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81. 发明专利

TW201324030A 微影用防塵薄膜組件以及其製造方法审中-公开
简体标题：微影用防尘薄膜组件以及其制造方法
公开(公告)号：TW201324030A
公开(公告)日：2013-06-16
申请号：TW101132526
申请日：2012-09-06
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：永田愛彥 , NAGATA, YOSHIHIKO
IPC分类号： G03F1/82
CPC分类号： G03F1/64 , G03F1/142
摘要：本發明提供一種微影用防塵薄膜組件，對光遮罩接著劑的成形形狀進行調整，由此，該防塵薄膜組件在向光遮罩貼附時，即使加壓，光遮罩接著劑4也不會向防塵薄膜組件的內側突出。本發明的防塵薄膜組件包括：防塵薄膜3、將防塵薄膜繃緊設置的防塵薄膜組件框架1、形成於防塵薄膜組件框架的一端面上且用以接著防塵薄膜的膜接著劑2以及形成於與膜接著劑相反側的一端面的光遮罩接著用黏著劑4，所述光遮罩接著用黏著劑4的截面形狀為矩形或梯形，而且其側壁面與框架面所成的角α為90°以下。
简体摘要：本发明提供一种微影用防尘薄膜组件，对光遮罩接着剂的成形形状进行调整，由此，该防尘薄膜组件在向光遮罩贴附时，即使加压，光遮罩接着剂4也不会向防尘薄膜组件的内侧突出。本发明的防尘薄膜组件包括：防尘薄膜3、将防尘薄膜绷紧设置的防尘薄膜组件框架1、形成于防尘薄膜组件框架的一端面上且用以接着防尘薄膜的膜接着剂2以及形成于与膜接着剂相反侧的一端面的光遮罩接着用黏着剂4，所述光遮罩接着用黏着剂4的截面形状为矩形或梯形，而且其侧壁面与框架面所成的角α为90°以下。

82. 发明专利

TWI388924B 防護薄膜組件及其製造方法有权
简体标题：防护薄膜组件及其制造方法
公开(公告)号：TWI388924B
公开(公告)日：2013-03-11
申请号：TW098116882
申请日：2009-05-21
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：久保田芳宏 , KUBOTA, YOSHIHIRO , 秋山昌次 , AKIYAMA, SHOJI , 進藤敏彥 , SHINDO, TOSHIHIKO
IPC分类号： G03F1/62
CPC分类号： G03F1/64 , G03F1/62

83. 发明专利

TW201305723A 微影用防塵薄膜組件审中-公开
简体标题：微影用防尘薄膜组件
公开(公告)号：TW201305723A
公开(公告)日：2013-02-01
申请号：TW101114773
申请日：2012-04-25
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：塚田淳一 , TSUKADA, JUNICHI , 白崎享 , SHIRASAKI, TORU
IPC分类号： G03F1/84
CPC分类号： G03F1/64 , G03F1/62
摘要：本發明提供一種微影用防塵薄膜組件，其可以減低將防塵薄膜組件貼附於曝光原版時的曝光原版的變形。本發明的微影用防塵薄膜組件的特徵在於：具有黏著層，上述黏著層在利用包括自重在內為0.008kgf至5kgf的貼附荷重貼附於曝光原版時，不發生空隙。上述黏著層的楊氏模量為0.01 MPa至0.10 MPa，拉伸黏接強度為0.02N/mm2至0.10N/mm2，表面的平坦度為0μm至15μm。
简体摘要：本发明提供一种微影用防尘薄膜组件，其可以减低将防尘薄膜组件贴附于曝光原版时的曝光原版的变形。本发明的微影用防尘薄膜组件的特征在于：具有黏着层，上述黏着层在利用包括自重在内为0.008kgf至5kgf的贴附荷重贴附于曝光原版时，不发生空隙。上述黏着层的杨氏模量为0.01 MPa至0.10 MPa，拉伸黏接强度为0.02N/mm2至0.10N/mm2，表面的平坦度为0μm至15μm。

84. 发明专利

TWI364679B 以模組為基礎之次解析輔助圖形（ＳＲＡＦ）插入技術 MODEL-BASED SRAF INSERTION 有权
简体标题：以模块为基础之次解析辅助图形（ＳＲＡＦ）插入技术 MODEL-BASED SRAF INSERTION
公开(公告)号：TWI364679B
公开(公告)日：2012-05-21
申请号：TW095136334
申请日：2006-09-29
申请人：曼特製圖公司
发明人：向格蘇梅D , 史瓦洛威莉莎 , 葛蘭尼克約里
IPC分类号： G06F
CPC分类号： G03F1/64 , G03F1/36
摘要：一用於產生罩幕布局數據之系統取回界定圖案之形狀的目標布局數據、或其部份，及一包含若干印刷及非印刷圖案之最佳化罩幕布局形狀。接著界定用於一或多個次解析輔助圖形(SRAFs)之罩幕布局數據，以逼近該最佳化罩幕布局形狀之一或多個非印刷圖案。
简体摘要：一用于产生罩幕布局数据之系统取回界定图案之形状的目标布局数据、或其部份，及一包含若干印刷及非印刷图案之最优化罩幕布局形状。接着界定用于一或多个次解析辅助图形(SRAFs)之罩幕布局数据，以逼近该最优化罩幕布局形状之一或多个非印刷图案。

