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1. 发明专利

TW201536392A 從含有加工殘留物之組成物回收鎓氫氧化物之改良方法审中-公开
简体标题：从含有加工残留物之组成物回收鎓氢氧化物之改良方法
公开(公告)号：TW201536392A
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：TW103143636
申请日：2014-12-15
申请人：沙琛公司 , SACHEM, INC.
发明人：黃雪倫 , WONG, SHARON , 乙川隆一 , OTOGAWA, RYUICHI
IPC分类号： B01D15/36 , C11D1/66 , C01B21/087 , G03F7/42
CPC分类号： C07C209/86 , B01J39/05 , B01J39/07 , B01J47/026 , B01J47/15 , B01J49/06 , B01J49/53 , C02F1/42 , C02F2001/425 , C02F2101/38 , C02F2103/40 , C02F2305/04 , G03F7/3092
摘要：本發明提供一種從含有鎓離子及加工殘留物之組成物回收鎓氫氧化物之方法，其包括提供含有鎓離子及加工殘留物之組成物；將一定量的界面活性劑添加至該組成物中以獲得經界面活性劑改質之組成物；提供陽離子交換介質；藉由將該經界面活性劑改質之組成物施加至該陽離子交換介質中來收集該等鎓離子，其中該等鎓離子變成與該陽離子交換介質結合且被該陽離子交換介質截留，且該加工殘留物及該界面活性劑不會變成與該陽離子交換介質結合且實質上不會被該陽離子交換介質截留；及藉由將含有陽離子之氫氧化物組成物施加至該陽離子交換介質中來從該陽離子交換介質以鎓氫氧化物形式回收該等鎓離子。
简体摘要：本发明提供一种从含有鎓离子及加工残留物之组成物回收鎓氢氧化物之方法，其包括提供含有鎓离子及加工残留物之组成物；将一定量的界面活性剂添加至该组成物中以获得经界面活性剂改质之组成物；提供阳离子交换介质；借由将该经界面活性剂改质之组成物施加至该阳离子交换介质中来收集该等鎓离子，其中该等鎓离子变成与该阳离子交换介质结合且被该阳离子交换介质截留，且该加工残留物及该界面活性剂不会变成与该阳离子交换介质结合且实质上不会被该阳离子交换介质截留；及借由将含有阳离子之氢氧化物组成物施加至该阳离子交换介质中来从该阳离子交换介质以鎓氢氧化物形式回收该等鎓离子。

2. 发明专利

TW200704828A 金屬氮化物的選擇性濕式蝕刻 SELECTIVE WET ETCHING OF METAL NITRIDES 审中-公开
简体标题：金属氮化物的选择性湿式蚀刻 SELECTIVE WET ETCHING OF METAL NITRIDES
公开(公告)号：TW200704828A
公开(公告)日：2007-02-01
申请号：TW095110485
申请日：2006-03-27
申请人：沙琛公司 SACHEM, INC.
发明人：威廉A. 沃捷克 WOJTCZAK, WILLIAM A. , 丁恩迪烏夫 DEWULF, DEAN
IPC分类号： C23F
CPC分类号： C09K13/06 , C09K13/00 , C09K13/02 , H01L21/32134
摘要：在一具體實例中,本發明係有關一種含有過氧化氫、有機氫氧化及酸的濕式蝕刻組成物。在另一個具體實例中,本發明係有關一種對周圍結構有選擇性之濕式蝕刻金屬氮化物的方法,其中該周圍結構包含有矽、氧化矽、玻璃、磷矽酸鹽玻璃、硼磷矽酸鹽玻璃、硼矽酸鹽玻璃、氧氮化矽、氮化矽、氧碳化矽的一或多種及其組合與混合物和/或光阻劑材料;該方法包含的步驟有:提供含有過氧化氫、有機氫氧化與有機酸的濕式蝕刻組成物;以及在對該周圍結構有選擇性之有效蝕刻金屬氮化物的時間與溫度下,將被蝕刻的金屬氮化物暴置於該濕式蝕刻組成物。
简体摘要：在一具体实例中,本发明系有关一种含有过氧化氢、有机氢氧化及酸的湿式蚀刻组成物。在另一个具体实例中,本发明系有关一种对周围结构有选择性之湿式蚀刻金属氮化物的方法,其中该周围结构包含有硅、氧化硅、玻璃、磷硅酸盐玻璃、硼磷硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃、氧氮化硅、氮化硅、氧碳化硅的一或多种及其组合与混合物和/或光阻剂材料;该方法包含的步骤有:提供含有过氧化氢、有机氢氧化与有机酸的湿式蚀刻组成物;以及在对该周围结构有选择性之有效蚀刻金属氮化物的时间与温度下,将被蚀刻的金属氮化物暴置于该湿式蚀刻组成物。

