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61. 发明专利

TW201907227A 用於特徵化微影光罩的方法與裝置审中-公开
简体标题：用于特征化微影光罩的方法与设备
公开(公告)号：TW201907227A
公开(公告)日：2019-02-16
申请号：TW107120049
申请日：2018-06-11
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：塞茨霍傑 , SEITZ, HOLGER , 布特格雷特尤特 , BUTTGEREIT, UTE , 泰勒湯瑪士 , THALER, THOMAS , 法蘭克湯瑪士 , FRANK, THOMAS , 馬泰卡尤瑞奇 , MATEJKA, ULRICH , 帝俊瑟馬可斯 , DEGUENTHER, MARKUS , 伯克尼羅伯持 , BIRKNER, ROBERT , 葛歐多明尼克 , GRAU, DOMINIK
IPC分类号： G03F1/82 , G03F7/20
摘要：本發明關於用以特徵化用於微影的光罩的方法及裝置。在根據本發明的一方法中，預計用於一微影投射曝光裝置中的一微影製程的一光罩的結構由一照明光學單元(610)照明，其中光罩(621)由一成像光學單元(630)成像在一偵測器單元(640)上，其中由偵測器單元(640)所記錄的影像資料在一評估單元(650)中進行評估。在此情況下，為模擬針對在微影投射曝光裝置中的微影製程所預定義的一照明設定，在複數個個別的成像中進行光罩(621)在偵測器單元(640)上的成像，其中複數個個別的成像在照明光學單元(610)中所設定的照明設定方面彼此不同或在成像光學單元(630)中所設定的極化影響效應方面彼此不同。
简体摘要：本发明关于用以特征化用于微影的光罩的方法及设备。在根据本发明的一方法中，预计用于一微影投射曝光设备中的一微影制程的一光罩的结构由一照明光学单元(610)照明，其中光罩(621)由一成像光学单元(630)成像在一侦测器单元(640)上，其中由侦测器单元(640)所记录的影像数据在一评估单元(650)中进行评估。在此情况下，为仿真针对在微影投射曝光设备中的微影制程所预定义的一照明设置，在复数个个别的成像中进行光罩(621)在侦测器单元(640)上的成像，其中复数个个别的成像在照明光学单元(610)中所设置的照明设置方面彼此不同或在成像光学单元(630)中所设置的极化影响效应方面彼此不同。

62. 发明专利

TWI649637B 微影裝置、微影投影裝置及器件製造方法有权
简体标题：微影设备、微影投影设备及器件制造方法
公开(公告)号：TWI649637B
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：TW106124264
申请日：2017-07-20
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V. , 德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：巴特勒漢司 , BUTLER, HANS , 傑伯特博哈德 , GEUPPERT, BERNHARD , 洛卜史塔艾瑞克羅勒夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF , 威可曼莫瑞斯威廉裘塞夫艾汀 , WIJCKMANS, MAURICE WILLEM JOZEF ETIENNE
IPC分类号： G03F7/20

63. 发明专利

TWI649587B 光學操縱器、投影透鏡及投影曝光裝置有权
简体标题：光学操纵器、投影透镜及投影曝光设备
公开(公告)号：TWI649587B
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：TW104121075
申请日：2015-06-30
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：伊凡艾瑞克 , EVA, ERIC
IPC分类号： G02B26/06 , G02B26/08 , G03F7/20

64. 发明专利

TWI645248B 用於決定基材上第一結構元件與第二結構元件之間距離的顯微鏡與方法有权
简体标题：用于决定基材上第一结构组件与第二结构组件之间距离的显微镜与方法
公开(公告)号：TWI645248B
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：TW106132316
申请日：2017-09-20
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：布魯赫胥容格弗德狄克 , BLUMRICH, JOERG FREDERIK
IPC分类号： G03F1/84 , G02B21/36 , G06T7/13 , G06T7/55

