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1. 发明专利

TWI698468B 熱射線屏蔽膜、熱射線屏蔽層合透明基材、汽車、建物、分散體、混合組成物、及分散體之製造方法、分散液、分散液之製造方法有权
简体标题：热射线屏蔽膜、热射线屏蔽层合透明基材、汽车、建物、分散体、混合组成物、及分散体之制造方法、分散液、分散液之制造方法
公开(公告)号：TWI698468B
公开(公告)日：2020-07-11
申请号：TW105120512
申请日：2016-06-29
申请人：日商住友金屬礦山股份有限公司 , SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.
发明人：町田佳輔 , MACHIDA, KEISUKE , 中山博貴 , NAKAYAMA, HIROKI
IPC分类号： C08J5/18 , C08K3/22 , C08L57/00 , C08L29/14 , C08L23/08 , C08L31/04 , C08K5/54 , C08K5/3475 , C09K3/00 , B32B17/10 , B32B27/30 , B32B27/18

2. 发明专利

TWI688549B 近紅外線吸收微粒子分散液及其製造方法有权
简体标题：近红外线吸收微粒子分散液及其制造方法
公开(公告)号：TWI688549B
公开(公告)日：2020-03-21
申请号：TW105102637
申请日：2016-01-27
申请人：日商住友金屬礦山股份有限公司 , SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.
发明人：岡田美香 , OKADA, MIKA , 福山英昭 , FUKUYAMA, HIDEAKI
IPC分类号： C01G41/00 , C09C1/00 , C09C3/06 , C09D1/00 , C09D7/40 , C09D5/32

3. 发明专利

TWI681408B 鎳糊及鎳糊之製造方法有权
简体标题：镍煳及镍煳之制造方法
公开(公告)号：TWI681408B
公开(公告)日：2020-01-01
申请号：TW104131699
申请日：2015-09-25
申请人：日商住友金屬礦山股份有限公司 , SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.
发明人：瀧田有香 , TAKITA, YUKA , 山邊秀敏 , YAMABE, HIDETOSHI
IPC分类号： H01B1/22 , H01B5/00 , H01B13/00 , H01G4/008 , H01G4/12 , H01G4/30

4. 发明专利

TWI681088B 熱射線屏蔽粒子、熱射線屏蔽粒子分散液、熱射線屏蔽粒子分散體、熱射線屏蔽粒子分散體層合透明基材、紅外線吸收透明基材、熱射線屏蔽粒子之製造方法有权
简体标题：热射线屏蔽粒子、热射线屏蔽粒子分散液、热射线屏蔽粒子分散体、热射线屏蔽粒子分散体层合透明基材、红外线吸收透明基材、热射线屏蔽粒子之制造方法
公开(公告)号：TWI681088B
公开(公告)日：2020-01-01
申请号：TW104135390
申请日：2015-10-28
申请人：日商住友金屬礦山股份有限公司 , SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.
发明人：町田佳輔 , MACHIDA, KEISUKE , 岡田美香 , OKADA, MIKA , 藤田賢一 , FUJITA, KENICHI
IPC分类号： C30B29/32 , C30B29/22 , C30B29/60 , C09D5/32 , C08K3/22 , C30B28/08

5. 发明专利

TWI680103B 近紅外線吸收微粒子分散液及其製造方法有权
简体标题：近红外线吸收微粒子分散液及其制造方法
公开(公告)号：TWI680103B
公开(公告)日：2019-12-21
申请号：TW105102628
申请日：2016-01-27
申请人：日商住友金屬礦山股份有限公司 , SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.
发明人：岡田美香 , OKADA, MIKA , 福山英昭 , FUKUYAMA, HIDEAKI
IPC分类号： C01G41/00 , C09C1/00 , C09C3/06 , C09D1/00 , C09D7/40 , C09D5/32

