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1. 发明专利

TWI670813B 波長選擇性熱輻射材料及其製造方法有权
简体标题：波长选择性热辐射材料及其制造方法
公开(公告)号：TWI670813B
公开(公告)日：2019-09-01
申请号：TW104118520
申请日：2015-06-08
申请人：公立大學法人首都大學東京 , TOKYO METROPOLITAN UNIVERSITY , 日商奧綺斯摩股份有限公司 , OKITSUMO INCORPORATED
发明人：益田秀樹 , MASUDA, HIDEKI , 近藤敏彰 , KONDO, TOSHIAKI , 豊永隆 , TOYONAGA, TAKASHI , 木村直史 , KIMURA, NAOSHI , 吉岡文孝 , YOSHIOKA, FUMITAKA
IPC分类号： H01L23/373 , H05K7/20 , C25F3/04 , C25F3/14 , C25F3/20 , C23F1/20

2. 发明专利

TWI603522B 鋰蓄電池用間隔物及其製造方法有权
简体标题：锂蓄电池用间隔物及其制造方法
公开(公告)号：TWI603522B
公开(公告)日：2017-10-21
申请号：TW101146214
申请日：2012-12-07
申请人：公立大學法人首都大學東京 , TOKYO METROPOLITAN UNIVERSITY , 上達膜化股份有限公司 , 3DOM INC.
发明人：金村聖志 , KANAMURA, KIYOSHI , 棟方裕一 , MUNAKATA, HIROKAZU , 金永成 , JIN, YONG CHENG
IPC分类号： H01M2/16 , H01M10/052
CPC分类号： H01M2/1686 , H01M2/145 , H01M2/1653 , H01M2/1666 , H01M10/052 , H01M10/4235

3. 发明专利

TWI518752B 梳型電極之製造方法有权
简体标题：梳型电极之制造方法
公开(公告)号：TWI518752B
公开(公告)日：2016-01-21
申请号：TW100112662
申请日：2011-04-12
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. , 公立大學法人首都大學東京 , TOKYO METROPOLITAN UNIVERSITY
发明人：淺井隆宏 , ASAI, TAKAHIRO , 三隅浩一 , MISUMI, KOICHI , 小野貴司 , ONO, TAKASHI , 金村聖志 , KANAMURA, KIYOSHI , 棟方裕一 , MUNAKATA, HIROKAZU
IPC分类号： H01L21/28
CPC分类号： H01M4/0457 , C25D3/60 , C25D13/02 , G03F7/023 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/0392 , H01M4/0452 , H01M4/13 , H01M4/626 , H01M4/78 , H01M2004/025

4. 发明专利

TW201340445A 鋰蓄電池用間隔物及其製造方法审中-公开
简体标题：锂蓄电池用间隔物及其制造方法
公开(公告)号：TW201340445A
公开(公告)日：2013-10-01
申请号：TW101146214
申请日：2012-12-07
申请人：公立大學法人首都大學東京 , TOKYO METROPOLITAN UNIVERSITY , 桑達姆技術股份有限公司 , 3DOM TECHNOLOGY INC.
发明人：金村聖志 , KANAMURA, KIYOSHI , 棟方裕一 , MUNAKATA, HIROKAZU , 金永成 , JIN, YONG CHENG
IPC分类号： H01M2/16 , H01M10/052
CPC分类号： H01M2/1686 , H01M2/145 , H01M2/1653 , H01M2/1666 , H01M10/052 , H01M10/4235
摘要：本發明係提供一種鋰蓄電池用間隔物，其係含有基體與被覆該基體之至少一表面的多孔質耐熱性聚醯亞胺膜之層積物的鋰蓄電池用間隔物，其特徵為該多孔質耐熱性聚醯亞胺膜具有三次元立體規則配列的空孔及5~20μm之膜厚。可避免因樹枝狀鋰之成長所導致之間隔物穿破情形，且同時可達成鋰蓄電池用間隔物之要求。
简体摘要：本发明系提供一种锂蓄电池用间隔物，其系含有基体与被覆该基体之至少一表面的多孔质耐热性聚酰亚胺膜之层积物的锂蓄电池用间隔物，其特征为该多孔质耐热性聚酰亚胺膜具有三次元三維守则配列的空孔及5~20μm之膜厚。可避免因树枝状锂之成长所导致之间隔物穿破情形，且同时可达成锂蓄电池用间隔物之要求。

