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81. 发明专利

TW201812075A 用於半導體處理腔室部件之保護塗佈之原子層沉積审中-公开
简体标题：用于半导体处理腔室部件之保护涂布之原子层沉积
公开(公告)号：TW201812075A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106114052
申请日：2017-04-27
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：芬威克大衛 , FENWICK, DAVID , 孫語南 , SUN, JENNIFER Y.
IPC分类号： C23C16/40 , C23C16/455 , C23C16/44
CPC分类号： C23C16/4404 , C23C16/40 , C23C16/403 , C23C16/405 , C23C16/4408 , C23C16/45529 , C23C16/45531 , C23C28/042
摘要：一種用於半導體製程腔室部件的表面的多組分塗層組成物包括使用原子層沉積製程塗佈到該半導體製程腔室部件的該表面上的氧化釔或氟化釔的至少一個第一膜層以及使用原子層沉積製程塗佈到該半導體製程腔室部件的該表面上的額外氧化物或額外氟化物的至少一個第二膜層，其中該多組分塗層組成物選自由YOxFy、YAlxOy、YZrxOy和YZrxAlyOz組成的群組。
简体摘要：一种用于半导体制程腔室部件的表面的多组分涂层组成物包括使用原子层沉积制程涂布到该半导体制程腔室部件的该表面上的氧化钇或氟化钇的至少一个第一膜层以及使用原子层沉积制程涂布到该半导体制程腔室部件的该表面上的额外氧化物或额外氟化物的至少一个第二膜层，其中该多组分涂层组成物选自由YOxFy、YAlxOy、YZrxOy和YZrxAlyOz组成的群组。

82. 发明专利

TWI616558B 電漿處理裝置用的零件的製造方法有权
简体标题：等离子处理设备用的零件的制造方法
公开(公告)号：TWI616558B
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW104130520
申请日：2015-09-16
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED , 都卡洛股份有限公司 , TOCALO CO., LTD.
发明人：長山將之 , NAGAYAMA, NOBUYUKI , 三橋康至 , MITSUHASHI, KOJI , 虻川志向 , ABUKAWA, SHIKOU , 永井正也 , NAGAI, MASAYA , 金澤義典 , KANAZAWA, YOSHINORI , 仁矢鐵也 , NIYA, TETSUYA
IPC分类号： C23C4/12 , C23C4/06 , C23C4/08 , C23C4/10
CPC分类号： C23C4/06 , C23C4/01 , C23C4/02 , C23C4/11 , C23C4/131 , C23C28/042

83. 发明专利

TW201805450A 氧氟化釔熱噴塗膜及其製造方法、以及熱噴塗構件审中-公开
简体标题：氧氟化钇热喷涂膜及其制造方法、以及热喷涂构件
公开(公告)号：TW201805450A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：TW106120669
申请日：2017-06-21
申请人：日本特殊陶業股份有限公司 , NGK SPARK PLUG CO., LTD.
发明人：井口真仁 , IGUCHI, MABITO , 早坂祐毅 , HAYASAKA, YUUKI , 則武賢信 , NORITAKE, YASUNOBU
IPC分类号： C23C4/10 , C23C16/513
CPC分类号： C23C24/103 , C01F17/0043 , C01F17/0062 , C09D1/00 , C23C4/06 , C23C4/134 , C23C4/18 , C23C28/042
摘要：提供一種氧氟化釔熱噴塗膜及包含氧氟化釔的熱噴塗膜，其能抑制微龜裂、顆粒的產生。一種氧氟化釔熱噴塗膜，其特徵為，以Y5O4F7為主要成分，在由X線繞射法所得到的繞射光譜中，在將歸屬於氧氟化釔的全部波峰強度的合計設為100時，歸屬於氟化釔及氧化釔的全部波峰強度的合計小於10。另外，一種包含氧氟化釔的熱噴塗膜，其特徵為，在由X線繞射法所得到的繞射光譜中，在將歸屬於氧氟化釔及氟化釔的全部波峰強度的合計設為100時，歸屬於氧化釔的全部波峰強度的合計小於1。
简体摘要：提供一种氧氟化钇热喷涂膜及包含氧氟化钇的热喷涂膜，其能抑制微龟裂、颗粒的产生。一种氧氟化钇热喷涂膜，其特征为，以Y5O4F7为主要成分，在由X线绕射法所得到的绕射光谱中，在将归属于氧氟化钇的全部波峰强度的合计设为100时，归属于氟化钇及氧化钇的全部波峰强度的合计小于10。另外，一种包含氧氟化钇的热喷涂膜，其特征为，在由X线绕射法所得到的绕射光谱中，在将归属于氧氟化钇及氟化钇的全部波峰强度的合计设为100时，归属于氧化钇的全部波峰强度的合计小于1。

