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51. 发明专利

TWI426530B 粒子束照射裝置及粒子束治療裝置有权
简体标题：粒子束照射设备及粒子束治疗设备
公开(公告)号：TWI426530B
公开(公告)日：2014-02-11
申请号：TW099140509
申请日：2010-11-24
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：片寄雅 , KATAYOSE, TADASHI
IPC分类号： G21K1/093 , G21K5/04 , A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1077 , A61N5/1043 , A61N2005/1087 , G21K5/02 , H01J3/26

52. 发明专利

TW201404426A 加速器的高頻控制裝置及粒子線治療裝置审中-公开
简体标题：加速器的高频控制设备及粒子线治疗设备
公开(公告)号：TW201404426A
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW101136183
申请日：2012-10-01
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：高瀨英伸 , TAKASE, HIDENOBU
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： H05H7/02 , A61N5/1043 , A61N5/1048 , A61N5/1077 , A61N2005/1087 , G21K5/04 , H05H13/04 , H05H2277/11
摘要：本發明提供一種加速器的高頻控制裝置，係具備：硬式磁碟機記憶體(31)，用以記憶要產生之粒子線之能量與強度之每一組合之要施加的高頻的模式資料；及區域記憶體，為資料之讀取速度較硬式磁碟機還快者，其係為了執行依序變更粒子線的能量與強度而對屬於照射對象之患者的患部照射粒子線，以在患者之患部的深度方向依序形成層狀粒子線照射區域的掃描式照射法，而從硬式磁碟機記憶體(31)依每一患者將高頻的複數個模式資料，隨同改變能量與強度的順序一同讀入並記憶。
简体摘要：本发明提供一种加速器的高频控制设备，系具备：硬式磁盘机内存(31)，用以记忆要产生之粒子线之能量与强度之每一组合之要施加的高频的模式数据；及区域内存，为数据之读取速度较硬式磁盘机还快者，其系为了运行依序变更粒子线的能量与强度而对属于照射对象之患者的患部照射粒子线，以在患者之患部的深度方向依序形成层状粒子线照射区域的扫描式照射法，而从硬式磁盘机内存(31)依每一患者将高频的复数个模式数据，随同改变能量与强度的顺序一同读入并记忆。

53. 发明专利

TW201350163A 移動式ｘ光單元审中-公开
简体标题：移动式ｘ光单元
公开(公告)号：TW201350163A
公开(公告)日：2013-12-16
申请号：TW101119912
申请日：2012-06-04
申请人：紐克雷創營運公司 , NUCLETRON OPERATIONS B. V.
发明人：漢寧約翰 , HENNING, JOHAN , 伍德史塔拔思 , WOUDSTRA, BAS
IPC分类号： A61N5/10
摘要：本發明有關一種移動式X光單元(10)，包括一基座(2)用以容置一控制單元及一電源供應器，且更包括一鉸接可位移式臂(4a)用以支撐具有一X光管之一X光裝療器(4)，X光裝療器利用一軟性纜線(3)連接至基座，其中，X光管包括一撞擊靶用以產生一X光射束(8a)、一準直儀用以成型所產生之X光射束以及一出口表面(8)，透過此X光射束在使用時可穿出，其中，移動式X光單元更包括一指示器，用以提供至少一部份之從出口表面射出之X光射束之一視覺指示。
简体摘要：本发明有关一种移动式X光单元(10)，包括一基座(2)用以容置一控制单元及一电源供应器，且更包括一铰接可位移式臂(4a)用以支撑具有一X光管之一X光装疗器(4)，X光装疗器利用一软性缆线(3)连接至基座，其中，X光管包括一撞击靶用以产生一X光射束(8a)、一准直仪用以成型所产生之X光射束以及一出口表面(8)，透过此X光射束在使用时可穿出，其中，移动式X光单元更包括一指示器，用以提供至少一部份之从出口表面射出之X光射束之一视觉指示。