3. 发明专利

TWI226876B 從廢溶液中回收有機氫氧化物的方法 PROCESS FOR RECOVERING ORGANIC HYDROXIDES FROM WASTE SOLUTIONS 失效
简体标题：从废溶液中回收有机氢氧化物的方法 PROCESS FOR RECOVERING ORGANIC HYDROXIDES FROM WASTE SOLUTIONS
公开(公告)号：TWI226876B
公开(公告)日：2005-01-21
申请号：TW089115769
申请日：2000-08-05
申请人：沙琛公司 SACHEM, INC.
发明人：羅傑莫頓 ROGER MOULTON , 韋蘭梁 WEILIAN LANG , 亞朗天納 ALAN TANNER
IPC分类号： C02F
CPC分类号： B01D61/44 , B01D61/445 , C02F1/001 , C02F1/24 , C02F1/283 , C02F1/42 , C02F1/444 , C02F1/46 , C02F1/46104 , C02F1/469 , C02F1/683 , C02F1/78 , C02F9/00 , C02F2001/46128 , C02F2001/46138 , C02F2101/16 , C02F2101/20 , C02F2101/30 , C02F2103/12 , C02F2201/46125 , C02F2209/02 , C02F2209/06
摘要：在一實施例中，本發明關於一種從廢溶液或合成溶液中回收化合物之方法，該廢溶液或合成溶液含有化合物及雜質，該方法包括步驟為：使廢溶液或合成溶液接觸金屬離子捕捉劑以去除金屬離子雜質，其中金屬離子捕捉劑包括螯合化合物、奈孔材料及MACS材料中的至少一者；將廢溶液或合成溶液加到一種含有至少二個室、一陰極、一陽極和一隔板的電化學電池中，及使電流通經該電池藉以再生或產生化合物；及由電池中回收化合物。
简体摘要：在一实施例中，本发明关于一种从废溶液或合成溶液中回收化合物之方法，该废溶液或合成溶液含有化合物及杂质，该方法包括步骤为：使废溶液或合成溶液接触金属离子捕捉剂以去除金属离子杂质，其中金属离子捕捉剂包括螯合化合物、奈孔材料及MACS材料中的至少一者；将废溶液或合成溶液加到一种含有至少二个室、一阴极、一阳极和一隔板的电化学电池中，及使电流通经该电池借以再生或产生化合物；及由电池中回收化合物。