84. 发明专利

TWI576239B 阻氣性膜及其製造方法、與阻氣性積層體有权
简体标题：阻气性膜及其制造方法、与阻气性积层体
公开(公告)号：TWI576239B
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW102111594
申请日：2013-03-29
申请人：三菱樹脂股份有限公司 , MITSUBISHI PLASTICS, INC.
发明人：杉田健太郎 , SUGITA, KANTAROU , 大川原千春 , OKAWARA, CHIHARU , 山內康嗣 , YAMAUCHI, KOJI
IPC分类号： B32B27/00
CPC分类号： C23C16/30 , C23C14/10 , C23C14/58 , C23C28/04 , C23C28/042

85. 发明专利

TWI576047B 抗食用油劣化構件的製造方法及抗食用油劣化構件有权
简体标题：抗食用油劣化构件的制造方法及抗食用油劣化构件
公开(公告)号：TWI576047B
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW103141977
申请日：2014-12-03
申请人：昭和股份有限公司 , SHOWA CO., LTD. , 森興產股份有限公司 , MORI KOSAN CO., LTD.
发明人：高安輝樹 , TAKAYASU, TERUKI , 森晋吾 , MORI, SHINGO
IPC分类号： A23D9/06 , C25D11/26
CPC分类号： C22F1/183 , A47J37/1276 , C23C8/24 , C23C8/80 , C23C28/042 , C25D11/26 , C30B7/12 , C30B29/16 , C30B30/02

86. 发明专利

TWI537405B 切削工具有权
公开(公告)号：TWI537405B
公开(公告)日：2016-06-11
申请号：TW097116758
申请日：2008-05-07
申请人：歐瑞康貿易特魯貝屈股份有限公司 , OERLIKON TRADING AG, TRUEBBACH
发明人：丹尼斯昆頓 , QUINTO, DENNIS , 克里斯丁維拉布 , WOHLRAB, CHRISTIAN , 侏根雷姆 , RAMM, JUERGEN
IPC分类号： C23C14/16 , C22C29/10 , B23B27/14 , B23P15/28
CPC分类号： C23C30/005 , C23C28/042 , C23C28/044 , C23C28/048 , C23C28/321 , C23C28/322 , C23C28/34 , C23C28/341 , C23C28/345 , C23C28/3455 , C23C28/347 , C23C28/36 , Y10T407/27 , Y10T428/24942 , Y10T428/24983 , Y10T428/265

87. 发明专利

TW201544484A 耐電漿陶瓷塗層的漿料電漿噴塗审中-公开
简体标题：耐等离子陶瓷涂层的浆料等离子喷涂
公开(公告)号：TW201544484A
公开(公告)日：2015-12-01
申请号：TW104114479
申请日：2015-05-06
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：孫語南 , SUN, JENNIFER Y. , 卡農哥比拉賈P , KANUNGO, BIRAJA P. , 陳益凱 , CHEN, YIKAI , 菲路茲朵爾維希德 , FIROUZDOR, VAHID
IPC分类号： C04B35/01 , C04B35/628 , B05D1/12
CPC分类号： C04B35/10 , C04B35/16 , C04B35/44 , C04B35/486 , C04B35/4885 , C04B35/50 , C04B35/505 , C04B35/5156 , C04B2235/3217 , C04B2235/3224 , C04B2235/3225 , C04B2235/3244 , C04B2235/3418 , C23C4/02 , C23C4/04 , C23C4/11 , C23C4/18 , C23C24/103 , C23C28/042 , Y10T428/24372
摘要：本文中揭示的是用於生產超緻密和超平滑陶瓷塗層的方法。一種方法包括將陶瓷顆粒漿料進料到電漿噴灑器中。該電漿噴灑器產生被導向基材的顆粒流，從而在接觸時在該基材上形成陶瓷塗層。
简体摘要：本文中揭示的是用于生产超致密和超平滑陶瓷涂层的方法。一种方法包括将陶瓷颗粒浆料进料到等离子喷洒器中。该等离子喷洒器产生被导向基材的颗粒流，从而在接触时在该基材上形成陶瓷涂层。