6. 发明专利

TW201920001A 厚膜電阻體用組成物、厚膜電阻糊及厚膜電阻體审中-公开
简体标题：厚膜电阻体用组成物、厚膜电阻煳及厚膜电阻体
公开(公告)号：TW201920001A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107133122
申请日：2018-09-20
申请人：日商住友金屬礦山股份有限公司 , SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.
发明人：永野崇仁 , NAGANO, TAKAHITO
IPC分类号： C01G55/00 , C03C3/00 , H01B1/08 , H01B1/14 , H01B1/20 , H01C17/065 , H01C7/00 , H01C17/26
摘要：本發明課題在於提供一種電阻體形成時使用透過脈衝修整之調整手法，而可調整之電阻值的變化量，即電阻值的降低率較大的厚膜電阻體用組成物、厚膜電阻糊及厚膜電阻體。　　解決手段為，在含有由氧化釕與釕酸鉛之混合粉末所構成的氧化釕系導電物粉末與玻璃料的厚膜電阻體用組成物中，進一步含有16質量%以上33質量%以下的銀粉末，而使將添加有機媒液而成之厚膜電阻糊進行燒結而形成厚膜電阻體時，厚膜電阻體中使用透過脈衝修整之調整手法，而可調整之電阻值的降低率大於5%。
简体摘要：本发明课题在于提供一种电阻体形成时使用透过脉冲修整之调整手法，而可调整之电阻值的变化量，即电阻值的降低率较大的厚膜电阻体用组成物、厚膜电阻煳及厚膜电阻体。　　解决手段为，在含有由氧化钌与钌酸铅之混合粉末所构成的氧化钌系导电物粉末与玻璃料的厚膜电阻体用组成物中，进一步含有16质量%以上33质量%以下的银粉末，而使将添加有机媒液而成之厚膜电阻煳进行烧结而形成厚膜电阻体时，厚膜电阻体中使用透过脉冲修整之调整手法，而可调整之电阻值的降低率大于5%。

7. 发明专利

TW201906965A 黏著劑層、近紅外線吸收薄膜、夾層構造體、積層體、黏著劑組成物及其製造方法审中-公开
简体标题：黏着剂层、近红外线吸收薄膜、夹层构造体、积层体、黏着剂组成物及其制造方法
公开(公告)号：TW201906965A
公开(公告)日：2019-02-16
申请号：TW107121222
申请日：2018-06-19
申请人：日商住友金屬礦山股份有限公司 , SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.
发明人：岡田美香 , OKADA, MIKA , 長南武 , CHONAN, TAKESHI , 常松裕史 , TSUNEMATSU, HIROFUMI
IPC分类号： C09J11/04 , C01G41/00 , C09J11/08 , C09J133/00 , C09J11/06 , C09J7/00 , B32B7/12 , B32B17/06 , G02B5/22
摘要：本發明提供一種黏著劑層，其係使可見光區域穿透且在近紅外線區域具有吸收、霧度低、生產性優異。本發明所提供的黏著劑層，係含有複合鎢氧化物粒子、分散劑、具胺基的金屬偶合劑、黏著劑以及交聯劑的黏著劑層；其中，上述複合鎢氧化物粒子，在將矽粉末標準試料(NIST製、640c)的(220)面之XRD尖峰強度值設為1時，其XRD峰頂強度比值係0.13以上。
简体摘要：本发明提供一种黏着剂层，其系使可见光区域穿透且在近红外线区域具有吸收、雾度低、生产性优异。本发明所提供的黏着剂层，系含有复合钨氧化物粒子、分散剂、具胺基的金属偶合剂、黏着剂以及交联剂的黏着剂层；其中，上述复合钨氧化物粒子，在将硅粉末标准试料(NIST制、640c)的(220)面之XRD尖峰强度值设为1时，其XRD峰顶强度比值系0.13以上。

8. 发明专利

TW201842437A 導電性基板审中-公开
简体标题：导电性基板
公开(公告)号：TW201842437A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107112919
申请日：2018-04-16
申请人：日商住友金屬礦山股份有限公司 , SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.
发明人：下地匠 , SHIMOJI, TAKUMI
IPC分类号： G06F3/041 , B32B15/08 , H01B5/14 , H01B1/02
摘要：提供一種導電性基板，具有：透明基材；形成在上述透明基材的至少一個表面上的金屬層；及形成在上述金屬層上的黑化層，上述黑化層為含有單質鎳、鎳氧化物、鎳氫氧化物、及銅的粗化鍍層。
简体摘要：提供一种导电性基板，具有：透明基材；形成在上述透明基材的至少一个表面上的金属层；及形成在上述金属层上的黑化层，上述黑化层为含有单质镍、镍氧化物、镍氢氧化物、及铜的粗化镀层。

