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71. 发明专利

TW200705122A 微影蝕刻用洗淨液 CLEANING SOLUTION FOR LITHOGRAPHY 审中-公开
简体标题：微影蚀刻用洗净液 CLEANING SOLUTION FOR LITHOGRAPHY
公开(公告)号：TW200705122A
公开(公告)日：2007-02-01
申请号：TW095126279
申请日：2006-07-18
申请人：東京應化工業股份有限公司 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：中山一彥 NAKAYAMA, KAZUHIKO , 秀慎一 HIDESAKA, SHINICHI
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： C11D11/0041 , C11D7/5022 , G03F7/422
摘要：本發明為有關一種微影蝕刻用洗淨液,其為於使用微影蝕刻技術以製造光阻圖型之情形中,可將舖設於基板上之光阻膜的不需要之部份或殘留於光阻供應裝置之光阻以洗淨方式去除之微影蝕刻用洗淨液。該洗淨液,需為可將不需要之光阻以完全溶解之方式去除後,迅速乾燥之溶劑,且必須對處理後之光阻膜不會產生不良影響,故其成分內容依所使用之光阻的種類所影響。但,目前為止對於使用丙烯酸系聚合物作為成分之ArF準分子雷射用光阻具有效果之洗淨液仍屬未知。本發明為提供一種單獨使用烷氧基羧酸烷基酯,或使用其與烷氧基苯之混合溶劑,而可有效去除ArF準分子雷射用光阻之微影蝕刻用洗淨液。
简体摘要：本发明为有关一种微影蚀刻用洗净液,其为于使用微影蚀刻技术以制造光阻图型之情形中,可将铺设于基板上之光阻膜的不需要之部份或残留于光阻供应设备之光阻以洗净方式去除之微影蚀刻用洗净液。该洗净液,需为可将不需要之光阻以完全溶解之方式去除后,迅速干燥之溶剂,且必须对处理后之光阻膜不会产生不良影响,故其成分内容依所使用之光阻的种类所影响。但,目前为止对于使用丙烯酸系聚合物作为成分之ArF准分子激光用光阻具有效果之洗净液仍属未知。本发明为提供一种单独使用烷氧基羧酸烷基酯,或使用其与烷氧基苯之混合溶剂,而可有效去除ArF准分子激光用光阻之微影蚀刻用洗净液。

72. 发明专利

TW200705097A 圖型被覆材料及圖型形成方法 PATTERN COATING MATERIAL AND PATTERN FORMATION METHOD 审中-公开
简体标题：图型被覆材料及图型形成方法 PATTERN COATING MATERIAL AND PATTERN FORMATION METHOD
公开(公告)号：TW200705097A
公开(公告)日：2007-02-01
申请号：TW095122296
申请日：2006-06-21
申请人：東京應化工業股份有限公司 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. , 獨立行政法人理化學研究所 RIKEN
发明人：松丸省吾 MATSUMARU, SHOGO , 緖方壽幸 OGATA, TOSHIYUKI , 石川清 ISHIKAWA, KIYOSHI , 羽田英夫 HADA, HIDEO , 藤川茂紀 FUJUKAWA, SHIGENORI , 國武豐喜 KUNITAKE, TOYOKI
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： H01L21/0273 , G03F7/405
摘要：本發明係提供,以形成於基板上之圖型為圖罩進行蝕刻之過程中,可提升圖型之耐蝕刻性的被覆材料。該材料為,以形成於基板上之圖型為圖罩進行蝕刻之過程中所使用的圖型被覆材料,含有加以水分解後可生成羥基之金屬化合物(W)的圖型被覆材料。
简体摘要：本发明系提供,以形成于基板上之图型为图罩进行蚀刻之过程中,可提升图型之耐蚀刻性的被覆材料。该材料为,以形成于基板上之图型为图罩进行蚀刻之过程中所使用的图型被覆材料,含有加以水分解后可生成羟基之金属化合物(W)的图型被覆材料。

