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    • 61. 发明专利
    • 磁阻隨機存取記憶體單元之加速壽命測試 ACCELERATED LIFE TEST OF MRAM CELLS
    • 磁阻随机存取内存单元之加速寿命测试 ACCELERATED LIFE TEST OF MRAM CELLS
    • TWI349935B
    • 2011-10-01
    • TW093128880
    • 2004-09-23
    • 飛思卡爾半導體公司
    • 布箂笛尼J 卡尼湯馬士W 安卓喬瑟夫J 那哈斯
    • G11C
    • G11C29/50G11C11/16G11C2029/5002
    • 本發明揭示一電路(30),其可在MRAM(磁阻隨機存取記憶體)(10)的加速壽命測試過程中將應力電壓施加至包含磁阻隨機存取記憶體(MRAM)(10)儲存元件的磁穿隧接面(MTJ)(34-38)上。與正常作業相比,所選用的應力電壓可提供一預定的老化加速度。在壽命測試中的一既定時間點,使用源極隨耦電路(70)將應力電壓供應至儲存單元的一子集。電路(24)藉由模仿被施加應力的部分記憶體陣列(12)之負載特性而將應力電壓維持在期望值。其結果係一嚴格界定之電壓被施予MTJ(34-38),使所有記憶單元(34-38)的加速幅度得到確切界定。
    • 本发明揭示一电路(30),其可在MRAM(磁阻随机存取内存)(10)的加速寿命测试过程中将应力电压施加至包含磁阻随机存取内存(MRAM)(10)存储组件的磁穿隧接面(MTJ)(34-38)上。与正常作业相比,所选用的应力电压可提供一预定的老化加速度。在寿命测试中的一既定时间点,使用源极随耦电路(70)将应力电压供应至存储单元的一子集。电路(24)借由模仿被施加应力的部分内存数组(12)之负载特性而将应力电压维持在期望值。其结果系一严格界定之电压被施予MTJ(34-38),使所有记忆单元(34-38)的加速幅度得到确切界定。
    • 66. 发明专利
    • 積體電路之直接記憶體存取介面及其方法 DIRECT MEMORY ACCESS INTERFACE IN INTEGRATED CIRCUITS AND METHOD THEREFOR
    • 集成电路之直接内存存取界面及其方法 DIRECT MEMORY ACCESS INTERFACE IN INTEGRATED CIRCUITS AND METHOD THEREFOR
    • TW200627471A
    • 2006-08-01
    • TW094132968
    • 2005-09-23
    • 艾特梅爾公司 ATMEL CORPORATION
    • 尼古拉 泰勒柯 NICOLA TELECCO維賈揚 阿杜蘇米里 VIJAYA P. ADUSUMILLI
    • G11C
    • G11C29/1201G11C29/48G11C2029/1204G11C2029/5002
    • 一種直接記憶體存取介面結合所設定之位元線選擇資料至一所欲之頁暫存器元件之一特定儲存元件中。此選擇資料以及一存取致能訊號啟動一記憶存取閘極以電性耦接於具有一所欲之記憶位元線之一記憶存取線。個別的位元線係獨立地可選擇,並且一次可選擇超過一個頁暫存器元件。一記憶位元線之直接存取允許測量以及特性操作以與所選擇之記憶體單元來電性實施。此直接電性存取允許儀器以進行特性操作所必須的電壓與電流之測量。因為不需晶片解碼方案,所以節省了結合於位於每一位元線選擇器電路之定址解碼器閘極之其它面積。因為選擇資料已儲存於頁暫存器元件中已有雙向儲存元件中,所以額外面積之節省可被實現。
    • 一种直接内存存取界面结合所设置之比特线选择数据至一所欲之页寄存器组件之一特定存储组件中。此选择数据以及一存取致能信号启动一记忆存取闸极以电性耦接于具有一所欲之记忆比特线之一记忆存取线。个别的比特线系独立地可选择,并且一次可选择超过一个页寄存器组件。一记忆比特线之直接存取允许测量以及特性操作以与所选择之内存单元来电性实施。此直接电性存取允许仪器以进行特性操作所必须的电压与电流之测量。因为不需芯片译码方案,所以节省了结合于位于每一比特线选择器电路之寻址译码器闸极之其它面积。因为选择数据已存储于页寄存器组件中已有双向存储组件中,所以额外面积之节省可被实现。
    • 68. 发明专利
    • 偵測動態隨機存取記憶體之主動區及深溝電容重疊偏移的測試元件及其偵測方法
    • 侦测动态随机存取内存之主动区及深沟电容重叠偏移的测试组件及其侦测方法
    • TWI222144B
    • 2004-10-11
    • TW091116342
    • 2002-07-23
    • 南亞科技股份有限公司 NANYA TECHNOLOGY CORPORATION
    • 張明成 CHANG, MING CHENG吳鐵將 WU, TIE JIANG林正平郭澤綿 TSE-MAIN KUO樊旭誠 HSU-CHENG FAN
    • H01L
    • H01L27/10861G11C11/401G11C29/50G11C2029/5002G11C2029/5004H01L22/34H01L27/0207H01L27/10891H01L29/66181
    • 一種偵測動態隨機存取記憶體之主動區及深溝電容重疊偏移之測試元件,設置於一基底之切割道上,包括:二主動區,相互平行設置於基底中;二第一深溝電容,沿主動區外側平行設置於基底中,長度小於主動區;一方形主動字元線,設置於基底上,完全覆蓋第一深溝電容;一第一路過字元線,與主動區垂直,平行設置於方形第一字元線第一側邊,並與主動區垂直相交;第二路過字元線,與主動區垂直,平行設置於第一路過字元線外側,並與主動區之垂直相交;一第三路過字元線,與主動區垂直,平行設置於方形第一字元線之側邊,並與主動區垂直相交;二第二深溝電容,分別設置於主動區中之第一路過字元線通過處之基底中;以及四接觸窗,分別設置於第一與第二路過字元線間的主動區上,以及設置於方形主動字元線與第三路過字元線中間的該二主動區上,各與底下之主動區接觸。藉由測試元件上的臨限電壓,可以監控主動區與深溝電容間的偏移程度。
    • 一种侦测动态随机存取内存之主动区及深沟电容重叠偏移之测试组件,设置于一基底之切割道上,包括:二主动区,相互平行设置于基底中;二第一深沟电容,沿主动区外侧平行设置于基底中,长度小于主动区;一方形主动字符线,设置于基底上,完全覆盖第一深沟电容;一第一路过字符线,与主动区垂直,平行设置于方形第一字符线第一侧边,并与主动区垂直相交;第二路过字符线,与主动区垂直,平行设置于第一路过字符线外侧,并与主动区之垂直相交;一第三路过字符线,与主动区垂直,平行设置于方形第一字符线之侧边,并与主动区垂直相交;二第二深沟电容,分别设置于主动区中之第一路过字符线通过处之基底中;以及四接触窗,分别设置于第一与第二路过字符线间的主动区上,以及设置于方形主动字符线与第三路过字符线中间的该二主动区上,各与底下之主动区接触。借由测试组件上的临限电压,可以监控主动区与深沟电容间的偏移程度。