85. 发明专利

TW201109838A 防護膠膜框架及微影用防護膠膜 PELLICLE FRAME AND LITHOGRAPHIC PELLICLE 审中-公开
简体标题：防护胶膜框架及微影用防护胶膜 PELLICLE FRAME AND LITHOGRAPHIC PELLICLE
公开(公告)号：TW201109838A
公开(公告)日：2011-03-16
申请号：TW099120414
申请日：2010-06-23
申请人：信越化學工業股份有限公司 , 英特爾股份有限公司
发明人：白崎享 , 札克拉伯帝契卓列 , 穆雪爾大衛 , 吳少怡
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F1/64
摘要：本發明之目的在於提供一種防護膠膜框架,即使在將防護膠膜貼合於曝光原版上,仍可極力減低因防護膠膜框架之變形所引起的曝光原版之變形;及提供一種具有此種防護膠膜框架之微影用防護膠膜。本發明之防護膠膜框架,其特徵為:防護膠膜框架架桿之剖面,係在上邊與下邊平行且面積為20mm2以下之四邊形的至少一側邊具有至少一個三角形之凹陷部的形狀。另外,本發明之微影用防護膠膜,其特徵為:藉由防護膠膜黏著劑將防護膠膜張貼於該防護膠膜框架的一端面,且於另一端面設置曝光原版黏著劑。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种防护胶膜框架,即使在将防护胶膜贴合于曝光原版上,仍可极力减低因防护胶膜框架之变形所引起的曝光原版之变形;及提供一种具有此种防护胶膜框架之微影用防护胶膜。本发明之防护胶膜框架,其特征为:防护胶膜框架架杆之剖面,系在上边与下边平行且面积为20mm2以下之四边形的至少一侧边具有至少一个三角形之凹陷部的形状。另外,本发明之微影用防护胶膜,其特征为:借由防护胶膜黏着剂将防护胶膜张贴于该防护胶膜框架的一端面,且于另一端面设置曝光原版黏着剂。

86. 发明专利

TWI335842B 對防護薄膜框架內面塗布粘接劑的塗布方法 METHOD OF APPLYING ADHESIVE TO INSIDE SURFACE OF PELLICLE FRAME 有权
简体标题：对防护薄膜框架内面涂布粘接剂的涂布方法 METHOD OF APPLYING ADHESIVE TO INSIDE SURFACE OF PELLICLE FRAME
公开(公告)号：TWI335842B
公开(公告)日：2011-01-11
申请号：TW097101600
申请日：2008-01-16
申请人：信越化學工業股份有限公司
发明人：關原一敏 , 濱田裕一
IPC分类号： B05D
CPC分类号： G03F1/64
摘要：本發明之目的在於提供一種對防護薄膜框架內面塗布粘接劑的塗布方法，其對周圍環境不會造成污染，塗布品質以及其穩定性亦優良。
由於本發明將防護薄膜框架一個內面保持實質水平且朝上，邊從吐出口滴下經過溶媒稀釋的粘接劑邊移動吐出口，以塗布粘接劑，故不會因為粘接劑飛散而對作業環境或防護薄膜框架造成污染，再者，也不會發生未塗布或溢出的情況，能穩定製得外觀優良的塗膜。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种对防护薄膜框架内面涂布粘接剂的涂布方法，其对周围环境不会造成污染，涂布品质以及其稳定性亦优良。由于本发明将防护薄膜框架一个内面保持实质水平且朝上，边从吐出口滴下经过溶媒稀释的粘接剂边移动吐出口，以涂布粘接剂，故不会因为粘接剂飞散而对作业环境或防护薄膜框架造成污染，再者，也不会发生未涂布或溢出的情况，能稳定制得外观优良的涂膜。

87. 发明专利

TW201044108A 保護裝置、光罩、光罩形成裝置、光罩形成方法、曝光裝置、組件製造方法、及異物檢測裝置审中-公开
简体标题：保护设备、光罩、光罩形成设备、光罩形成方法、曝光设备、组件制造方法、及异物检测设备
公开(公告)号：TW201044108A
公开(公告)日：2010-12-16
申请号：TW099110398
申请日：2010-04-02
申请人：尼康股份有限公司
发明人：花崎哲嗣
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F1/64 , G03F1/62 , G03F1/82
摘要：本發明提供一種能抑制薄膜部的撓曲的保護裝置。保護裝置保護基板表面的特定區域。保護裝置包括:框部,包含沿著第一方向配置且彼此相對的一對可撓部,框部係連接於基板表面並包圍特定區域的周圍;以及薄膜部,面對特定區域而被展開設置於框部,並閉塞以框部所形成的開口部。可撓部具有薄膜部側的端面向連接基板的連接部側凹著的彎曲形狀。
简体摘要：本发明提供一种能抑制薄膜部的挠曲的保护设备。保护设备保护基板表面的特定区域。保护设备包括:框部,包含沿着第一方向配置且彼此相对的一对可挠部,框部系连接于基板表面并包围特定区域的周围;以及薄膜部,面对特定区域而被展开设置于框部,并闭塞以框部所形成的开口部。可挠部具有薄膜部侧的端面向连接基板的连接部侧凹着的弯曲形状。

