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81. 发明专利

TWI242686B 微影裝置校正方法,對準方法,電腦程式,微影裝置及元件製造方法 A METHOD OF CALIBRATING A LITHOGRAPHIC APPARATUS, AN ALIGNMENT METHOD, A COMPUTER PROGRAM, A LITHOGRAPHIC APPARATUS AND A DEVICE MANUFACTURING METHOD 失效
简体标题：微影设备校正方法,对准方法,电脑进程,微影设备及组件制造方法 A METHOD OF CALIBRATING A LITHOGRAPHIC APPARATUS, AN ALIGNMENT METHOD, A COMPUTER PROGRAM, A LITHOGRAPHIC APPARATUS AND A DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TWI242686B
公开(公告)日：2005-11-01
申请号：TW093113717
申请日：2004-05-14
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：亨利卡斯威爾瑪斯瑪利亞范布爾 VAN BUEL, HENRICUS WILHELMUS MARIA , 古晨昆 GUI, CHENG-QUN , 愛利克斯戴維里斯 DE VRIES, ALEX
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F9/7019 , G03F9/7003 , G03F9/7011 , G03F9/7084
摘要：本發明提供一種補償正反面對準光學器件之失真的方法，其中計算出基板標記的估計位置與實際位置之間的位移向量。亦藉由將參考基板移動固定的量，並將參考基板反面上一點的影像的移動距離同參考基板正面上一對應點的移動距離相比較，來計算出一光學校正陣列。而後，將該位移向量與光學校正陣列用於精確計算另外基板的位置。
該正反面對準光學器件可足夠大以便藉由每個分枝同時投影複數個標記。將一參考標記植入正反面對準光學器件的物件窗口(object window)上，且由正反面對準光學器件的單一分枝所投影的參考標記與基板標記之影像的相對位置變化，可顯示出該正反面對準光學器件之光學特性的變化。
简体摘要：本发明提供一种补偿正反面对准光学器件之失真的方法，其中计算出基板标记的估计位置与实际位置之间的位移矢量。亦借由将参考基板移动固定的量，并将参考基板反面上一点的影像的移动距离同参考基板正面上一对应点的移动距离相比较，来计算出一光学校正数组。而后，将该位移矢量与光学校正数组用于精确计算另外基板的位置。该正反面对准光学器件可足够大以便借由每个分枝同时投影复数个标记。将一参考标记植入正反面对准光学器件的对象窗口(object window)上，且由正反面对准光学器件的单一分枝所投影的参考标记与基板标记之影像的相对位置变化，可显示出该正反面对准光学器件之光学特性的变化。

82. 发明专利

TW200515108A 光罩對準程序 RETICLE ALIGNMENT PROCEDURE 审中-公开
简体标题：光罩对准进程 RETICLE ALIGNMENT PROCEDURE
公开(公告)号：TW200515108A
公开(公告)日：2005-05-01
申请号：TW093130677
申请日：2004-10-08
申请人：聯華電子股份有限公司 UNITED MICROELECTRONICS CORP.
发明人：余政宏 YU, CHENG-HUNG
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F9/7011 , G03F9/7019 , G03F9/7088
摘要：一半導體晶片表面包含至少一前層晶片對準記號。首先進行一基線測試，以將一當層光罩上之一當層光罩對準記號與該前層晶片對準記號相對準。接著擷取並比對該當層光罩對準記號與該前層晶片對準記號之影像訊號，以校正該當層光罩與該半導體晶片之相對座標。最後進行一微影製程，將該當層光罩上之該當層光罩對準記號之圖形轉移至該半導體晶片上，以於該半導體晶片上形成一相對應於該當層光罩對準記號之當層晶片對準記號。
简体摘要：一半导体芯片表面包含至少一前层芯片对准记号。首雪铁龙行一基线测试，以将一当层光罩上之一当层光罩对准记号与该前层芯片对准记号相对准。接着截取并比对该当层光罩对准记号与该前层芯片对准记号之影像信号，以校正该当层光罩与该半导体芯片之相对座标。最后进行一微影制程，将该当层光罩上之该当层光罩对准记号之图形转移至该半导体芯片上，以于该半导体芯片上形成一相对应于该当层光罩对准记号之当层芯片对准记号。