5. 发明专利

TW201230462A 二次電池用多孔質電極审中-公开
简体标题：二次电池用多孔质电极
公开(公告)号：TW201230462A
公开(公告)日：2012-07-16
申请号：TW100125655
申请日：2011-07-20
申请人：東京應化工業股份有限公司 , 公立大學法人首都大學東京
发明人：淺井隆宏 , 小野貴司 , 金村聖志 , 棟方裕一
IPC分类号： H01M
CPC分类号： H01M4/13 , C25D3/60 , H01M4/0452 , H01M4/139 , H01M4/1395 , H01M4/525 , H01M4/581 , H01M4/8605 , H01M4/8626 , H01M8/023 , H01M8/0247 , H01M8/1062 , H01M10/052 , Y02E60/122
摘要：本發明之課題在於提供一種充放電週期特性優異且可提高二次電池容量的電極。其解決手段在於使用電極(1),該電極(1)係在集電體(3)之表面,形成有相互地離間的複數個多孔質區域結構(2)之集合,而多孔質區域結構(2),係以俯視觀察呈不具銳角的多角形形狀,且前述多角形形狀之最大徑為120��m以下。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种充放电周期特性优异且可提高二次电池容量的电极。其解决手段在于使用电极(1),该电极(1)系在集电体(3)之表面,形成有相互地离间的复数个多孔质区域结构(2)之集合,而多孔质区域结构(2),系以俯视观察呈不具锐角的多角形形状,且前述多角形形状之最大径为120��m以下。

6. 发明专利

TW201217081A 管加工裝置及方法审中-公开
简体标题：管加工设备及方法
公开(公告)号：TW201217081A
公开(公告)日：2012-05-01
申请号：TW100122217
申请日：2011-06-24
申请人：公立大學法人首都大學東京 , 昭和螺旋管製作所股份有限公司
发明人：真鍋健一 , 古島剛 , 佐佐木修
IPC分类号： B21D
CPC分类号： B21D15/06 , B21D17/025
摘要：管加工裝置(10)是具備：加熱盤管(13)；及搬運機構(14、15)；以及控制單元(16)，該加熱盤管(13)是將波紋管(B)的加熱部(S)予以加熱，該搬運機構(14、15)是將波紋管(B)予以搬運，該控制單元(16)是將搬運機構(14、15)予以控制。搬運機構(14、15)是亦具有作為朝向波紋管(B)的軸方向施加壓縮力之壓縮力施加手段的功能。控制單元(16)是以每次2倍於連續形成於波紋管(B)的波浪狀褶部之節距的距離進行搬運管(P)之方式來控制搬運機構(14、15)。
简体摘要：管加工设备(10)是具备：加热盘管(13)；及搬运机构(14、15)；以及控制单元(16)，该加热盘管(13)是将波纹管(B)的加热部(S)予以加热，该搬运机构(14、15)是将波纹管(B)予以搬运，该控制单元(16)是将搬运机构(14、15)予以控制。搬运机构(14、15)是亦具有作为朝向波纹管(B)的轴方向施加压缩力之压缩力施加手段的功能。控制单元(16)是以每次2倍于连续形成于波纹管(B)的波浪状褶部之节距的距离进行搬运管(P)之方式来控制搬运机构(14、15)。

