使用參考樣本得到的資訊。然後從測量的相位偏移��Ref/film和相位偏移的造成與溫度無關的參考相位偏移��Ref/Sub得到薄膜相位偏移資訊。從薄
膜相位偏移資訊計算得到薄膜厚度。
简体摘要：本发明系关于一种从外差光学信号获取高精确相位偏移信息的自参考外差反射计系统和方法,而不用一个参考芯片来校正。该自参考外差反射计在外差反射(HR)模式和自参考(SR)模式之间快速转换,其中在HR模式下使用的HR光束包含s和p极化光束分量,该极化光束分量系于分角频率为��和��+��下极化的;在SR模式下使用的SR光束包含p极化光束分量,该极化光束分量系于分角频率为��和��+��下极化的。当两个测量快速连续的进行时,假设检测器中的温度感应噪声对两个测量是相同的。从HR光束中产生一个测量相位偏移��Ref/film,从SR光束中产生一个参考相位偏移��Ref/Sub。从HR光束的差拍信号产生的测量相位偏移��Ref/film系用于薄膜厚度测量。SR光束是p极化的,不会从薄膜表面产生显着的反射,并且不会携带任何属于薄膜的相位信息。从SR光束的差拍信号产生的参考相位偏移��Ref/Sub等同于使用参考样本得到的信息。然后从测量的相位偏移��Ref/film和相位偏移的造成与温度无关的参考相位偏移��Ref/Sub得到薄膜相位偏移信息。从薄膜相位偏移信息计算得到薄膜厚度。

6. 发明专利

TW200905175A 用於故障偵測及過程監測之輻射光學監測系統的校準 CALIBRATION OF A RADIOMETRIC OPTICAL MONITORING SYSTEM USED FOR FAULT DETECTION AND PROCESS MONITORING 审中-公开
简体标题：用于故障侦测及过程监测之辐射光学监测系统的校准 CALIBRATION OF A RADIOMETRIC OPTICAL MONITORING SYSTEM USED FOR FAULT DETECTION AND PROCESS MONITORING
公开(公告)号：TW200905175A
公开(公告)日：2009-02-01
申请号：TW097116708
申请日：2008-05-06
申请人：真實儀器公司 VERITY INSTRUMENTS, INC.
发明人：麥克威倫 MIKE WHELAN , 安德魯威克斯昆尼 ANDREW WEEKS KUENY , 凱尼斯哈飛 KENNETH C. HARVEY , 約翰道格拉斯柯萊斯 JOHN DOUGLAS CORLESS
IPC分类号： G01J , G01N
CPC分类号： G01J3/443 , G01J3/28 , G01J2003/2866
摘要：本發明關於一種在故障偵測及過程監測中使用的光譜設備之輻射校準系統和方法。首先,將參考攝譜儀校準於當地基本標準(具有已知光譜强度及可追溯到參考標準的經校準光源)。然後根據參考攝譜儀而非當地基本校準標準來校準其他攝譜儀。其係藉由使用參考攝譜儀及待校準攝譜儀兩者觀察光源來完成。來自待校準攝譜儀的輸出與參考攝譜儀的輸出相比較,然後進行調整以與該輸出一致。目前的校準過程可以分兩個階段完成,第一階段將攝譜儀校準到參考攝譜儀,然後在等離子腔體微調到窄帶光源。
简体摘要：本发明关于一种在故障侦测及过程监测中使用的光谱设备之辐射校准系统和方法。首先,将参考摄谱仪校准于当地基本标准(具有已知光谱强度及可追溯到参考标准的经校准光源)。然后根据参考摄谱仪而非当地基本校准标准来校准其他摄谱仪。其系借由使用参考摄谱仪及待校准摄谱仪两者观察光源来完成。来自待校准摄谱仪的输出与参考摄谱仪的输出相比较,然后进行调整以与该输出一致。目前的校准过程可以分两个阶段完成,第一阶段将摄谱仪校准到参考摄谱仪,然后在等离子腔体微调到窄带光源。

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