83. 发明专利

TW200500777A 投影系統及其使用方法 PROJECTION SYSTEM AND METHOD OF USE THEREOF 审中-公开
简体标题：投影系统及其使用方法 PROJECTION SYSTEM AND METHOD OF USE THEREOF
公开(公告)号：TW200500777A
公开(公告)日：2005-01-01
申请号：TW093110005
申请日：2004-04-09
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：馬堤納斯漢德克安東尼里德斯 LEENDERS, MARTINUS HENDRIKUS ANTONIUS , 漢德克鶴門馬里克克斯 COX, HENRIKUS HERMAN MARIE , 里恩馬丁李夫賽 LEVASIER, LEON MARTIN
IPC分类号： G03B
CPC分类号： G03F9/7019 , G03F7/70258 , G03F7/70725 , G03F7/70775 , G03F7/709 , G03F9/7011
摘要：本發明係關於一種投影系統，包括至少一投影裝置(10)，其配置用於接受來自一第一物體(MA)的一投影光束(PB)，並將其投影光束投射至一第二物體(W)。該投影系統(PL)進一步包括一感測器(11)，用於測量該至少一投影裝置(10)的一空間方位。該投影系統(PL)包括一處理單元(40)，其配置連接該至少一感測器(11)。該處理單元(40)進一步的配置連接一定位裝置(PW，PM)，根據該至少一投影裝置的測量所得的空間方位，來調整該第一(MA)與第二物體(W)之中至少一個的位置。
简体摘要：本发明系关于一种投影系统，包括至少一投影设备(10)，其配置用于接受来自一第一物体(MA)的一投影光束(PB)，并将其投影光束投射至一第二物体(W)。该投影系统(PL)进一步包括一传感器(11)，用于测量该至少一投影设备(10)的一空间方位。该投影系统(PL)包括一处理单元(40)，其配置连接该至少一传感器(11)。该处理单元(40)进一步的配置连接一定位设备(PW，PM)，根据该至少一投影设备的测量所得的空间方位，来调整该第一(MA)与第二物体(W)之中至少一个的位置。

84. 发明专利

TW200422693A 用以將一基材相對於一支撐平臺定位之方法與設備 METHODS AND APPARATUS FOR POSITIONING A SUBSTRATE RELATIVE TO A SUPPORT STAGE 失效
简体标题：用以将一基材相对于一支撑平台定位之方法与设备 METHODS AND APPARATUS FOR POSITIONING A SUBSTRATE RELATIVE TO A SUPPORT STAGE
公开(公告)号：TW200422693A
公开(公告)日：2004-11-01
申请号：TW093104368
申请日：2004-02-20
申请人：應用材料股份有限公司 APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：栗田伸一 KURITA, SHINICHI , 庫斯勒雷克斯 KUSLER, REX
IPC分类号： G02F
CPC分类号： G03F7/70825 , G03F7/70666 , G03F7/707 , G03F7/70716 , G03F7/70775 , G03F7/70791 , G03F9/7011 , H01L21/68
摘要：茲提供一種對準裝置，其包括(1)一用於接觸一由一平台所支撐之基材之一邊緣的第一推進器，其並可沿一第一路徑作橫向移動；(2)一用於接觸該基材邊緣之一第二推進器，其可沿一第二路徑作橫向移動，且該第二路徑係以一角度與該第一路徑相交；(3)一框架，其係可動地與該第一及該第二推進器相耦接，該框架係用於將該第一及該第二推進器保持在該基材邊緣之一高度；(4)一第一偏壓元件，其係連接於該第一推進器及該框架間，其並可用於使該第一推進器相對於該基材邊緣產生偏壓；以及(5)一第二偏壓元件，其係連接於該第二推進器及該框架間，並可用於使該第二推進器相對於該基材邊緣產生偏壓，使之不受該第一推進器之該偏壓影響。本發明亦提供許多其他態樣。
简体摘要：兹提供一种对准设备，其包括(1)一用于接触一由一平台所支撑之基材之一边缘的第一推进器，其并可沿一第一路径作横向移动；(2)一用于接触该基材边缘之一第二推进器，其可沿一第二路径作横向移动，且该第二路径系以一角度与该第一路径相交；(3)一框架，其系可动地与该第一及该第二推进器相耦接，该框架系用于将该第一及该第二推进器保持在该基材边缘之一高度；(4)一第一偏压组件，其系连接于该第一推进器及该框架间，其并可用于使该第一推进器相对于该基材边缘产生偏压；以及(5)一第二偏压组件，其系连接于该第二推进器及该框架间，并可用于使该第二推进器相对于该基材边缘产生偏压，使之不受该第一推进器之该偏压影响。本发明亦提供许多其他态样。