7. 发明专利

TW201803808A 氣體分離膜之製造方法审中-公开
简体标题：气体分离膜之制造方法
公开(公告)号：TW201803808A
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：TW106112797
申请日：2017-04-17
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. , 公立大學法人首都大學東京 , TOKYO METROPOLITAN UNIVERSITY
发明人：川上浩良 , KAWAKAMI, HIROYOSHI , 田中学 , TANAKA, MANABU , 亀山百合 , KAMEYAMA, YURI , 大澤梓 , OSAWA, AZUSA , 伊左治忠之 , ISAJI, TADAYUKI , 菊池正 , KIKUCHI, TAKAMASA
IPC分类号： C01B33/18 , C01B33/149 , B82B3/00
CPC分类号： B01D53/22 , B01D71/02 , B01D71/26 , B01D71/64 , B01D71/68 , B01D71/70 , B82Y40/00 , C01B33/18 , C09C1/28 , C09C3/10
摘要：本發明課題在於提供一種含有在高分子基質中不會凝聚，且均勻分散性優良的表面修飾二氧化矽奈米粒子之透氣量特性極為優良的氣體分離膜之製造方法。解決手段為一種氣體分離膜之製造方法，其係包含下述(a)、(b)、(c)及(d)步驟：(a)步驟：對分散於第1溶媒之二氧化矽奈米粒子的表面，在分散於前述第1溶媒的狀態下藉由含有反應性官能基之化合物進行處理，調製經反應性官能基修飾之二氧化矽奈米粒子而得到經反應性官能基修飾之二氧化矽奈米粒子的第1溶媒分散液之步驟、(b)步驟：在使(a)步驟中所得之經反應性官能基修飾之二氧化矽奈米粒子的第1溶媒分散液之分散媒未經乾燥即取代為第2溶媒後，在第2溶媒存在下使樹枝狀高分子形成用單體或超分支形成用單體與經反應性官能基修飾之二氧化矽奈米粒子反應，調製對前述反應性官能基加成樹枝狀高分子或超分支高分子的二氧化矽奈米粒子而得到加成有樹枝狀高分子或超分支高分子之二氧化矽奈米粒子之步驟、(c)步驟：將前述(b)步驟中所得之前述加成有樹枝狀高分子或超分支高分子之二氧化矽奈米粒子與基質樹脂混合之步驟、(d)步驟：將前述(c)步驟中所得之混合液塗佈於基材後，去除溶媒之步驟。
简体摘要：本发明课题在于提供一种含有在高分子基质中不会凝聚，且均匀分散性优良的表面修饰二氧化硅奈米粒子之透气量特性极为优良的气体分离膜之制造方法。解决手段为一种气体分离膜之制造方法，其系包含下述(a)、(b)、(c)及(d)步骤：(a)步骤：对分散于第1溶媒之二氧化硅奈米粒子的表面，在分散于前述第1溶媒的状态下借由含有反应性官能基之化合物进行处理，调制经反应性官能基修饰之二氧化硅奈米粒子而得到经反应性官能基修饰之二氧化硅奈米粒子的第1溶媒分散液之步骤、(b)步骤：在使(a)步骤中所得之经反应性官能基修饰之二氧化硅奈米粒子的第1溶媒分散液之分散媒未经干燥即取代为第2溶媒后，在第2溶媒存在下使树枝状高分子形成用单体或超分支形成用单体与经反应性官能基修饰之二氧化硅奈米粒子反应，调制对前述反应性官能基加成树枝状高分子或超分支高分子的二氧化硅奈米粒子而得到加成有树枝状高分子或超分支高分子之二氧化硅奈米粒子之步骤、(c)步骤：将前述(b)步骤中所得之前述加成有树枝状高分子或超分支高分子之二氧化硅奈米粒子与基质树脂混合之步骤、(d)步骤：将前述(c)步骤中所得之混合液涂布于基材后，去除溶媒之步骤。

