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1. 发明专利

TW562845B 混合研磨料漿失效
简体标题：混合研磨料浆
公开(公告)号：TW562845B
公开(公告)日：2003-11-21
申请号：TW090106348
申请日：2001-03-30
申请人：普拉塞爾S T 科技股份有限公司
发明人：多莉絲郭 , 詹姆士肯那普
IPC分类号： C09G , C09K
CPC分类号： C09G1/02
摘要：一種拋光基質表面之混合漿料混合物，以重量百分比計，該混合漿料混合物係含有1至30重量%之基本拋光粒子，1至50重量%之分散膠質粒子，1至40重量/之氧化劑和剩餘量之水。基本拋光粒子為選自包括氧化物、氮化物、碳化物和硼化物等一組中之金屬化合物。基本拋光粒子具有約自0.1至2微米平均直徑之粒度。分散之膠質粒子為至少一種選自包括氧化鋁和氧化矽一組中之氧化物。分散之膠質粒子具有約自2至500奈米平均直徑之粒度。
简体摘要：一种抛光基质表面之混合浆料混合物，以重量百分比计，该混合浆料混合物系含有1至30重量%之基本抛光粒子，1至50重量%之分散胶质粒子，1至40重量/之氧化剂和剩余量之水。基本抛光粒子为选自包括氧化物、氮化物、碳化物和硼化物等一组中之金属化合物。基本抛光粒子具有约自0.1至2微米平均直径之粒度。分散之胶质粒子为至少一种选自包括氧化铝和氧化硅一组中之氧化物。分散之胶质粒子具有约自2至500奈米平均直径之粒度。

2. 发明专利

TW554054B 製造陽極化塗層之方法及陽極化基體失效
简体标题：制造阳极化涂层之方法及阳极化基体
公开(公告)号：TW554054B
公开(公告)日：2003-09-21
申请号：TW090104664
申请日：2001-03-01
申请人：普拉塞爾S T 科技股份有限公司
发明人：麥可凱文克利登
IPC分类号： C22F , B32B
CPC分类号： C22F1/047 , C21D6/04 , C22F1/04 , C25D11/16
摘要：本發明係關於在陽極化前，經由低溫處理鋁而製造具有優良耐腐蝕性，和其他性質之陽極塗層在鋁和鋁合金表面上之方法。本發明亦係關於陽極塗層及關於經由本方法所製造之陽極塗塗之物件，該陽極化塗層具有0.001至0.5毫米之厚度，且就HC1之水溶液而論，至少5小時之滲透時間。
简体摘要：本发明系关于在阳极化前，经由低温处理铝而制造具有优良耐腐蚀性，和其他性质之阳极涂层在铝和铝合金表面上之方法。本发明亦系关于阳极涂层及关于经由本方法所制造之阳极涂涂之对象，该阳极化涂层具有0.001至0.5毫米之厚度，且就HC1之水溶液而论，至少5小时之渗透时间。

3. 发明专利

TW493016B 一種製備分散有氧化物的金屬鉻鋁釔基塗層的方法失效
简体标题：一种制备分散有氧化物的金属铬铝钇基涂层的方法
公开(公告)号：TW493016B
公开(公告)日：2002-07-01
申请号：TW084106454
申请日：1995-06-23
申请人：普拉塞爾S T 科技股份有限公司
发明人：湯姆斯亞倫泰勒 , 詹姆士肯特納普
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C23C4/12 , C23C4/06 , C23C4/073 , C23C4/11 , C23C4/126 , C23C4/129 , Y10T428/12056 , Y10T428/12139 , Y10T428/12146
摘要：一種製備M選自鐵、鈷、鎳和其混合物的MCrAlY基塗層的熱噴塗方法，其中該熱噴塗方法中的燃料-氧化劑混合物中的氧將大部分的釔組分轉化為Y2O3；小部分的鋁組分轉化為Al2O3，並且鋁和釔的存在量小於塗層的15%(體積)。
简体摘要：一种制备M选自铁、钴、镍和其混合物的MCrAlY基涂层的热喷涂方法，其中该热喷涂方法中的燃料-氧化剂混合物中的氧将大部分的钇组分转化为Y2O3；小部分的铝组分转化为Al2O3，并且铝和钇的存在量小于涂层的15%(体积)。