88. 发明专利

TW201039052A 防塵薄膜組件 PELLICLE 审中-公开
简体标题：防尘薄膜组件 PELLICLE
公开(公告)号：TW201039052A
公开(公告)日：2010-11-01
申请号：TW099112888
申请日：2010-04-23
申请人：信越化學工業股份有限公司
发明人：白崎享
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F1/64
摘要：本發明之目的在於提供一種防塵薄膜組件,其釋放出來的酸以及銨離子很少,而且,對防塵薄膜組件檢測感應器的檢測特性很優異。為了達成上述目的,本發明之防塵薄膜組件包含:表面設有氧皮鋁層的鋁製防塵薄膜組件框架,以及張設在該防塵薄膜組件框架上的防塵薄膜,該氧皮鋁層的厚度為4-8��m。該氧皮鋁層宜為含有黑色染料的氧皮鋁層。又,本發明的防塵薄膜組件宜為微影用防塵薄膜組件。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种防尘薄膜组件,其释放出来的酸以及铵离子很少,而且,对防尘薄膜组件检测感应器的检测特性很优异。为了达成上述目的,本发明之防尘薄膜组件包含:表面设有氧皮铝层的铝制防尘薄膜组件框架,以及张设在该防尘薄膜组件框架上的防尘薄膜,该氧皮铝层的厚度为4-8��m。该氧皮铝层宜为含有黑色染料的氧皮铝层。又,本发明的防尘薄膜组件宜为微影用防尘薄膜组件。

89. 发明专利

TW201039050A 光罩 PHOTOMASK 审中-公开
公开(公告)号：TW201039050A
公开(公告)日：2010-11-01
申请号：TW099107603
申请日：2010-03-16
申请人：信越化學工業股份有限公司
发明人：白崎享
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F1/64 , G03F1/82
摘要：本發明提供一種光罩,其在使用後能夠很輕易的除去防塵薄膜組件。本發明之光罩在透明基板的圖案區域的外周圍的防塵薄膜組件框架裝設區域上形成遮光膜。該光罩宜為負型光阻用光罩。又,在該光罩的該防塵薄膜組件框架裝設區域上所形成的遮光膜宜與該透明基板直接接觸。又,該光罩的該透明基板宜為石英玻璃基板。
简体摘要：本发明提供一种光罩,其在使用后能够很轻易的除去防尘薄膜组件。本发明之光罩在透明基板的图案区域的外周围的防尘薄膜组件框架装设区域上形成遮光膜。该光罩宜为负型光阻用光罩。又,在该光罩的该防尘薄膜组件框架装设区域上所形成的遮光膜宜与该透明基板直接接触。又,该光罩的该透明基板宜为石英玻璃基板。

90. 发明专利

TW201015213A 光罩護膜框體、光罩護膜及光罩護膜的使用方法审中-公开
简体标题：光罩护膜框体、光罩护膜及光罩护膜的使用方法
公开(公告)号：TW201015213A
公开(公告)日：2010-04-16
申请号：TW098130810
申请日：2009-09-11
申请人：旭化成電子材料股份有限公司
发明人：北島慎太郎 , 栗山芳真
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F1/64
摘要：本發明提供一種光罩護膜框體，上述光罩護膜框體於展開黏著光罩護膜時框體不會變形，進而，於光罩護膜貼附於光罩上之後，光罩護膜框體自身亦追隨光罩因自重所產生之彎曲。上述光罩護膜框體係矩形之光罩護膜框體，且該光罩護膜框體之變形性α為0.06％以下，下述通式(1)所示之該光罩護膜框體各邊之追隨性β為3mm以上，該光罩護膜框體長邊之追隨性β為32mm以下，且框體長邊之長度為1400mm以上且2100mm以下，而且該光罩護膜框體之內側之面積為15000cm 2 以上，β=(1/光罩護膜之彎曲量)×厚度×寬度(1)。
简体摘要：本发明提供一种光罩护膜框体，上述光罩护膜框体于展开黏着光罩护膜时框体不会变形，进而，于光罩护膜贴附于光罩上之后，光罩护膜框体自身亦追随光罩因自重所产生之弯曲。上述光罩护膜框体系矩形之光罩护膜框体，且该光罩护膜框体之变形性α为0.06％以下，下述通式(1)所示之该光罩护膜框体各边之追随性β为3mm以上，该光罩护膜框体长边之追随性β为32mm以下，且框体长边之长度为1400mm以上且2100mm以下，而且该光罩护膜框体之内侧之面积为15000cm 2 以上，β=(1/光罩护膜之弯曲量)×厚度×宽度(1)。

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