会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 66. 发明专利
    • 電子零件及其製造方法
    • 电子零件及其制造方法
    • TW201503178A
    • 2015-01-16
    • TW103108999
    • 2014-03-13
    • TDK股份有限公司TDK CORPORATION
    • 渡邊文男WATANABE, FUMIO石川直純ISHIKAWA, NAOZUMI神山浩KAMIYAMA, HIROSHI
    • H01F27/28H01F41/04
    • H01F17/0013H01F27/29H01F41/042H01F2017/0066H01F2017/0093Y10T29/4902
    • 本發明提供一種於積層導體圖案時抑制各導體層的高度偏差並確保最上層的導體圖案之上表面的平坦性的電子零件及其製造方法。電子零件係具備有包含第1導體圖案(P1)之第1導體層、覆蓋第1導體層之第1絕緣層、貫穿第1絕緣層且露出第1導體圖案(P1)之上表面與側面露出之第1開口(h1)、及設置在第1絕緣層上且包含有通過第1開口(h1)而連接至第1導體圖案(P1)之第2導體圖案(P2)的第2導體層。第1開口(h1)之內側的平面區域即第1開口區域係具有形成第1導體圖案(P1)之第1區域、以及未形成有第1導體圖案(P1)之第2區域,第2導體圖案(P2)係被埋入至第1開口(h1)之第1區域與第2區域之雙方。
    • 本发明提供一种于积层导体图案时抑制各导体层的高度偏差并确保最上层的导体图案之上表面的平坦性的电子零件及其制造方法。电子零件系具备有包含第1导体图案(P1)之第1导体层、覆盖第1导体层之第1绝缘层、贯穿第1绝缘层且露出第1导体图案(P1)之上表面与侧面露出之第1开口(h1)、及设置在第1绝缘层上且包含有通过第1开口(h1)而连接至第1导体图案(P1)之第2导体图案(P2)的第2导体层。第1开口(h1)之内侧的平面区域即第1开口区域系具有形成第1导体图案(P1)之第1区域、以及未形成有第1导体图案(P1)之第2区域,第2导体图案(P2)系被埋入至第1开口(h1)之第1区域与第2区域之双方。