73. 发明专利

TWI270102B 電漿顯示器面板之製造方法 PROCESS OF PRODUCING PLASMA DISPLAY PANEL 失效
简体标题：等离子显示器皮肤之制造方法 PROCESS OF PRODUCING PLASMA DISPLAY PANEL
公开(公告)号：TWI270102B
公开(公告)日：2007-01-01
申请号：TW091108985
申请日：2002-04-30
申请人：東京應化工業股份有限公司 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：押尾公德 KIMINORI OSHIO , 井上朋之 TOMOYUKI INOUE , 節田齊 HITOSHI SETSUDA , 帶谷洋之 OBIYA, HIROYUKI
IPC分类号： H01J , G09F
CPC分类号： H01J9/02 , H01J2217/49
摘要：一種製造電漿顯示器面板之方法，其包括以下步驟：在一載體薄膜上形成一種光敏性糊劑組合物層：將該光敏性糊劑組合物層轉移到一基材上；使該光敏性糊劑組合物層曝光；除去該載體薄膜；並烘烤經曝光之組合物層，以製造至少一種屏障肋(rib)、電極、電阻器、介電質、磷光體、濾色陣列及黑底(黑色矩陣)。
简体摘要：一种制造等离子显示器皮肤之方法，其包括以下步骤：在一载体薄膜上形成一种光敏性煳剂组合物层：将该光敏性煳剂组合物层转移到一基材上；使该光敏性煳剂组合物层曝光；除去该载体薄膜；并烘烤经曝光之组合物层，以制造至少一种屏障肋(rib)、电极、电阻器、介电质、磷光体、滤色数组及黑底(黑色矩阵)。

74. 发明专利

TW200700921A 正型光阻組成物,厚膜光阻層合體,厚膜光阻圖型之製造方法及連接端子之製造方法 POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION, THICK-FILM PHOTORESIST LAYER LAMINATE, METHOD FOR FORMING THICK-FILM RESIST PATTERN AND METHOD FOR FORMING CONNECTION TERMINAL 审中-公开
简体标题：正型光阻组成物,厚膜光阻层合体,厚膜光阻图型之制造方法及连接端子之制造方法 POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION, THICK-FILM PHOTORESIST LAYER LAMINATE, METHOD FOR FORMING THICK-FILM RESIST PATTERN AND METHOD FOR FORMING CONNECTION TERMINAL
公开(公告)号：TW200700921A
公开(公告)日：2007-01-01
申请号：TW095112204
申请日：2006-04-06
申请人：東京應化工業股份有限公司 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：先崎尊博 SENZAKI, TAKAHIRO , 三隅浩一 MISUMI, KOICHI , 齋藤宏二 SAITO, KOJI
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F220/06 , C08F220/28 , C08F2220/1808 , C08F2220/1825
摘要：本發明提供一種於厚膜光阻圖型之形成中,可得到更高感度之正型光阻組成物。其為含有(A)經活性光線或放射線照射而產生酸之化合物、及(B)經由酸之作用而增大對鹼之溶解性的樹脂所得之正型光阻組成物,其中前述(B)成份為含有具丙烯酸酯所衍生之結構單位,其為羧基之氫原子被下述通式(I)所示酸解離性溶解抑制基所取代之結構單位(b1)之樹脂(B1)。
095112204-p01.bmp
简体摘要：本发明提供一种于厚膜光阻图型之形成中,可得到更高感度之正型光阻组成物。其为含有(A)经活性光线或放射线照射而产生酸之化合物、及(B)经由酸之作用而增大对碱之溶解性的树脂所得之正型光阻组成物,其中前述(B)成份为含有具丙烯酸酯所衍生之结构单位,其为羧基之氢原子被下述通式(I)所示酸解离性溶解抑制基所取代之结构单位(b1)之树脂(B1)。 095112204-p01.bmp