9. 发明专利

TW201838922A 熱射線遮蔽微粒子、熱射線遮蔽微粒子分散液、熱射線遮蔽膜用塗佈液，暨使用該等之熱射線遮蔽膜、熱射線遮蔽樹脂薄膜、熱射線遮蔽微粒子分散體审中-公开
简体标题：热射线屏蔽微粒子、热射线屏蔽微粒子分散液、热射线屏蔽膜用涂布液，暨使用该等之热射线屏蔽膜、热射线屏蔽树脂薄膜、热射线屏蔽微粒子分散体
公开(公告)号：TW201838922A
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：TW106141164
申请日：2017-11-27
申请人：日商住友金屬礦山股份有限公司 , SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.
发明人：足立健治 , ADACHI, KENJI , 吉尾里司 , YOSHIO, SATOSHI
IPC分类号： C01F17/00 , C09D5/32 , C09D7/40 , C08J7/04
摘要：本發明係提供：具有可見穿透性高、同時具有優異熱射線遮蔽效果與安定耐侯性的熱射線遮蔽微粒子、使用該熱射線遮蔽微粒子的熱射線遮蔽微粒子分散液、熱射線遮蔽膜用塗佈液、暨使用該等之熱射線遮蔽膜、熱射線遮蔽樹脂薄膜、熱射線遮蔽微粒子分散體。本發明的熱射線遮蔽微粒子係含有一般式CaxLa1-xBm所示鈣鑭硼化物微粒子的熱射線遮蔽微粒子；其中，上述鈣鑭硼化物微粒子的微粒子形狀係從以下中選擇之至少一種形狀：1)使用X射線小角度散射法所獲得之直線的斜率值Ve為-3.8≦Ve≦-1.5；以及2)平板狀圓柱形狀或扁平旋轉橢圓體形狀，且寬高比d/h值為1.5≦d/h≦20。本發明亦提供使用該微粒子的熱射線遮蔽微粒子分散液、熱射線遮蔽膜用塗佈液、暨使用該等之熱射線遮蔽膜、熱射線遮蔽樹脂薄膜、熱射線遮蔽微粒子分散體。
简体摘要：本发明系提供：具有可见穿透性高、同时具有优异热射线屏蔽效果与安定耐侯性的热射线屏蔽微粒子、使用该热射线屏蔽微粒子的热射线屏蔽微粒子分散液、热射线屏蔽膜用涂布液、暨使用该等之热射线屏蔽膜、热射线屏蔽树脂薄膜、热射线屏蔽微粒子分散体。本发明的热射线屏蔽微粒子系含有一般式CaxLa1-xBm所示钙镧硼化物微粒子的热射线屏蔽微粒子；其中，上述钙镧硼化物微粒子的微粒子形状系从以下中选择之至少一种形状：1)使用X射线小角度散射法所获得之直线的斜率值Ve为-3.8≦Ve≦-1.5；以及2)平板状圆柱形状或扁平旋转椭圆体形状，且宽高比d/h值为1.5≦d/h≦20。本发明亦提供使用该微粒子的热射线屏蔽微粒子分散液、热射线屏蔽膜用涂布液、暨使用该等之热射线屏蔽膜、热射线屏蔽树脂薄膜、热射线屏蔽微粒子分散体。

10. 发明专利

TWI638699B 被覆的焊料材料及其製造方法有权
简体标题：被覆的焊料材料及其制造方法
公开(公告)号：TWI638699B
公开(公告)日：2018-10-21
申请号：TW104109529
申请日：2015-03-25
申请人：日商住友金屬礦山股份有限公司 , SUMITOMO METAL MINING CO., LTD.
发明人：小林宏 , KOBAYASHI, HIROSHI , 山辺秀敏 , YAMABE, HIDETOSHI , 宮内恭子 , MIYAUCHI, KYOKO
IPC分类号： B23K35/22 , B23K35/40 , H01L21/60

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