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71. 发明专利

TW201841879A 用於低ｋ值蝕刻製程期間最小化側壁損壞的方法审中-公开
简体标题：用于低ｋ值蚀刻制程期间最小化侧壁损坏的方法
公开(公告)号：TW201841879A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW106145725
申请日：2017-12-26
申请人：法商液態空氣喬治斯克勞帝方法研究開發股份有限公司 , L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE
发明人：徐志宇 , HSU, CHIH YU , 沈鵬 , SHEN, PENG , 史特佛納坦 , STAFFORD, NATHAN
IPC分类号： C07C255/10 , C07C255/07 , C07C255/09 , C07C251/08 , C07C251/26 , C07C211/03 , H01L21/3065
摘要：揭示用於低k值蝕刻製程期間最小化側壁損壞的方法。該等方法使用具有選自由以下組成之群之式的有機氟化合物的電漿活化蒸氣蝕刻低k值層：N≡C-R；(N≡C-)-(R)-(-C≡N)；Rx[-C=N(Rz)]y；及R(3-a)-N-Ha，其中a=1-2，x=1-2，y=1-2，z=0-1，x+z=1-3，且各R獨立地具有式HaFbCc，其中a=0-11，b=0-11，且c=0-5。
简体摘要：揭示用于低k值蚀刻制程期间最小化侧壁损坏的方法。该等方法使用具有选自由以下组成之群之式的有机氟化合物的等离子活化蒸气蚀刻低k值层：N≡C-R；(N≡C-)-(R)-(-C≡N)；Rx[-C=N(Rz)]y；及R(3-a)-N-Ha，其中a=1-2，x=1-2，y=1-2，z=0-1，x+z=1-3，且各R独立地具有式HaFbCc，其中a=0-11，b=0-11，且c=0-5。

74. 发明专利

TW201732210A 製氧系統及製氧方法审中-公开
简体标题：制氧系统及制氧方法
公开(公告)号：TW201732210A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW105132185
申请日：2016-10-05
申请人：液態空氣喬治斯克勞帝方法研究開發股份有限公司 , L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE
发明人：廣瀬献児 , HIROSE, KENJI , 梶川豪 , KAJIKAWA, GO , 守屋享祐 , MORIYA, KYOSUKE , 永田大祐 , NAGATA, DAISUKE
IPC分类号： F25J3/04
CPC分类号： F25J3/0409 , F25J3/04066 , F25J3/04206 , F25J3/04284 , F25J3/044 , F25J3/04872 , F25J3/04963 , F25J2200/94 , F25J2205/04 , F25J2230/52 , F25J2240/42 , F25J2245/02 , F25J2245/50 , F25J2250/10 , F25J2250/50 , F25J2250/52
摘要：提供一種製氧系統，該製氧系統可以在減少對現有製氮方法的影響的同時有效地生產高純度氧氣和高純度液態氧中的至少一者。一種製氧系統，該製氧系統包括製氮裝置和製氧裝置，該製氧裝置包括：將冷卻的加壓空氣引入其中的容器(A)；以及精餾塔(C)，該精餾塔包括在其下部部分中提供的冷凝器-蒸發器(B)，該製氧系統包括：第一流動通道，該第一流動通道排出儲存在該容器(A)的底部的液體；第二流動通道，該第二流動通道將通過該第一流動通道排出的液體的一部分引入至該精餾塔(C)的上部部分內；第三流動通道，該第三流動通道從該製氮裝置排出富氧液化空氣的至少一部分、並且將該富氧液化空氣引入至該精餾塔(C)的中間階段內；第四流動通道，該第四流動通道從該第一流動通道分出、並且將該液體的至少一部分引入至該製氮裝置內作為冷源；以及第五流動通道，該第五流動通道從一個位置排出由於由該液化空氣產生的冷凝熱已經在該冷凝器-蒸發器(B)內汽化的氧氣，在該位置處從該精餾塔(C)的底部的理論塔板數係在5至10的範圍內。
简体摘要：提供一种制氧系统，该制氧系统可以在减少对现有制氮方法的影响的同时有效地生产高纯度氧气和高纯度液态氧中的至少一者。一种制氧系统，该制氧系统包括制氮设备和制氧设备，该制氧设备包括：将冷却的加压空气引入其中的容器(A)；以及精馏塔(C)，该精馏塔包括在其下部部分中提供的冷凝器-蒸发器(B)，该制氧系统包括：第一流动信道，该第一流动信道排出存储在该容器(A)的底部的液体；第二流动信道，该第二流动信道将通过该第一流动信道排出的液体的一部分引入至该精馏塔(C)的上部部分内；第三流动信道，该第三流动信道从该制氮设备排出富氧液化空气的至少一部分、并且将该富氧液化空气引入至该精馏塔(C)的中间阶段内；第四流动信道，该第四流动信道从该第一流动信道分出、并且将该液体的至少一部分引入至该制氮设备内作为冷源；以及第五流动信道，该第五流动信道从一个位置排出由于由该液化空气产生的冷凝热已经在该冷凝器-蒸发器(B)内汽化的氧气，在该位置处从该精馏塔(C)的底部的理论塔板数系在5至10的范围内。

80. 发明专利

TW201612354A 用於汽相沉積含有第６族過渡金屬之膜的第６族成膜組成物审中-公开
简体标题：用于汽相沉积含有第６族过渡金属之膜的第６族成膜组成物
公开(公告)号：TW201612354A
公开(公告)日：2016-04-01
申请号：TW104125769
申请日：2015-08-07
申请人：液態空氣喬治斯克勞帝方法研究開發股份有限公司 , L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE
发明人：蘭薩洛馬特拉斯克雷門 , LANSALOT-MATRAS, CLEMENT , 賴弗利格朱利安 , LIEFFRIG, JULIEN , 杜薩拉特克里斯均 , DUSSARRAT, CHRISTIAN , 寇拉斯安東尼 , COLAS, ANTOINE , 金鐘珉 , KIM, JONG MIN
IPC分类号： C23C16/40 , H01L21/285
CPC分类号： C23C16/45553 , C23C16/30 , C23C16/405
摘要：本發明揭示第6族成膜組成物，其包含選自由以下組成之群的含有第6族過渡金屬之前驅物：M(=O)2(OR)2式I，M(=O)(NR2)4式II，M(=O)2(NR2)2式III，M(=NR)2(OR)2式IV，及M(=O)(OR)4式V，其中M為Mo或W且各R獨立地為H、C1至C6烷基或SiR'3，其中R'為H或C1至C6烷基。本發明亦揭示合成所揭示之組成物及使用所揭示之組成物經由氣相沈積製程在基板上沈積含有第6族過渡金屬之膜的方法。
简体摘要：本发明揭示第6族成膜组成物，其包含选自由以下组成之群的含有第6族过渡金属之前驱物：M(=O)2(OR)2式I，M(=O)(NR2)4式II，M(=O)2(NR2)2式III，M(=NR)2(OR)2式IV，及M(=O)(OR)4式V，其中M为Mo或W且各R独立地为H、C1至C6烷基或SiR'3，其中R'为H或C1至C6烷基。本发明亦揭示合成所揭示之组成物及使用所揭示之组成物经由气相沉积制程在基板上沉积含有第6族过渡金属之膜的方法。

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