4. 发明专利

TWI290574B 磨光料漿 POLISHING SLURRY 失效
简体标题：磨光料浆 POLISHING SLURRY
公开(公告)号：TWI290574B
公开(公告)日：2007-12-01
申请号：TW090101022
申请日：2001-02-20
申请人：普拉塞爾S. T. 科技股份有限公司 PRAXAIR S.T. TECHNOLOGY, INC.
发明人：劉雷 LIU, LEI , 柯渦克桃莉斯 KWORK, DORIS
IPC分类号： C09G
CPC分类号： C23F3/00 , C09G1/02
摘要：磨光料漿包括具有小於約5μm的平均粒子直徑之磨光粒子。該料漿含有至少大約0.5總重量％之氧化劑其選自 HNO3、Ni(NO3)2、Al(NO3)3、Mg(NO3)2、Zn(NO3)2和NH4NO3。選自下列所構成之族群的少量但有效之輔氧化劑：過溴酸鹽、過氯酸鹽、過碘酸鹽、過硫酸鹽、過錳酸鹽、硝酸鐵、含鈰之鹽類、過苯甲酸、亞硝酸鹽化合物、過硼酸鹽化合物、次氯酸鹽化合物、亞氯酸鹽化合物和氯化物化合物，加速移除基體；以水形成其餘的含水料漿。
简体摘要：磨光料浆包括具有小于约5μm的平均粒子直径之磨光粒子。该料浆含有至少大约0.5总重量％之氧化剂其选自 HNO3、Ni(NO3)2、Al(NO3)3、Mg(NO3)2、Zn(NO3)2和NH4NO3。选自下列所构成之族群的少量但有效之辅氧化剂：过溴酸盐、过氯酸盐、过碘酸盐、过硫酸盐、过锰酸盐、硝酸铁、含铈之盐类、过苯甲酸、亚硝酸盐化合物、过硼酸盐化合物、次氯酸盐化合物、亚氯酸盐化合物和氯化物化合物，加速移除基体；以水形成其余的含水料浆。

5. 发明专利

TW572805B 硬焊填料金屬合金可撓性膠帶失效
简体标题：硬焊填料金属合金可挠性胶带
公开(公告)号：TW572805B
公开(公告)日：2004-01-21
申请号：TW084104812
申请日：1995-05-16
申请人：普拉塞爾S T 科技股份有限公司 PRAXAIR S.T. TECHNOLOGY, INC.
发明人：法蘭克約翰赫瑪尼克 FRANK JOHN HERMANEK
IPC分类号： B23K
CPC分类号： B23K35/0244 , B23K35/0233
摘要：本發明揭示一種硬焊填料金屬合金膠帶，它包含均質分散於整個水性分散液中的硬焊金屬合金粉末，如鎳-或鈷-質硬焊填料金屬，所迷的水性分散液包括一種結合劑，如聚乙烯醇縮丁醛，和增塑劑，如蓖麻酸丁酯和油酸鉀，也公開了生產膠帶的方法。
简体摘要：本发明揭示一种硬焊填料金属合金胶带，它包含均质分散于整个水性分散液中的硬焊金属合金粉末，如镍-或钴-质硬焊填料金属，所迷的水性分散液包括一种结合剂，如聚乙烯醇缩丁醛，和增塑剂，如蓖麻酸丁酯和油酸钾，也公开了生产胶带的方法。