4. 发明专利

TW411368B 在電化電池製備類氫氧化物的方法失效
简体标题：在电化电池制备类氢氧化物的方法
公开(公告)号：TW411368B
公开(公告)日：2000-11-11
申请号：TW086112473
申请日：1997-08-30
申请人：沙琛公司
发明人：河山沙利芬 , 克里斯多夫D.雪
IPC分类号： B01D , C07C , C25B
CPC分类号： C07F9/54 , B01D61/445 , C07C209/68 , C07C209/84 , C07C381/12 , C07C211/63
摘要：一種在電化電池中從個別類鹽製備類氫氧化物和純化類氫氧化物的方法。在一具體實施例中，本發明係有關一種從相當之類鹽製備氫氧化物的方法，其包含下列步驟:(A)提供一種包括陽極、陰極和一個或更多裝配用以定位操作於陽極和陰極之間的單位電池之電池，每個單位電池包含:(A-l)四個間隔，其由開始從陽極、雙極性膜、第一分隔物和第二分隔物之順序所界定，該雙極性膜具有面對陽極之陰離子選擇性側和面對陰極之陽離子選擇性側;或(A-2)四個間隔，其由開始於陽極、第一分隔物、第二分隔物和具有面對陽極之陰離子選擇性側和對陰極之陽離子選擇性側面之雙極性膜之順序所界定;或(A-3)五個間隔，其由開始於陽極、第一雙極性膜、第一分隔物、第二分隔物和第二雙極性膜之順序所界定，各該雙極性膜具有面對陽極之陰離子選擇性側和面對陰極之陽離子選擇性側;或(A-4)五個間隔，其由開始於陽極、雙極性膜、第一分隔物、第二分隔物和第三分隔物之順序所界定，該雙極性膜具有面對陽極之陰離子選擇性膜及面對陰極之陽離子選擇性側面;或(A-5)六個間隔，其由開始於陽極、第一雙極性膜、第一分隔物、第二分隔物、第三分隔物、和第二雙極性膜之順序所界定，各該雙極性膜具有面對陽極之陰離子選擇性側和面對陰極之陽離子選擇性側面;(B)將欲純化之鹽或氫氧化物之溶液進料至在各單位電池中由第一和第二分隔物形成之間隔中;(C)將液態電解質進料至到各單位電池之其他間隔中;(D)將電流通過電池以在各單位電池中之由陽極側之分隔物和在陰極側之雙極性膜所形成之間隔中，或由分隔物和陰極所形成之間隔中產生氫氧化物;和(E)從該間隔回收氫氧化物。
简体摘要：一种在电化电池中从个别类盐制备类氢氧化物和纯化类氢氧化物的方法。在一具体实施例中，本发明系有关一种从相当之类盐制备氢氧化物的方法，其包含下列步骤:(A)提供一种包括阳极、阴极和一个或更多装配用以定位操作于阳极和阴极之间的单位电池之电池，每个单位电池包含:(A-l)四个间隔，其由开始从阳极、双极性膜、第一分隔物和第二分隔物之顺序所界定，该双极性膜具有面对阳极之阴离子选择性侧和面对阴极之阳离子选择性侧;或(A-2)四个间隔，其由开始于阳极、第一分隔物、第二分隔物和具有面对阳极之阴离子选择性侧和对阴极之阳离子选择性侧面之双极性膜之顺序所界定;或(A-3)五个间隔，其由开始于阳极、第一双极性膜、第一分隔物、第二分隔物和第二双极性膜之顺序所界定，各该双极性膜具有面对阳极之阴离子选择性侧和面对阴极之阳离子选择性侧;或(A-4)五个间隔，其由开始于阳极、双极性膜、第一分隔物、第二分隔物和第三分隔物之顺序所界定，该双极性膜具有面对阳极之阴离子选择性膜及面对阴极之阳离子选择性侧面;或(A-5)六个间隔，其由开始于阳极、第一双极性膜、第一分隔物、第二分隔物、第三分隔物、和第二双极性膜之顺序所界定，各该双极性膜具有面对阳极之阴离子选择性侧和面对阴极之阳离子选择性侧面;(B)将欲纯化之盐或氢氧化物之溶液进料至在各单位电池中由第一和第二分隔物形成之间隔中;(C)将液态电解质进料至到各单位电池之其他间隔中;(D)将电流通过电池以在各单位电池中之由阳极侧之分隔物和在阴极侧之双极性膜所形成之间隔中，或由分隔物和阴极所形成之间隔中产生氢氧化物;和(E)从该间隔回收氢氧化物。

5. 发明专利

TW397871B 純化氫氧化物化合物的電化學方法失效
简体标题：纯化氢氧化物化合物的电化学方法
公开(公告)号：TW397871B
公开(公告)日：2000-07-11
申请号：TW086114598
申请日：1997-10-04
申请人：沙琛公司
发明人：何森.沙利費恩 , 約翰E.木尼
IPC分类号： C25F
CPC分类号： C07C209/84 , B01D61/44 , B01D61/445 , C07C211/63
摘要：在一個具體實施例中，本發明係有關一種純化包含氫氧化物化合物之溶液的方法，包括下列步驟：(A)提供一種包括陽極、陰極、陽離子選擇性膜和陰離子選擇性膜之電化電池，其中陽離子選擇性膜位於陰極和陰離子選擇性膜之間，及陰離子選擇性膜位於陽離子選擇性膜和陽極之間，藉此界定在陽離子選擇性膜和陰離子選擇性膜之間的進料間隔、在陰極和陽離子選擇性膜之間的回收間隔，和在陰離子選擇性膜和陽極之間的水間隔；(B)將於第一濃度的離子化合物之溶液進料至水間隔，和將水進料至回收間隔；(C)將於第二濃度的氫氧化物化合物之溶液進料到進料間隔；(D)將電流通過電化電池以在回收間隔中產生於第三濃度之氫氧化物化合物；和(E)從回收間隔回收氫氧化物化合物。
简体摘要：在一个具体实施例中，本发明系有关一种纯化包含氢氧化物化合物之溶液的方法，包括下列步骤：(A)提供一种包括阳极、阴极、阳离子选择性膜和阴离子选择性膜之电化电池，其中阳离子选择性膜位于阴极和阴离子选择性膜之间，及阴离子选择性膜位于阳离子选择性膜和阳极之间，借此界定在阳离子选择性膜和阴离子选择性膜之间的进料间隔、在阴极和阳离子选择性膜之间的回收间隔，和在阴离子选择性膜和阳极之间的水间隔；(B)将于第一浓度的离子化合物之溶液进料至水间隔，和将水进料至回收间隔；(C)将于第二浓度的氢氧化物化合物之溶液进料到进料间隔；(D)将电流通过电化电池以在回收间隔中产生于第三浓度之氢氧化物化合物；和(E)从回收间隔回收氢氧化物化合物。