88. 发明专利

TW201534220A 抗食用油劣化構件的製造方法及抗食用油劣化構件审中-公开
简体标题：抗食用油劣化构件的制造方法及抗食用油劣化构件
公开(公告)号：TW201534220A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：TW103141977
申请日：2014-12-03
申请人：昭和股份有限公司 , SHOWA CO., LTD. , 森興產股份有限公司 , MORI KOSAN CO., LTD.
发明人：高安輝樹 , TAKAYASU, TERUKI , 森晋吾 , MORI, SHINGO
IPC分类号： A23D9/06 , C25D11/26
CPC分类号： C22F1/183 , A47J37/1276 , C23C8/24 , C23C8/80 , C23C28/042 , C25D11/26 , C30B7/12 , C30B29/16 , C30B30/02
摘要：本發明目的為以具有簡便性、經濟性及安全性之步驟製造出對於抗食用油劣化有用的構件。本發明為一種抗食用油劣化構件的製造方法，其係抗食用油劣化構件的製造方法，其特徵為包括：(1)藉由加熱溫度為750℃以上的選自在氨氣環境下的加熱處理及在氮氣環境下的加熱處理所構成之群中的1種處理方法，在金屬鈦材料或鈦合金材料的表面形成有氮化鈦之步驟；(2)藉由將步驟(1)所得到的表面形成有氮化鈦的金屬鈦材料或鈦合金材料在對於鈦不具有蝕刻作用的電解液中施加10V以上的電壓，進行陽極氧化，而形成鈦的氧化被膜之步驟；及(3)將步驟(2)所得到的表面形成有鈦的氧化被膜的金屬鈦材料或鈦合金材料在選自將大氣環境、氧氣與氮氣混合而成的氣體環境或氧氣環境的氣體環境下，以400℃以上的溫度進行加熱處理之步驟。
简体摘要：本发明目的为以具有简便性、经济性及安全性之步骤制造出对于抗食用油劣化有用的构件。本发明为一种抗食用油劣化构件的制造方法，其系抗食用油劣化构件的制造方法，其特征为包括：(1)借由加热温度为750℃以上的选自在氨气环境下的加热处理及在氮气环境下的加热处理所构成之群中的1种处理方法，在金属钛材料或钛合金材料的表面形成有氮化钛之步骤；(2)借由将步骤(1)所得到的表面形成有氮化钛的金属钛材料或钛合金材料在对于钛不具有蚀刻作用的电解液中施加10V以上的电压，进行阳极氧化，而形成钛的氧化被膜之步骤；及(3)将步骤(2)所得到的表面形成有钛的氧化被膜的金属钛材料或钛合金材料在选自将大气环境、氧气与氮气混合而成的气体环境或氧气环境的气体环境下，以400℃以上的温度进行加热处理之步骤。

89. 发明专利

TWI497019B 烹調器具及其製造方法有权
简体标题：烹调器具及其制造方法
公开(公告)号：TWI497019B
公开(公告)日：2015-08-21
申请号：TW097103218
申请日：2008-01-29
申请人：住友大阪水泥股份有限公司 , SUMITOMO OSAKA CEMENT CO., LTD.
发明人：茂啓二郎 , SHIGERU, KEIJIRO , 前田大作 , MAEDA, DAISAKU , 目次康格 , METSUGI, YASUNORI , 矢澤朗 , YAZAWA, AKIRA , 丸山大志 , MARUYAMA, TAISHI
IPC分类号： F24C14/00 , A47J36/02 , A47J36/04 , C23C26/00 , F24C15/00
CPC分类号： F24C15/005 , A47J36/025 , C23C18/1212 , C23C18/1216 , C23C18/1295 , C23C26/00 , C23C28/042 , C23C28/044 , C23C28/048 , Y02T50/67 , Y10T428/31678

90. 发明专利

TW201502298A 冷加工用模具的製造方法审中-公开
简体标题：冷加工用模具的制造方法
公开(公告)号：TW201502298A
公开(公告)日：2015-01-16
申请号：TW103118714
申请日：2014-05-29
申请人：日立金屬股份有限公司 , HITACHI METALS, LTD.
发明人：庄司辰也 , SHOUJI, TATSUYA , 本多史明 , HONDA, FUMIAKI , 森下佳奈 , MORISHITA, KANA
IPC分类号： C23C14/06 , C22C38/00
CPC分类号： C23C14/0641 , C21D1/06 , C21D1/18 , C21D9/00 , C22C38/00 , C22C38/18 , C22C38/60 , C23C8/36 , C23C8/80 , C23C28/042
摘要：本發明的目的在於提供一種使用預硬鋼的冷加工用模具的製造方法，該冷加工用模具滿足作為冷加工用模具的最低限度的可使用硬度且硬質皮膜的密著性優異。本發明是一種冷加工用模具的製造方法，其包括如下步驟：將以質量%計含有0.6%以上且1.2%以下的C、3.0%以上且9.0%以下的Cr的鋼材淬火回火而調整為硬度55 HRC以上的預硬鋼的步驟；對所述經調整的預硬鋼進行機械加工而形成模具的作業面的步驟；對所述經機械加工的作業面進行氮化處理的步驟；藉由物理蒸鍍法在所述經氮化處理後的作業面上被覆硬質皮膜的步驟。
简体摘要：本发明的目的在于提供一种使用预硬钢的冷加工用模具的制造方法，该冷加工用模具满足作为冷加工用模具的最低限度的可使用硬度且硬质皮膜的密着性优异。本发明是一种冷加工用模具的制造方法，其包括如下步骤：将以质量%计含有0.6%以上且1.2%以下的C、3.0%以上且9.0%以下的Cr的钢材淬火回火而调整为硬度55 HRC以上的预硬钢的步骤；对所述经调整的预硬钢进行机械加工而形成模具的作业面的步骤；对所述经机械加工的作业面进行氮化处理的步骤；借由物理蒸镀法在所述经氮化处理后的作业面上被覆硬质皮膜的步骤。

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