8. 发明专利

TW201227811A 梳型電極之製造方法审中-公开
简体标题：梳型电极之制造方法
公开(公告)号：TW201227811A
公开(公告)日：2012-07-01
申请号：TW100112662
申请日：2011-04-12
申请人：東京應化工業股份有限公司 , 公立大學法人首都大學東京
发明人：淺井隆宏 , 三隅浩一 , 小野貴司 , 金村聖志 , 棟方裕一
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01M4/0457 , C25D3/60 , C25D13/02 , G03F7/023 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/0392 , H01M4/0452 , H01M4/13 , H01M4/626 , H01M4/78 , H01M2004/025
摘要：本發明課題為提供一種梳型電極之製造方法,係可在微細形狀的集電體表面以高精密度擔持大量的活性物質。課題解決方法為本發明之梳型電極(1a、1b)之製造方法,其特徵為含有:在基材(4)表面形成一對梳子狀集電體(2a、2b)之集電體形成步驟;在基材(4)表面形成光阻層(6)之光阻塗佈步驟;與形成用於形成正極(1a)或負極(1b)的導孔(7a、7b)之導孔形成步驟,而形成光阻層(6)之光阻組成物係使用:(1)陽離子聚合系光阻組成物、(2)酚醛系光阻組成物、(3)化學增幅系光阻組成物、或(4)含有具有乙烯性不飽和鍵的單體及/或樹脂及自由基聚合起始劑,且在含有單體的情況下,該單體一分子中所含的乙烯性不飽和鍵為3個以下之自由基聚合系光阻組成物。
简体摘要：本发明课题为提供一种梳型电极之制造方法,系可在微细形状的集电体表面以高精密度担持大量的活性物质。课题解决方法为本发明之梳型电极(1a、1b)之制造方法,其特征为含有:在基材(4)表面形成一对梳子状集电体(2a、2b)之集电体形成步骤;在基材(4)表面形成光阻层(6)之光阻涂布步骤;与形成用于形成正极(1a)或负极(1b)的导孔(7a、7b)之导孔形成步骤,而形成光阻层(6)之光阻组成物系使用:(1)阳离子聚合系光阻组成物、(2)酚醛系光阻组成物、(3)化学增幅系光阻组成物、或(4)含有具有乙烯性不饱和键的单体及/或树脂及自由基聚合起始剂,且在含有单体的情况下,该单体一分子中所含的乙烯性不饱和键为3个以下之自由基聚合系光阻组成物。

9. 发明专利

TWI517485B 二次電池用多孔質電極有权
简体标题：二次电池用多孔质电极
公开(公告)号：TWI517485B
公开(公告)日：2016-01-11
申请号：TW100125655
申请日：2011-07-20
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. , 公立大學法人首都大學東京 , TOKYO METROPOLITAN UNIVERSITY
发明人：淺井隆宏 , ASAI, TAKAHIRO , 小野貴司 , ONO, TAKASHI , 金村聖志 , KANAMURA, KIYOSHI , 棟方裕一 , MUNAKATA, HIROKAZU
IPC分类号： H01M4/02 , H01M4/13
CPC分类号： H01M4/13 , C25D3/60 , H01M4/0452 , H01M4/139 , H01M4/1395 , H01M4/525 , H01M4/581 , H01M4/8605 , H01M4/8626 , H01M8/023 , H01M8/0247 , H01M8/1062 , H01M10/052 , Y02E60/122

10. 发明专利

TW201219122A 管加工裝置及方法审中-公开
简体标题：管加工设备及方法
公开(公告)号：TW201219122A
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：TW100122219
申请日：2011-06-24
申请人：公立大學法人首都大學東京 , 昭和螺旋管製作所股份有限公司
发明人：真鍋健一 , 古島剛 , 佐佐木修
IPC分类号： B21D
CPC分类号： B21D17/025 , B21D15/06
摘要：管加工裝置(10)是具備：兩具夾頭(11、12)、及心軸(13)；該兩具夾頭(11、12)，是將由管(P)的加熱盤管(14)所成之加熱部(S)夾在其間之方式，在第1及第2保持位置(H1、H2)，將管(P)予以分別保持；該心軸(13)，是在第1及第2保持位置(H1、H2)間，與管(P)相抵接，且支承管(P)。又，使用搬運裝置(15、16)，使保持位置(H1、H2)間之距離縮短，來對於其間之管(P)施加朝向軸方向的壓縮力。
简体摘要：管加工设备(10)是具备：两具夹头(11、12)、及心轴(13)；该两具夹头(11、12)，是将由管(P)的加热盘管(14)所成之加热部(S)夹在其间之方式，在第1及第2保持位置(H1、H2)，将管(P)予以分别保持；该心轴(13)，是在第1及第2保持位置(H1、H2)间，与管(P)相抵接，且支承管(P)。又，使用搬运设备(15、16)，使保持位置(H1、H2)间之距离缩短，来对于其间之管(P)施加朝向轴方向的压缩力。

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