85. 发明专利

TW200404348A 晶圓預對準裝置及方法失效
简体标题：晶圆预对准设备及方法
公开(公告)号：TW200404348A
公开(公告)日：2004-03-16
申请号：TW092113507
申请日：2003-05-19
申请人：安川電機股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA YASKAWA DENKI
发明人：稻永正道 , 勝田信一 , 有永雄司
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03F9/7011 , H01L21/681 , H01L23/544 , H01L2223/54493 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要：本發明的課題為簡單地判斷晶圓成為所定的計測位置而將計測指令輸出至感測控制器，並可開始計測。具備：晶圓旋轉手段2，及旋轉檢測手段3，及投光於晶圓的周緣部的投光手段9，及直線狀地配置的CCD線性感測器26，及檢測晶圓的邊緣位置並求出定向平面位置與缺口位置，中心位置的至少一位置的信號處理手段10，17的晶圓預對準裝置，其特徵為具備；接收旋轉檢測手段的信號而變換成旋轉位置資訊的可逆計數器21a，及儲存旋轉間隔角度時的旋轉位置資訊的計測角度設定暫存器21b，及比較計測角度設定暫存器的設定值與可逆計數器的計數值的比較器21c。
简体摘要：本发明的课题为简单地判断晶圆成为所定的计测位置而将计测指令输出至传感控制器，并可开始计测。具备：晶圆旋转手段2，及旋转检测手段3，及投光于晶圆的周缘部的投光手段9，及直线状地配置的CCD线性传感器26，及检测晶圆的边缘位置并求出定向平面位置与缺口位置，中心位置的至少一位置的信号处理手段10，17的晶圆预对准设备，其特征为具备；接收旋转检测手段的信号而变换成旋转位置信息的可逆计数器21a，及存储旋转间隔角度时的旋转位置信息的计测角度设置寄存器21b，及比较计测角度设置寄存器的设置值与可逆计数器的计数值的比较器21c。

86. 发明专利

TW561522B 用於微影定圖形的晶圓處理系統及方法失效
简体标题：用于微影定图形的晶圆处理系统及方法
公开(公告)号：TW561522B
公开(公告)日：2003-11-11
申请号：TW091122530
申请日：2002-09-30
申请人：艾斯摩美國股份有限公司
发明人：聖提亞哥普爾托 , 史帝芬洛克斯 , 賈斯汀克魯瑟
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67225 , G03F7/707 , G03F7/7075 , G03F7/70808 , G03F9/7011 , G03F9/7096 , H01L21/67201 , H01L21/681
摘要：本發明包含一種製版系統，含有一微影定圖形室，一晶圓交換室由一第一閘閥與微影定圖形室隔開，及至少一對齊裝載閘由一第二閘閥與晶圓交換室隔開。對齊裝載閘包含一對齊平台，此在抽氣期間中對齊晶圓。本發明之對齊裝載閘可單向為或雙向。同樣，本發明之製版系統可包含一個或多個對齊裝載閘。並發表一種在製版系統內對晶圓刻圖之方法。該方法可包含一第一步驟，置晶圓於對齊裝載閘內之支持件上。在第二步驟，使晶圓對齊卡盤，同時支持晶圓於對齊裝載閘內支持件上。在另一步驟，固定晶圓於卡盤上。及在又另一步驟，執行抽氣，以製造真空於對齊裝載閘內。
简体摘要：本发明包含一种制版系统，含有一微影定图形室，一晶圆交换室由一第一闸阀与微影定图形室隔开，及至少一对齐装载闸由一第二闸阀与晶圆交换室隔开。对齐装载闸包含一对齐平台，此在抽气期间中对齐晶圆。本发明之对齐装载闸可单向为或双向。同样，本发明之制版系统可包含一个或多个对齐装载闸。并发表一种在制版系统内对晶圆刻图之方法。该方法可包含一第一步骤，置晶圆于对齐装载闸内之支持件上。在第二步骤，使晶圆对齐卡盘，同时支持晶圆于对齐装载闸内支持件上。在另一步骤，固定晶圆于卡盘上。及在又另一步骤，运行抽气，以制造真空于对齐装载闸内。

87. 发明专利

TW200304051A 利用兩件式罩以保護光網的系統及方法 SYSTEM AND METHOD FOR USING A TWO PART COVER FOR PROTECTING A RETICLE 审中-公开
简体标题：利用两件式罩以保护光网的系统及方法 SYSTEM AND METHOD FOR USING A TWO PART COVER FOR PROTECTING A RETICLE
公开(公告)号：TW200304051A
公开(公告)日：2003-09-16
申请号：TW092103565
申请日：2003-02-20
申请人：艾斯摩荷蘭有限公司 ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：聖提亞哥普爾托 DEL PUERTO, SANTIAGO E. , 艾瑞克路普斯查 LOOPSTRA, ERIC R. , 安德魯瑪沙 MASSAR, ANDREW , 杜安凱希 KISH, DUANE P. , 亞度拉阿里卡 ALIKHAN, ABDULLAH , 伍德羅歐森 OLSON, WOODROW J. , 約拿單非洛斯 FEROCE, JONATHAN H.
IPC分类号： G03F
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/24 , G03F1/62 , G03F1/64 , G03F1/66 , G03F7/70741 , G03F7/70983 , G03F9/7011 , H01L21/67353 , H01L21/67359 , Y10S414/135
摘要：一種系統及方法，用以保護光罩不被空氣中的顆粒污染。其包括提供光罩緊固於二件式罩中。二件式罩包括可取下的保護裝置，用以保護光網不被污染。遮罩裝在筴艙或匣內，筴艙或匣用來運送遮罩通過印刷系統，從大氣段到真空段。在真空段中，將可取下的遮罩移開以進行曝光處理，在此期間，光網上的圖案成形在晶圓上。
简体摘要：一种系统及方法，用以保护光罩不被空气中的颗粒污染。其包括提供光罩紧固于二件式罩中。二件式罩包括可取下的保护设备，用以保护光网不被污染。遮罩装在䇲舱或匣内，䇲舱或匣用来运送遮罩通过印刷系统，从大气段到真空段。在真空段中，将可取下的遮罩移开以进行曝光处理，在此期间，光网上的图案成形在晶圆上。