65. 发明专利

TW201841067A 具有輸送止動器的光學配置，尤其是微影系統审中-公开
简体标题：具有输送止动器的光学配置，尤其是微影系统
公开(公告)号：TW201841067A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107101270
申请日：2018-01-12
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：史維林瑞福 , ZWEERING, RALF , 費茲榭史蒂芬 , FRITZSCHE, STEFFEN , 華格納亨瑞克 , WAGNER, HENDRIK , 亞勒斯弗羅里安 , AHLES, FLORIAN , 波赫舒瑙言斯 , PROCHNAU, JENS , 爾斯邁克 , ERATH, MICHAEL , 庫利斯基維克特 , KULITZKI, VIKTOR , 尼福斯瑪溫尼 , NEFZI, MARWENE
IPC分类号： G03F7/20
摘要：本發明關於一光學配置，例如一微影系統，其包含：一第一組件(19)，特別是一承載框；一第二組件(13)，其可相對第一組件(19)移動，特別是一反射鏡；以及至少一止擋件(20)，其具有至少一止擋面(20a、20b)用以限制第二組件(13)相對第一組件(19)的移動。在本發明一態樣中，光學配置(較佳為止擋件(20))具有用以固定第二組件(13)的一固定裝置(23)，其至少包含可相對止擋件(20)的止擋面(21a、21b)移動的一固定元件(24)。本發明的其他態樣同樣關於具有固定裝置或具有輸送止動器的光學配置。
简体摘要：本发明关于一光学配置，例如一微影系统，其包含：一第一组件(19)，特别是一承载框；一第二组件(13)，其可相对第一组件(19)移动，特别是一反射镜；以及至少一止挡件(20)，其具有至少一止挡面(20a、20b)用以限制第二组件(13)相对第一组件(19)的移动。在本发明一态样中，光学配置(较佳为止挡件(20))具有用以固定第二组件(13)的一固定设备(23)，其至少包含可相对止挡件(20)的止挡面(21a、21b)移动的一固定组件(24)。本发明的其他态样同样关于具有固定设备或具有输送止动器的光学配置。

66. 发明专利

TW201827942A 微影系統與方法审中-公开
简体标题：微影系统与方法
公开(公告)号：TW201827942A
公开(公告)日：2018-08-01
申请号：TW106140757
申请日：2017-11-23
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：葛伯特伯恩哈德 , GEUPPERT, BERNHARD
IPC分类号： G03F7/20
摘要：本發明提供具有投射透鏡(104)的微影系統(200)，其包含：第一光學元件(208)、第一感測器副框(212)、組態以偵測第一光學元件(208)相對第一感測器副框(212)的位置的第一感測器(218)、以及組態以偵測晶圓(124)相對第一感測器副框(212)的位置的第二感測器(220)。
简体摘要：本发明提供具有投射透镜(104)的微影系统(200)，其包含：第一光学组件(208)、第一传感器副框(212)、组态以侦测第一光学组件(208)相对第一传感器副框(212)的位置的第一传感器(218)、以及组态以侦测晶圆(124)相对第一传感器副框(212)的位置的第二传感器(220)。