6. 发明专利

TW550286B 研磨組成物及方法失效
简体标题：研磨组成物及方法
公开(公告)号：TW550286B
公开(公告)日：2003-09-01
申请号：TW090114824
申请日：2001-06-19
申请人：普拉塞爾S T 科技股份有限公司
发明人：法雷茲亞比巴西 , 菲爾O , 詹姆斯肯特克納普 , 劉雷
IPC分类号： C09K , C09G
CPC分类号： C03C19/00 , C09G1/02
摘要：一種研磨用槳體，其包括 0.1至 50(Ⅳ)重量％的金屬含氧酸加速劑、0.5至 50重量％的氧化鈰研磨粒子及其餘的水。該金屬含氧酸加速劑以選自鉻、鑭及原子序 59至 71的稀土元素、錳、鉬、鈮、鋨、錸、釕、鈦、鎢、釩、釔及鋯之金屬形成。
简体摘要：一种研磨用桨体，其包括 0.1至 50(Ⅳ)重量％的金属含氧酸加速剂、0.5至 50重量％的氧化铈研磨粒子及其余的水。该金属含氧酸加速剂以选自铬、镧及原子序 59至 71的稀土元素、锰、钼、铌、锇、铼、钌、钛、钨、钒、钇及锆之金属形成。

7. 发明专利

TW463048B 使用超音波檢測陰極濺鍍標靶的實際缺陷大小之方法有权
简体标题：使用超音波检测阴极溅镀标靶的实际缺陷大小之方法
公开(公告)号：TW463048B
公开(公告)日：2001-11-11
申请号：TW089122799
申请日：2001-02-20
申请人：普拉塞爾S T 科技股份有限公司
发明人：保羅S 吉爾曼 , 亞福瑞德史諾曼 , 安德烈迪瑟特
IPC分类号： G01N
CPC分类号： G01N29/11 , G01N29/30 , G01N2291/0289 , G01N2291/044
摘要：提供一種用超音波檢驗測定標靶內在缺陷實際大小之方法,其中超音波檢驗所產生之訊號振幅與藉由使用光學顯微鏡或掃描電子顯微鏡獲得之金相大小量度比較。由此比較,可以得到相互關係之因數,決定超音波量度的準確性。對於特定之濺鍍標靶材料,超音波檢驗得到缺陷大小之後可以乘以相互關係因數而決定該缺陷之實際缺陷大小。利用實際缺陷大小決定超音波檢得之缺陷大小,提供一種比先前方法之缺陷大小有更為準確之測定,並提供一種用於關鍵電路製造作業對於接收與剔退之可靠方式。
简体摘要：提供一种用超音波检验测定标靶内在缺陷实际大小之方法,其中超音波检验所产生之信号振幅与借由使用光学显微镜或扫描电子显微镜获得之金相大小量度比较。由此比较,可以得到相互关系之因子,决定超音波量度的准确性。对于特定之溅镀标靶材料,超音波检验得到缺陷大小之后可以乘以相互关系因子而决定该缺陷之实际缺陷大小。利用实际缺陷大小决定超音波检得之缺陷大小,提供一种比先前方法之缺陷大小有更为准确之测定,并提供一种用于关键电路制造作业对于接收与剔退之可靠方式。

8. 发明专利

TW584669B 製造具有低磁導率的鈷濺鍍標靶之方法有权
简体标题：制造具有低磁导率的钴溅镀标靶之方法
公开(公告)号：TW584669B
公开(公告)日：2004-04-21
申请号：TW089122798
申请日：2001-02-20
申请人：普拉塞爾S T 科技股份有限公司 PRAXAIR S.T. TECHNOLOGY, INC.
发明人：亞福瑞德史諾曼 ALFRED SNOWMAN , 荷爾格爾寇尼格斯曼恩 HOLGER KOENIGSMANN , 安德烈迪瑟特 ANDRE DESERT , 湯姆斯J 杭特 THOMAS J. HUNT
IPC分类号： C22C , C22F
CPC分类号： C22F1/10 , C23C14/3414 , H01F41/183 , Y10S148/158
摘要：本發明提供一種具有單相六角密集(h.c.p.)結構和較所用材料固有磁導率為小之磁導率之高純度鈷濺鍍標靶。實質上之純鈷被模鑄並緩慢冷卻於如至少15℃/分或更低之速率，形成單相h.c.p.晶體結構之鑄造標靶。此鑄造之標靶被熱加工於至少約為1000℃之溫度使有約65%或更大之應變於鈷材料內，繼以緩慢、控制於如15℃/分或較低之速率冷卻至室溫，以維持單相h.c.p.晶體結構。然後已冷卻之標靶被冷加工於實質之室溫使有約5-20%之應變。以此方法加工之本發明濺鍍標靶具有約小於9之磁導率和約70-160微米大小範圍之晶粒大小，和約130微米之平均晶粒大小。
简体摘要：本发明提供一种具有单相六角密集(h.c.p.)结构和较所用材料固有磁导率为小之磁导率之高纯度钴溅镀标靶。实质上之纯钴被模铸并缓慢冷却于如至少15℃/分或更低之速率，形成单相h.c.p.晶体结构之铸造标靶。此铸造之标靶被热加工于至少约为1000℃之温度使有约65%或更大之应变于钴材料内，继以缓慢、控制于如15℃/分或较低之速率冷却至室温，以维持单相h.c.p.晶体结构。然后已冷却之标靶被冷加工于实质之室温使有约5-20%之应变。以此方法加工之本发明溅镀标靶具有约小于9之磁导率和约70-160微米大小范围之晶粒大小，和约130微米之平均晶粒大小。