88. 发明专利

TW201802622A 測量方法、測量設備、微影設備及製造物品的方法审中-公开
简体标题：测量方法、测量设备、微影设备及制造物品的方法
公开(公告)号：TW201802622A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：TW106107816
申请日：2017-03-09
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：辻川卓朗 , TSUJIKAWA, TAKURO
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20 , G06T7/11
CPC分类号： G06T7/0004 , G03F9/7011 , G06T7/11 , G06T2207/30148
摘要：本發明提供一種測量方法，測量佈置在基板上的圖案區域相對於設置在基板的外邊緣之參考部分的旋轉偏移量，此測量方法包括：在旋轉基板的同時檢測參考部分的位置時，藉由捕捉基板上的包括目標物體的目標區域，獲得第一影像；在基板保持靜止的狀態下，藉由捕捉目標物體，獲得第二影像；藉由以第一影像校正第二影像，獲得第三影像，第三影像指示第一影像與第二影像之間的差；以及基於第三影像，獲得目標物體的位置，並基於所獲得的目標物體的位置，獲得圖案區域相對於參考部分的旋轉偏移量。
简体摘要：本发明提供一种测量方法，测量布置在基板上的图案区域相对于设置在基板的外边缘之参考部分的旋转偏移量，此测量方法包括：在旋转基板的同时检测参考部分的位置时，借由捕捉基板上的包括目标物体的目标区域，获得第一影像；在基板保持静止的状态下，借由捕捉目标物体，获得第二影像；借由以第一影像校正第二影像，获得第三影像，第三影像指示第一影像与第二影像之间的差；以及基于第三影像，获得目标物体的位置，并基于所获得的目标物体的位置，获得图案区域相对于参考部分的旋转偏移量。

89. 发明专利

TWI502676B 具預對準圖案的半導體晶圓和預對準半導體晶圓的方法有权
简体标题：具预对准图案的半导体晶圆和预对准半导体晶圆的方法
公开(公告)号：TWI502676B
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：TW099124882
申请日：2010-07-28
申请人：台灣積體電路製造股份有限公司 , TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：王盈盈 , WANG, SOPHIA
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： H01L21/68 , G03F9/7011 , G03F9/7084

90. 发明专利

TW201523782A 用於對準基板的裝置及方法审中-公开
简体标题：用于对准基板的设备及方法
公开(公告)号：TW201523782A
公开(公告)日：2015-06-16
申请号：TW103136195
申请日：2014-10-20
申请人： EV集團E塔那有限公司 , EV GROUP E. THALLNER GMBH
发明人：魏跟特湯瑪斯 , WAGENLEITNER, THOMAS
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/677
CPC分类号： G03F9/7088 , G01R31/2887 , G03F7/70733 , G03F9/7011 , G03F9/7023 , H01L21/67092 , H01L21/681 , H01L21/6838 , H01L22/26
摘要：本發明係關於一種用於對準第一基板(14)與第二基板(14')且使該第一基板(14)與該第二基板(14')接觸之方法，以及一種具有至少四個偵測單元(3、3'、3"、3''')之對應裝置，由此：a)可至少在X方向上及在Y方向上移行至少兩個第一偵測單元(3、3")，且b)可僅在Z方向上移行至少兩個第二偵測單元(3'、3''')。
简体摘要：本发明系关于一种用于对准第一基板(14)与第二基板(14')且使该第一基板(14)与该第二基板(14')接触之方法，以及一种具有至少四个侦测单元(3、3'、3"、3''')之对应设备，由此：a)可至少在X方向上及在Y方向上移行至少两个第一侦测单元(3、3")，且b)可仅在Z方向上移行至少两个第二侦测单元(3'、3''')。

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