67. 发明专利

TW201826042A 光學元件，特別是用於微影投影曝光設備的光學元件审中-公开
简体标题：光学组件，特别是用于微影投影曝光设备的光学组件
公开(公告)号：TW201826042A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106139916
申请日：2017-11-17
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：墨瑟勞夫 , MOSER, RALF , 黑霍德佛羅里安 , HEROLD, FLORIAN , 舒密德納阿諾 , SCHMITTNER, ARNO , 肯利霍傑 , KIEREY, HOLGER , 麥凱爾沃夫岡 , MERKEL, WOLFGANG , 麥塔利迪斯喬格 , METALIDIS, GEORGO
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/38
摘要：本發明係關於一種光學元件，特別是用於微影投影曝光設備的光學元件，其中該光學元件具有一光學有效表面。依據一個態樣，該光學元件包含一基板(105、205、305、405、505)；一層系統，其存在於該基板上；以及一保護蓋(130、230、330、430、530)，其延伸於緊鄰該光學有效表面的光學元件的一邊緣區域上，並在該光學元件的操作期間相較於無該保護蓋的一類似設計減少氫自由基進入該層系統，其中一間隙係形成於該保護蓋(130、230、330、430、530)與該層系統之間。
简体摘要：本发明系关于一种光学组件，特别是用于微影投影曝光设备的光学组件，其中该光学组件具有一光学有效表面。依据一个态样，该光学组件包含一基板(105、205、305、405、505)；一层系统，其存在于该基板上；以及一保护盖(130、230、330、430、530)，其延伸于紧邻该光学有效表面的光学组件的一边缘区域上，并在该光学组件的操作期间相较于无该保护盖的一类似设计减少氢自由基进入该层系统，其中一间隙系形成于该保护盖(130、230、330、430、530)与该层系统之间。

68. 发明专利

TW201816505A 光學系統及使用此系統校正光罩缺陷的方法审中-公开
简体标题：光学系统及使用此系统校正光罩缺陷的方法
公开(公告)号：TW201816505A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106126548
申请日：2017-08-07
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：西塞爾伯格馬可斯 , SEESSELBERG, MARKUS , 德米特里耶夫瓦拉帝米爾 , DMITRIEV, VLADIMIR , 威爾特瓊琴 , WELTE, JOACHIM , 斯特恩烏里 , STERN, URI , 科恩托梅爾 , COHEN, TOMER , 格拉伊特宰爾埃列茲 , GRAITZER, EREZ
IPC分类号： G03F1/72 , G03F1/84 , G02B21/00 , G02B26/06
摘要：本發明關於一光學系統，其包含一掃描單元、包含至少一第一透鏡元件的一第一透鏡元件群組、設計以將光束聚焦至一焦點的一聚焦單元，其中聚焦單元包含一第二透鏡元件群組，其包含至少一第二透鏡元件及一成像透鏡。成像透鏡更包含一光瞳平面及一波前操縱器。光學系統的波前操縱器配置於成像透鏡的光瞳平面中或於與成像透鏡的光瞳平面共軛的一平面中，或者光學系統的掃描單元配置於與成像透鏡的光瞳平面共軛的一平面中且波前操縱器配置於光方向中之掃描單元的上游。第二透鏡元件群組的焦點位於聚焦單元的所有焦點位置處的成像透鏡的光瞳平面中。
简体摘要：本发明关于一光学系统，其包含一扫描单元、包含至少一第一透镜组件的一第一透镜组件群组、设计以将光束聚焦至一焦点的一聚焦单元，其中聚焦单元包含一第二透镜组件群组，其包含至少一第二透镜组件及一成像透镜。成像透镜更包含一光瞳平面及一波前操纵器。光学系统的波前操纵器配置于成像透镜的光瞳平面中或于与成像透镜的光瞳平面共轭的一平面中，或者光学系统的扫描单元配置于与成像透镜的光瞳平面共轭的一平面中且波前操纵器配置于光方向中之扫描单元的上游。第二透镜组件群组的焦点位于聚焦单元的所有焦点位置处的成像透镜的光瞳平面中。