6. 发明专利

TW201439042A 用於非水性溶劑中季銨氫氧化物之成色抑制劑审中-公开
简体标题：用于非水性溶剂中季铵氢氧化物之成色抑制剂
公开(公告)号：TW201439042A
公开(公告)日：2014-10-16
申请号：TW103100932
申请日：2014-01-10
申请人：沙琛公司 , SACHEM, INC.
发明人：恩格爾提姆 , ENGEL, TIM , 凡里爾阿斐爾 , VAN LIER, ALFRED
IPC分类号： C07C211/62 , C07C215/40 , C07C215/90 , C07C217/02 , C07C217/78 , C07D227/00 , C07D487/10 , C07F9/54 , C07F9/547 , C07D233/74
CPC分类号： C09K15/22 , C07C209/90 , C07C211/62 , C07C211/63 , C07C211/64 , C07C213/10 , C07C215/40 , C07C215/72 , C07C215/90
摘要：一種組成物，包括非水性溶劑中之季鎓氫氧化物，其中該季銨氫氧化物之濃度在組成物之約5重量%至約50重量%範圍內；及咪唑啶-2,4-二酮，其中該咪唑啶-2,4-二酮之濃度在組成物之約10至約5000百萬分率範圍內。
简体摘要：一种组成物，包括非水性溶剂中之季鎓氢氧化物，其中该季铵氢氧化物之浓度在组成物之约5重量%至约50重量%范围内；及咪唑啶-2,4-二酮，其中该咪唑啶-2,4-二酮之浓度在组成物之约10至约5000百万分率范围内。

7. 发明专利

TWI427694B 選擇性矽蝕刻方法失效
简体标题：选择性硅蚀刻方法
公开(公告)号：TWI427694B
公开(公告)日：2014-02-21
申请号：TW099136894
申请日：2010-10-28
申请人：沙琛公司 , SACHEM, INC.
发明人：柯林斯賢安 , COLLINS, SIAN , 沃特薩克威廉A , WOJTCZAK, WILLIAM A.
IPC分类号： H01L21/306 , C09K13/00
CPC分类号： H01L21/30608 , H01L29/165 , H01L29/66628 , H01L29/66636 , H01L29/7848