75. 发明专利

TW200700903A 感光性組成物及黑色矩陣 PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND BLACK MATRIX 审中-公开
简体标题：感光性组成物及黑色矩阵 PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND BLACK MATRIX
公开(公告)号：TW200700903A
公开(公告)日：2007-01-01
申请号：TW095117923
申请日：2006-05-19
申请人：東京應化工業股份有限公司 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：信太勝 SHIDA, MASARU , 近藤滿 KONDO, MITSURU , 內河喜代司 UCHIKAWA, KIYOSHI
IPC分类号： G03F , G02B
摘要：本發明之課題,係能夠容易地形成一種直線性高,無剝離或殘留現象之良好黑色矩陣圖案。本發明之解決手段,係包括含有如式(1)所示光聚合引發劑化合物,以及含有氮原子的雜環,在該雜環上結合有氫硫基化合物所形成之感光性組成物。藉由含有該等化合物,感光性組成物對光線的敏感度變高,圖案的顯影餘裕度變大。因此,即使該感光性組含有遮光材料,亦能夠容易地形成直線性良好,無剝離或殘留現象之良好的圖案.
095117923-p01.bmp
简体摘要：本发明之课题,系能够容易地形成一种直线性高,无剥离或残留现象之良好黑色矩阵图案。本发明之解决手段,系包括含有如式(1)所示光聚合引发剂化合物,以及含有氮原子的杂环,在该杂环上结合有氢硫基化合物所形成之感光性组成物。借由含有该等化合物,感光性组成物对光线的敏感度变高,图案的显影余裕度变大。因此,即使该感光性组含有遮光材料,亦能够容易地形成直线性良好,无剥离或残留现象之良好的图案. 095117923-p01.bmp

76. 发明专利

TW200643618A 薄膜植入製程用正型光阻組成物及光阻圖案之形成方法 POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR USE IN THIN FILM IMPLANTATION AND PROCESS FOR FORMING RESIST PATTERN 审中-公开
简体标题：薄膜植入制程用正型光阻组成物及光阻图案之形成方法 POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR USE IN THIN FILM IMPLANTATION AND PROCESS FOR FORMING RESIST PATTERN
公开(公告)号：TW200643618A
公开(公告)日：2006-12-16
申请号：TW095103163
申请日：2006-01-26
申请人：東京應化工業股份有限公司 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：鈴木貴子 SUZUKI, TAKAKO , 田中健 TANAKA, KEN , 米村幸治 YONEMURA, KOJI , 藤田正一 FUJITA, SHOICHI
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , Y10S430/106
摘要：本發明為提供一種薄膜植入製程用正型光阻組成物，該薄膜植入製程用正型光阻組成物為含有(A)具有酸解離性溶解抑制基，經由酸之作用而增大鹼溶解性之樹脂成份，與(B)經由放射線照射產生酸之酸產生劑成份，與(C)具有放射線吸收能之化合物，其中前述樹脂成份(A)為含有，(a1)羥基苯乙烯所衍生之結構單位，與(a2)前述結構單位(a1)之羥基的氫原子被酸解離性溶解抑制基取代之結構單位，又，前述酸解離性溶解抑制基為含有以下述式(II)所示酸解離性溶解抑制基(II)為主成份，095103163-p01.bmp【式中，X為脂肪族環式基、芳香族環式烴基或碳數1至5之烷基，R^1為碳數1至5之烷基，或X與R^1分別獨立為碳數1至5之伸烷基，且X之末端可與R^1之末端相結合，R^2為碳數1至5之烷基或氫原子】。
简体摘要：本发明为提供一种薄膜植入制程用正型光阻组成物，该薄膜植入制程用正型光阻组成物为含有(A)具有酸解离性溶解抑制基，经由酸之作用而增大碱溶解性之树脂成份，与(B)经由放射线照射产生酸之酸产生剂成份，与(C)具有放射线吸收能之化合物，其中前述树脂成份(A)为含有，(a1)羟基苯乙烯所衍生之结构单位，与(a2)前述结构单位(a1)之羟基的氢原子被酸解离性溶解抑制基取代之结构单位，又，前述酸解离性溶解抑制基为含有以下述式(II)所示酸解离性溶解抑制基(II)为主成份，095103163-p01.bmp【式中，X为脂肪族环式基、芳香族环式烃基或碳数1至5之烷基，R^1为碳数1至5之烷基，或X与R^1分别独立为碳数1至5之伸烷基，且X之末端可与R^1之末端相结合，R^2为碳数1至5之烷基或氢原子】。