69. 发明专利

TW201812475A 微影裝置、微影投影裝置及器件製造方法审中-公开
简体标题：微影设备、微影投影设备及器件制造方法
公开(公告)号：TW201812475A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106124264
申请日：2017-07-20
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V. , 德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：巴特勒漢司 , BUTLER, HANS , 傑伯特博哈德 , GEUPPERT, BERNHARD , 洛卜史塔艾瑞克羅勒夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF , 威可曼莫瑞斯威廉裘塞夫艾汀 , WIJCKMANS, MAURICE WILLEM JOZEF ETIENNE
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70833 , G03F7/709
摘要：本發明係關於一種微影裝置，其包含： - 一基座框架，其經調適以用於將該微影裝置安裝於一支撐表面上， - 一投影系統，其包含： - 一力框架， - 一光學元件，其相對於該力框架可移動， - 一感測器框架，其與該力框架分離， - 至少一個感測器，其經調適以監視該光學元件，該至少一個感測器包含安裝至該感測器框架之至少一個感測器元件， - 一力框架支撐件，其經調適以將該力框架支撐於該基座框架上， - 一中間框架，其與該力框架分離， - 一感測器框架耦接器，其經調適以將該感測器框架耦接至該中間框架， - 一中間框架支撐件，其與該力框架支撐件分離且經調適以將該中間框架支撐於該基座框架上。
简体摘要：本发明系关于一种微影设备，其包含： - 一基座框架，其经调适以用于将该微影设备安装于一支撑表面上， - 一投影系统，其包含： - 一力框架， - 一光学组件，其相对于该力框架可移动， - 一传感器框架，其与该力框架分离， - 至少一个传感器，其经调适以监视该光学组件，该至少一个传感器包含安装至该传感器框架之至少一个传感器组件， - 一力框架支撑件，其经调适以将该力框架支撑于该基座框架上， - 一中间框架，其与该力框架分离， - 一传感器框架耦接器，其经调适以将该传感器框架耦接至该中间框架， - 一中间框架支撑件，其与该力框架支撑件分离且经调适以将该中间框架支撑于该基座框架上。

70. 发明专利

TW201812384A 具有光圈之投射物鏡审中-公开
简体标题：具有光圈之投射物镜
公开(公告)号：TW201812384A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW107100662
申请日：2011-05-19
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：迪克曼尼爾斯 , DIECKMANN, NILS , 渥夫亞歷安卓 , WOLF, ALEXANDER , 何藍克里斯堤安 , HOLLAND, CHRISTIAN , 羅瑞尤瑞奇 , LOERING, ULRICH , 索葛法蘭茲 , SORG, FRANZ
IPC分类号： G02B17/08 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70941 , G02B27/0043
摘要：投射物鏡(200)用於將設置在投射物鏡之物件平面(OS)之物件成像為物件之位於投射物鏡之影像平面(IS)的影像，其包含多個透明光學元件以及多個支托裝置，支托裝置用於將光學元件支托在沿著投射物鏡之成像光束路徑的預定位置。各光學元件具有位於成像光束路徑中之光學用區，以及位於光學用區外之邊緣區。指派給光學元件之支托裝置之至少一支托元件作用於接觸區之區域中的邊緣區。至少一光學元件(L2-1、L2-2、L3-6)指派有光圈配置(SA1、SA2、SA3)，係具有直接設置在光學元件上游之第一雜光光圈(SLS1)以及直接設置在光學元件下游之第二雜光光圈(SLS2)，各雜光光圈形成為使得雜光光圈對邊緣區之至少一部分篩選行進在成像光束路徑外的輻射。
简体摘要：投射物镜(200)用于将设置在投射物镜之对象平面(OS)之对象成像为对象之位于投射物镜之影像平面(IS)的影像，其包含多个透明光学组件以及多个支托设备，支托设备用于将光学组件支托在沿着投射物镜之成像光束路径的预定位置。各光学组件具有位于成像光束路径中之光学用区，以及位于光学用区外之边缘区。指派给光学组件之支托设备之至少一支托组件作用于接触区之区域中的边缘区。至少一光学组件(L2-1、L2-2、L3-6)指派有光圈配置(SA1、SA2、SA3)，系具有直接设置在光学组件上游之第一杂光光圈(SLS1)以及直接设置在光学组件下游之第二杂光光圈(SLS2)，各杂光光圈形成为使得杂光光圈对边缘区之至少一部分筛选行进在成像光束路径外的辐射。

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