8. 发明专利

TWI304795B 從含類化合物之溶液中回收氫氧化物之方法 PROCESS FOR RECOVERING ONIUM HYDROXIDES FROM SOLUTIONS CONTAINING ONIUM COMPOUNDS 有权
简体标题：从含类化合物之溶液中回收氢氧化物之方法 PROCESS FOR RECOVERING ONIUM HYDROXIDES FROM SOLUTIONS CONTAINING ONIUM COMPOUNDS
公开(公告)号：TWI304795B
公开(公告)日：2009-01-01
申请号：TW090125197
申请日：2001-10-12
申请人：沙琛公司 SACHEM, INC.
发明人：孝夫.新延
IPC分类号： C02F , G21F
CPC分类号： G03F7/3092 , B01J49/53 , C02F1/42 , G03F7/0045
摘要：在本發明之一具體實施例中,其為一種從吸附有陽離子之陽離子交換材料中回收氫氧化之方法,其包括:
(A)將該陽離子交換材料與選自鹼金屬氫氧化物與氫氧化銨之鹼水溶液接觸以形成氫氧化,及
(B)回收氫氧化水溶液。
在另一具體實施例中,本發明係關於一種自含化合物(例如氫氧化及/或鹽)溶液中回收氫氧化之方法,其包括將溶液與陽離子交換材料接觸,以致於來自化合物之至少一部份陽離子被陽離子交換材料所吸附;將具有已吸附有陽離子之陽離子交換材料與無機鹼水溶液接觸以形成氫氧化;並回收氫氧化溶液。可以此方式回收之氫氧化包括氫氧化四級銨,氫氧化四級鏻及氫氧化三級。
简体摘要：在本发明之一具体实施例中,其为一种从吸附有阳离子之阳离子交换材料中回收氢氧化之方法,其包括: (A)将该阳离子交换材料与选自碱金属氢氧化物与氢氧化铵之碱水溶液接触以形成氢氧化,及 (B)回收氢氧化水溶液。在另一具体实施例中,本发明系关于一种自含化合物(例如氢氧化及/或盐)溶液中回收氢氧化之方法,其包括将溶液与阳离子交换材料接触,以致于来自化合物之至少一部份阳离子被阳离子交换材料所吸附;将具有已吸附有阳离子之阳离子交换材料与无机碱水溶液接触以形成氢氧化;并回收氢氧化溶液。可以此方式回收之氢氧化包括氢氧化四级铵,氢氧化四级鏻及氢氧化三级。

9. 发明专利

TW201918261A 用於包含甘油烷基醚之化妝品及藥品組成物的新穎抗氧化劑审中-公开
简体标题：用于包含甘油烷基醚之化妆品及药品组成物的新颖抗氧化剂
公开(公告)号：TW201918261A
公开(公告)日：2019-05-16
申请号：TW106145728
申请日：2017-12-26
申请人：美商沙琛公司 , SACHEM, INC.
发明人：恩格爾提姆 , ENGEL, TIM
IPC分类号： A61K47/08 , A61K47/22 , A61K8/34 , A61K8/39 , A61K8/49 , A61Q19/00
摘要：本發明提供一種組成物，其含有具有以下通式之甘油烷基醚：R-O-CH2-CHOH-CH2OH 其中R為C3-C18烷基，該烷基為分支鏈或非分支鏈、未經取代或經一或多個羥基、一或多個C1-C4烷氧基或一或多個羥基及一或多個C1-C4烷氧基兩者取代，且不論是分支鏈還是非分支鏈、是未經取代還是經取代，該C3-C18烷基均視情況由至多四個氧原子間雜；及一或多種選自以下通式之化合物：其中R1-R10中之每一者均獨立地選自氫、羥基、烷基羥基、烷氧基、烷基醚、烷基酯及醣苷，其中該烷基、該烷氧基及該烷基酯之烷基部分含有分支鏈或非分支鏈之1至4個碳原子，且該烷基酯之酯含有分支鏈或非分支鏈之1至5個碳原子。
简体摘要：本发明提供一种组成物，其含有具有以下通式之甘油烷基醚：R-O-CH2-CHOH-CH2OH 其中R为C3-C18烷基，该烷基为分支链或非分支链、未经取代或经一或多个羟基、一或多个C1-C4烷氧基或一或多个羟基及一或多个C1-C4烷氧基两者取代，且不论是分支链还是非分支链、是未经取代还是经取代，该C3-C18烷基均视情况由至多四个氧原子间杂；及一或多种选自以下通式之化合物：其中R1-R10中之每一者均独立地选自氢、羟基、烷基羟基、烷氧基、烷基醚、烷基酯及糖苷，其中该烷基、该烷氧基及该烷基酯之烷基部分含有分支链或非分支链之1至4个碳原子，且该烷基酯之酯含有分支链或非分支链之1至5个碳原子。

10. 发明专利

TWI640654B 選擇性金屬／金屬氧化物蝕刻製程有权
简体标题：选择性金属／金属氧化物蚀刻制程
公开(公告)号：TWI640654B
公开(公告)日：2018-11-11
申请号：TW104101165
申请日：2015-01-14
申请人：沙琛公司 , SACHEM, INC.
发明人：斐梅雷恩保羅 , VERMEULEN, PAUL , 雅倫克雷格 , ALLEN, CRAIG
IPC分类号： C23F1/00 , H01L21/027 , H01L21/34 , H01L21/336

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