77. 发明专利

TWI266956B 排出噴嘴式塗佈法用正型光阻組成物及光阻圖型之形成方法 POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR DISCHARGE NOZZLE-COATING METHOD AND FORMATION METHOD OF RESIST PATTERN 有权
简体标题：排出喷嘴式涂布法用正型光阻组成物及光阻图型之形成方法 POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR DISCHARGE NOZZLE-COATING METHOD AND FORMATION METHOD OF RESIST PATTERN
公开(公告)号：TWI266956B
公开(公告)日：2006-11-21
申请号：TW093127664
申请日：2004-09-13
申请人：東京應化工業股份有限公司 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：森尾公隆 MORIO, KIMITAKA , 青木知三郎 AOKI, TOMOSABURO , 加藤哲也 KATO, TETSUYA , 中島哲矢 NAKAJIMA, TETSUYA
IPC分类号： G03F
摘要：本發明提供適合使用於排出噴嘴式之光阻塗佈法的正型光阻組成物；此組成物係，具有依排出噴嘴與基板之相對移動將正型光阻組成物塗佈於基板的塗佈面全面之步驟，的排出噴嘴式塗佈法中所使用之正型光阻組成物；含( A)鹼可溶性酚醛清漆樹脂、(B)分子量為1000以下之含酚性羥基化合物、(C)含二迭氮基化合物、及(D)有機溶劑而成，該(D)有機溶劑含有丙二醇單甲基醚乙酸酯。
简体摘要：本发明提供适合使用于排出喷嘴式之光阻涂布法的正型光阻组成物；此组成物系，具有依排出喷嘴与基板之相对移动将正型光阻组成物涂布于基板的涂布面全面之步骤，的排出喷嘴式涂布法中所使用之正型光阻组成物；含( A)碱可溶性酚醛清漆树脂、(B)分子量为1000以下之含酚性羟基化合物、(C)含二迭氮基化合物、及(D)有机溶剂而成，该(D)有机溶剂含有丙二醇单甲基醚乙酸酯。

78. 发明专利

TWI266142B 用以製造電漿顯示裝置之前面板的未烘烤層板,及用以製造電漿顯示裝置之前面板的方法 UNBAKED LAMINATE FOR PRODUCING FRONT PLATE OF PLASMA DISPLAY DEVICE, AND METHOD FOR PRODUCING FRONT PLATE OF PLASMA DISPLAY DEVICE 失效
简体标题：用以制造等离子显示设备之前皮肤的未烘烤层板,及用以制造等离子显示设备之前皮肤的方法 UNBAKED LAMINATE FOR PRODUCING FRONT PLATE OF PLASMA DISPLAY DEVICE, AND METHOD FOR PRODUCING FRONT PLATE OF PLASMA DISPLAY DEVICE
公开(公告)号：TWI266142B
公开(公告)日：2006-11-11
申请号：TW093114785
申请日：2004-05-25
申请人：東京應化工業股份有限公司 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：節田齊 SETSUDA, HITOSHI , 熊澤明 KUMAZAWA, AKIRA , 押尾公德 OSHIO, KIMINORI , 帶谷洋之 OBIYA, HIROYUKI
IPC分类号： G03F , H01L , H01J
CPC分类号： H01J9/242 , H01J11/12 , H01J11/36
摘要：本發明提供用以製造電漿顯示裝置之前面板的未烘烤層板，及製造此前面板的方法。該層板包括可燃燒的中間層，並可包括未烘烤的介電層及光敏性未烘烤的間隔材料層。該可燃燒的中間層位於該介電層與該間隔材料層之間，並可藉由烘烤處理燒掉，該烘烤處理可移除經移除部分的間隔材料層殘餘物。
简体摘要：本发明提供用以制造等离子显示设备之前皮肤的未烘烤层板，及制造此前皮肤的方法。该层板包括可燃烧的中间层，并可包括未烘烤的介电层及光敏性未烘烤的间隔材料层。该可燃烧的中间层位于该介电层与该间隔材料层之间，并可借由烘烤处理烧掉，该烘烤处理可移除经移除部分的间隔材料层残余物。

