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    • 68. 发明专利
    • 半導體裝置的製造方法
    • 半导体设备的制造方法
    • TW201724293A
    • 2017-07-01
    • TW105127297
    • 2016-08-25
    • 迪思科股份有限公司DISCO CORPORATION
    • 金永奭KIM, YOUNGSUK
    • H01L21/58H01L23/12
    • H01L21/76898H01L21/304H01L21/486H01L23/147H01L23/15H01L23/49827
    • 本發明之課題為提供一種不需要在半導體晶片上形成微凸塊之半導體裝置的製造方法。解決手段為一種半導體裝置的製造方法,其包含:將複數個半導體晶片以預定的間隔排列在成為支撐體的基板之第1面上的半導體晶片排列步驟、磨削與基板之第1面為相反側的第2面以將基板薄化至預定之厚度的基板薄化步驟、在已薄化之基板的預定的位置上形成從第2面側到達半導體晶片的貫通孔之後,在貫通孔中埋設金屬以形成貫通電極的貫通電極形成步驟、以及在基板的第2面側形成配線層的配線層形成步驟。
    • 本发明之课题为提供一种不需要在半导体芯片上形成微凸块之半导体设备的制造方法。解决手段为一种半导体设备的制造方法,其包含:将复数个半导体芯片以预定的间隔排列在成为支撑体的基板之第1面上的半导体芯片排列步骤、磨削与基板之第1面为相反侧的第2面以将基板薄化至预定之厚度的基板薄化步骤、在已薄化之基板的预定的位置上形成从第2面侧到达半导体芯片的贯通孔之后,在贯通孔中埋设金属以形成贯通电极的贯通电极形成步骤、以及在基板的第2面侧形成配线层的配线层形成步骤。