54. 发明专利

TW201350161A 移動式Ｘ光單元审中-公开
简体标题：移动式Ｘ光单元
公开(公告)号：TW201350161A
公开(公告)日：2013-12-16
申请号：TW101119910
申请日：2012-06-04
申请人：紐克雷創營運公司 , NUCLETRON OPERATIONS B. V.
发明人：伍德史塔拔思 , WOUDSTRA, BAS , 德加格文 , DE JAGER, WIM
IPC分类号： A61N5/10 , G21K3/00
摘要：本發明有關一種移動式X光單元(10)，包括一基座(2)用以容置一控制單元、一電源供應器及一冷卻器，且更包括一鉸接可位移式臂(4a)用以支撐具有一X光管之一X光裝療器(4)，X光裝療器連接至基座，X光管包括一撞擊靶用以產生一X光射束以及一準直儀用以成型所產生之X光射束，介於撞擊靶及準直儀之間的距離約為4公分至10公分之間。
简体摘要：本发明有关一种移动式X光单元(10)，包括一基座(2)用以容置一控制单元、一电源供应器及一冷却器，且更包括一铰接可位移式臂(4a)用以支撑具有一X光管之一X光装疗器(4)，X光装疗器连接至基座，X光管包括一撞击靶用以产生一X光射束以及一准直仪用以成型所产生之X光射束，介于撞击靶及准直仪之间的距离约为4公分至10公分之间。

55. 发明专利

TWI406683B 粒子束照射系統及粒子束照射系統之控制方法有权
简体标题：粒子束照射系统及粒子束照射系统之控制方法
公开(公告)号：TWI406683B
公开(公告)日：2013-09-01
申请号：TW100112439
申请日：2011-04-11
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：原田久 , HARADA, HISASHI
IPC分类号： A61N5/10 , G21K5/04
CPC分类号： A61N5/1042 , A61N5/1043 , A61N5/1049 , A61N5/1065 , A61N5/1079 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087 , G21K1/093

56. 发明专利

TW201332605A 粒子線照射系統及荷電粒子束之補正方法审中-公开
简体标题：粒子线照射系统及荷电粒子束之补正方法
公开(公告)号：TW201332605A
公开(公告)日：2013-08-16
申请号：TW101137712
申请日：2012-10-12
申请人：日立製作所股份有限公司 , HITACHI, LTD.
发明人：西內秀晶 , NISHIUCHI, HIDEAKI , 藤高伸一郎 , FUJITAKA, SHINICHIRO
IPC分类号： A61N5/10
摘要：本發明係一種粒子線照射系統及荷電粒子束之補正方法，其課題為提供未使照射輻射劑量一樣度降低而可提高射束利用效率之粒子線照射系統。其解決手段為具有加速離子束(10)而射出之同步加速器(13)，和照射從同步加速器(13)所射出之離子束(10)之照射裝置(30)，從照射裝置(30)複數次進行一單位之照射的粒子線照射系統，其特徵為具備：計測同步加速器(13)內之儲存射束電荷量(Qmeas)之儲存射束電荷量計測手段(15)，和依據以儲存射束電荷量計測手段計測之儲存射束電荷量(Qmeas)，設定從同步加速器(13)射出之目標射束電流值(Ifb)之目標電流設定手段，和依據從前述目標電流設定手段所求得之射出射束電流之目標值(Ifb)而控制射束電流之射出射束電流補正控制手段者。
简体摘要：本发明系一种粒子线照射系统及荷电粒子束之补正方法，其课题为提供未使照射辐射剂量一样度降低而可提高射束利用效率之粒子线照射系统。其解决手段为具有加速离子束(10)而射出之同步加速器(13)，和照射从同步加速器(13)所射出之离子束(10)之照射设备(30)，从照射设备(30)复数次进行一单位之照射的粒子线照射系统，其特征为具备：计测同步加速器(13)内之存储射束电荷量(Qmeas)之存储射束电荷量计测手段(15)，和依据以存储射束电荷量计测手段计测之存储射束电荷量(Qmeas)，设置从同步加速器(13)射出之目标射束电流值(Ifb)之目标电流设置手段，和依据从前述目标电流设置手段所求得之射出射束电流之目标值(Ifb)而控制射束电流之射出射束电流补正控制手段者。