79. 发明专利

TW200632550A 負型光阻組成物與光阻圖型之形成方法 NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND PROCESS FOR FORMING RESIST PATTERN 失效
简体标题：负型光阻组成物与光阻图型之形成方法 NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND PROCESS FOR FORMING RESIST PATTERN
公开(公告)号：TW200632550A
公开(公告)日：2006-09-16
申请号：TW095103164
申请日：2006-01-26
申请人：東京應化工業股份有限公司 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：廣崎貴子 HIROSAKI, TAKAKO , 平山拓 HIRAYAMA, TAKU , 鹽野大壽 SHIONO, DAIJU
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/0382
摘要：本發明為提供一種可形成高感度與高解析性(high-resolution)光阻圖型之光阻組成物與光阻圖型之形成方法。該負型光阻組成物為含有(A)鹼可溶性之基材成份與、(B)經由曝光產生酸之酸產生劑成份，與(C)交聯劑之負型光阻組成物，其特徵為，前述基材成份(A)為含有，下述式(I)所示之具有2個以上酚性羥基，且分子量為300至2500之多元酚化合物(A1)。095103164-p01.bmp095103164-p01.bmp
简体摘要：本发明为提供一种可形成高感度与高解析性(high-resolution)光阻图型之光阻组成物与光阻图型之形成方法。该负型光阻组成物为含有(A)碱可溶性之基材成份与、(B)经由曝光产生酸之酸产生剂成份，与(C)交联剂之负型光阻组成物，其特征为，前述基材成份(A)为含有，下述式(I)所示之具有2个以上酚性羟基，且分子量为300至2500之多元酚化合物(A1)。095103164-p01.bmp095103164-p01.bmp

80. 发明专利

TW200632535A 凸版輥式印刷用感光性層合印刷原版及使用該凸版輥式印刷用感光性層合印刷原版之凸版輥式印刷板之製造方法审中-公开
简体标题：凸版辊式印刷用感光性层合印刷原版及使用该凸版辊式印刷用感光性层合印刷原版之凸版辊式印刷板之制造方法
公开(公告)号：TW200632535A
公开(公告)日：2006-09-16
申请号：TW094143784
申请日：2005-12-12
申请人：東京應化工業股份有限公司 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：高木利哉 TAKAGI, TOSHIYA , 藤本隆史 FUJIMOTO, TAKASHI
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/0955 , G03F7/032 , G03F7/202
摘要：本發明係提供一種不污染顯像液而可抑制以顯像液交換之成本上昇的高品質凸版輥式用感光性層合印刷原版及使用該凸版輥式印刷用感光性層合印刷原版之凸版輥式印刷版的製造方法。一種凸版輥式印刷用感光性層合印刷原版，係於支撐體上，至少依序層合：以對紫外線具有感光性之水或水與醇之混合物可顯像之感光性樹脂層、與以至少含有非紫外線吸收性有機色素及紫外線吸收性有機色素、可溶解或分散於水或水與醇之混合物之黏結劑且以水或水與醇之混合物可除去的光罩材層而構成的，其特徵在於：以該非紫外線吸收性物質及該紫外線吸收性物質作為具有與該黏結劑之相溶性的組成。
简体摘要：本发明系提供一种不污染显像液而可抑制以显像液交换之成本上升的高品质凸版辊式用感光性层合印刷原版及使用该凸版辊式印刷用感光性层合印刷原版之凸版辊式印刷版的制造方法。一种凸版辊式印刷用感光性层合印刷原版，系于支撑体上，至少依序层合：以对紫外线具有感光性之水或水与醇之混合物可显像之感光性树脂层、与以至少含有非紫外线吸收性有机色素及紫外线吸收性有机色素、可溶解或分散于水或水与醇之混合物之黏结剂且以水或水与醇之混合物可除去的光罩材层而构成的，其特征在于：以该非紫外线吸收性物质及该紫外线吸收性物质作为具有与该黏结剂之相溶性的组成。

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