9. 发明专利

TW500818B 使用於磁控管陰極濺鍍之平面型鐵磁濺鍍靶,及使用於製造高磁通量平面型鐵磁濺鍍靶以用於磁控管陰極濺鍍之方法失效
简体标题：使用于磁控管阴极溅镀之平面型铁磁溅镀靶,及使用于制造高磁通量平面型铁磁溅镀靶以用于磁控管阴极溅镀之方法
公开(公告)号：TW500818B
公开(公告)日：2002-09-01
申请号：TW089120780
申请日：2001-02-20
申请人：普拉塞爾S T 科技股份有限公司
发明人：熊偉 , 胡宏利 , 彼得麥當勞
IPC分类号： C23C
CPC分类号： H01J37/3426 , C23C14/3414 , C23C14/35
摘要：本發明提供了一種平面型鐵磁濺鍍靶，係用來當作磁性薄膜之磁控管濺鍍法內的陰極，其中該鐵磁材料含有一些具變化導磁率的區域；一種堅固的單一平面型濺鍍靶，係包括如鈷、鎳、鐵或其合金之類的鐵磁材料，並使此平面靶接受機械變形技術、熱處理及/或熱機械處理，以便於濺鍍靶之內生成其導磁率與各相鄰區域不同的區域，該鐵磁濺鍍靶內的導磁率差異會引導磁性通量流的路徑穿過該靶，因此增加了靶濺鍍表面上的磁性洩漏通量。
简体摘要：本发明提供了一种平面型铁磁溅镀靶，系用来当作磁性薄膜之磁控管溅镀法内的阴极，其中该铁磁材料含有一些具变化导磁率的区域；一种坚固的单一平面型溅镀靶，系包括如钴、镍、铁或其合金之类的铁磁材料，并使此平面靶接受机械变形技术、热处理及/或热机械处理，以便于溅镀靶之内生成其导磁率与各相邻区域不同的区域，该铁磁溅镀靶内的导磁率差异会引导磁性通量流的路径穿过该靶，因此增加了靶溅镀表面上的磁性泄漏通量。

10. 发明专利

TW493015B 一種製備分散在金屬鉻鋁釔基塗層中的碳化物顆粒的方法失效
简体标题：一种制备分散在金属铬铝钇基涂层中的碳化物颗粒的方法
公开(公告)号：TW493015B
公开(公告)日：2002-07-01
申请号：TW084106453
申请日：1995-06-23
申请人：普拉塞爾S T 科技股份有限公司
发明人：湯姆斯亞倫泰勒 , 詹姆士肯特納普
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C23C4/06 , C23C4/10 , C23C4/126 , C23C4/129 , C23C4/18
摘要：一種用於製造MCrAlY基塗層的熱噴塗方法，其中M選自鐵、鈷、鎳和其混合物，及其中熱噴塗法的燃料中的碳，使塗層中30-80重量%的鉻組分轉化為碳化鉻。
简体摘要：一种用于制造MCrAlY基涂层的热喷涂方法，其中M选自铁、钴、镍和其混合物，及其中热喷涂法的燃料中的碳，使涂层中30-80重量%的铬组分转化为碳化铬。

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