57. 发明专利

TW201313225A 與放射線治療關聯之包含奧瑞布林（ＯＭＢＲＡＢＵＬＩＮ）及順鉑（ＣＩＳＰＬＡＴＩＮ）之抗腫瘤組合审中-公开
简体标题：与放射线治疗关联之包含奥瑞布尔（ＯＭＢＲＡＢＵＬＩＮ）及顺铂（ＣＩＳＰＬＡＴＩＮ）之抗肿瘤组合
公开(公告)号：TW201313225A
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：TW101127825
申请日：2012-08-01
申请人：賽諾菲公司 , SANOFI
发明人：卡瑞茲辰妥 , CARREZ, CHANTAL , 克里曼森席琳 , CLEMENSON, CELINE , 迪屈艾瑞克 , DEUTSCH, ERIC
IPC分类号： A61K31/167 , A61K33/24 , A61P35/00 , A61N5/10
CPC分类号： A61K33/24 , A61K9/0019 , A61K31/167 , A61K2300/00
摘要：本發明係關於一種包含可呈鹼形式或呈醫藥上可接受之鹽形式之奧瑞布林(ombrabulin)或AVE8062及順鉑(cisplatin)之抗腫瘤醫藥組合，其係用為亦使用放射線治療(特定言之，罹患癌症，及甚至更特定言之，罹患實體腫瘤)之患者之抗腫瘤劑。
简体摘要：本发明系关于一种包含可呈碱形式或呈医药上可接受之盐形式之奥瑞布尔(ombrabulin)或AVE8062及顺铂(cisplatin)之抗肿瘤医药组合，其系用为亦使用放射线治疗(特定言之，罹患癌症，及甚至更特定言之，罹患实体肿瘤)之患者之抗肿瘤剂。

58. 发明专利

TWI691238B 中子減速材料之製作方法有权
简体标题：中子减速材料之制作方法
公开(公告)号：TWI691238B
公开(公告)日：2020-04-11
申请号：TW108112941
申请日：2019-04-12
申请人：中國鋼鐵股份有限公司 , CHINA STEEL CORPORATION
发明人：陳榮志 , CHEN, RONG ZHI , 黃宏勝 , HUANG, HUNG SHENG , 莊啟宗 , CHUANG, CHI TSUNG
IPC分类号： H05H3/06 , A61N5/10

59. 发明专利

TWI687249B 中子捕獲治療系統有权
简体标题：中子捕获治疗系统
公开(公告)号：TWI687249B
公开(公告)日：2020-03-11
申请号：TW107127844
申请日：2018-08-09
申请人：中國商南京中硼聯康醫療科技有限公司 , NEUBORON MEDTECH LTD.
发明人：陳韋霖 , CHEN, WEI LIN , 劉淵豪 , LIU, YUAN HAO
IPC分类号： A61N5/10 , G21K5/00 , H05H3/06

60. 发明专利

TWI686456B 具有中子遮蔽功能之遮蔽黏著劑有权
简体标题：具有中子屏蔽功能之屏蔽黏着剂
公开(公告)号：TWI686456B
公开(公告)日：2020-03-01
申请号：TW107135854
申请日：2018-10-11
申请人：日商日本輕金屬股份有限公司 , NIPPON LIGHT METAL COMPANY, LTD.
发明人：薄秀明 , USUI, HIDEAKI , 古屋日高 , FURUYA, HIDAKA , 高橋真樹 , TAKAHASHI, MAKI , 石川秀德 , ISHIKAWA, HIDENORI
IPC分类号： C09J163/00 , C08G59/40 , C09J11/04 , C09J9/00 , G21F1/02 , G21F3/00 , G21K5/00 , A61N5/10

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