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1. 发明专利

TW201609218A 旋轉支架及粒子線治療裝置审中-公开
简体标题：旋转支架及粒子线治疗设备
公开(公告)号：TW201609218A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW104139906
申请日：2012-09-24
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：片寄雅 , KATAYOSE, TADASHI
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1081 , A61N2005/1087 , A61N2005/109 , A61N2005/1094 , G21F3/00 , G21F7/00 , G21K1/02 , G21K1/093 , G21K1/10
摘要：本發明之目的在於：藉由在旋轉支架設置減少中子或伽瑪射線等穿透性高的輻射線(二次輻射線)的洩漏之遮蔽體，以防止輻射線從旋轉支架中洩漏者。根據本發明之旋轉支架(10)，係在相對於照射對象(13)而言與粒子線照射裝置(58)相對向之一側，具備有：使因荷電粒子束(31)碰撞於照射對象(13)所產生之二次輻射線的洩漏線量衰減之遮蔽體(12)。
简体摘要：本发明之目的在于：借由在旋转支架设置减少中子或伽玛射线等穿透性高的辐射线(二次辐射线)的泄漏之屏蔽体，以防止辐射线从旋转支架中泄漏者。根据本发明之旋转支架(10)，系在相对于照射对象(13)而言与粒子线照射设备(58)相对向之一侧，具备有：使因荷电粒子束(31)碰撞于照射对象(13)所产生之二次辐射线的泄漏线量衰减之屏蔽体(12)。

2. 发明专利

TW201338825A 旋轉支架及粒子線治療裝置审中-公开
简体标题：旋转支架及粒子线治疗设备
公开(公告)号：TW201338825A
公开(公告)日：2013-10-01
申请号：TW101134880
申请日：2012-09-24
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：片寄雅 , KATAYOSE, TADASHI
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1081 , A61N2005/1087 , A61N2005/109 , A61N2005/1094 , G21F3/00 , G21F7/00 , G21K1/02 , G21K1/093 , G21K1/10
摘要：本發明之目的在於：藉由在旋轉支架設置減少中子或伽瑪射線等穿透性高的輻射線(二次輻射線)的洩漏之遮蔽體，以防止輻射線從旋轉支架中洩漏者。根據本發明之旋轉支架(10)，係在相對於照射對象(13)而言與粒子線照射裝置(58)相對向之一側，具備有：使因荷電粒子束(31)碰撞於照射對象(13)所產生之二次輻射線的洩漏線量衰減之遮蔽體(12)。
简体摘要：本发明之目的在于：借由在旋转支架设置减少中子或伽玛射线等穿透性高的辐射线(二次辐射线)的泄漏之屏蔽体，以防止辐射线从旋转支架中泄漏者。根据本发明之旋转支架(10)，系在相对于照射对象(13)而言与粒子线照射设备(58)相对向之一侧，具备有：使因荷电粒子束(31)碰撞于照射对象(13)所产生之二次辐射线的泄漏线量衰减之屏蔽体(12)。

3. 发明专利

TWI558434B 旋轉支架及粒子線治療裝置有权
简体标题：旋转支架及粒子线治疗设备
公开(公告)号：TWI558434B
公开(公告)日：2016-11-21
申请号：TW101134880
申请日：2012-09-24
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：片寄雅 , KATAYOSE, TADASHI
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1081 , A61N2005/1087 , A61N2005/109 , A61N2005/1094 , G21F3/00 , G21F7/00 , G21K1/02 , G21K1/093 , G21K1/10

4. 发明专利

TWI549713B 粒子線照射室有权
简体标题：粒子线照射室
公开(公告)号：TWI549713B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：TW103112970
申请日：2014-04-09
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：春名延是 , HARUNA, NOBUYUKI , 坂本裕介 , SAKAMOTO, YUSUKE , 片寄雅 , KATAYOSE, TADASHI
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1081 , A61N5/10 , A61N5/1077 , A61N2005/1087 , A61N2005/1094 , G21F7/005

5. 发明专利

TWI426530B 粒子束照射裝置及粒子束治療裝置有权
简体标题：粒子束照射设备及粒子束治疗设备
公开(公告)号：TWI426530B
公开(公告)日：2014-02-11
申请号：TW099140509
申请日：2010-11-24
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：片寄雅 , KATAYOSE, TADASHI
IPC分类号： G21K1/093 , G21K5/04 , A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1077 , A61N5/1043 , A61N2005/1087 , G21K5/02 , H01J3/26

6. 发明专利

TWI572392B 旋轉支架及粒子線治療裝置有权
简体标题：旋转支架及粒子线治疗设备
公开(公告)号：TWI572392B
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW104139906
申请日：2012-09-24
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：片寄雅 , KATAYOSE, TADASHI
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1081 , A61N2005/1087 , A61N2005/109 , A61N2005/1094 , G21F3/00 , G21F7/00 , G21K1/02 , G21K1/093 , G21K1/10

7. 发明专利

TWI483753B 粒子線照射裝置及粒子線治療裝置有权
简体标题：粒子线照射设备及粒子线治疗设备
公开(公告)号：TWI483753B
公开(公告)日：2015-05-11
申请号：TW101106937
申请日：2012-03-02
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：池田昌廣 , IKEDA, MASAHIRO , 原田久 , HARADA, HISASHI , 花川和之 , HANAKAWA, KAZUSHI , 大谷利宏 , OTANI, TOSHIHIRO , 片寄雅 , KATAYOSE, TADASHI , 本田泰三 , HONDA, TAIZO , 山田由希子 , YAMADA, YUKIKO , 蒲越虎 , PU, YUEHU
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1081 , A61N5/1077 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095

8. 发明专利

TW201338823A 粒子線治療裝置及粒子線治療裝置的運轉方法审中-公开
简体标题：粒子线治疗设备及粒子线治疗设备的运转方法
公开(公告)号：TW201338823A
公开(公告)日：2013-10-01
申请号：TW101125664
申请日：2012-07-17
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：山田由希子 , YAMADA, YUKIKO , 原田久 , HARADA, HISASHI , 本田泰三 , HONDA, TAIZO , 池田昌廣 , IKEDA, MASAHIRO , 花川和之 , HANAKAWA, KAZUSHI , 大谷利宏 , OTANI, TOSHIHIRO , 片寄雅 , KATAYOSE, TADASHI
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1048 , A61N5/1043 , A61N5/1077 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087 , H05H13/04 , H05H2277/11
摘要：本發明提供一種粒子線治療裝置。控制部(20)以設置有下述構件之方式所構成：運轉模式保持部(25)，用來保持複數個運轉模式(OP-S、OP-L)，以作為加速器(10)週期性地反覆進行的運轉模式，該複數個運轉模式(OP-S、OP-L)之能夠射出粒子線B之時間(To)不同，並且即使存在磁滯現象下，亦以加速器(10)之偏向電磁鐵(13)形成期望之磁場強度之方式，分別調整操作條件；照射條件讀入部(22)，對於朝深度方向劃分照射對象的複數個分層，讀入每一分層的照射條件；運轉模式選擇部(23)，根據讀入之照射條件，選擇複數個運轉模式之中，適合於該分層的運轉模式；以及主控制部(21)，對每一分層，根據選擇的運轉模式控制加速器(10)，並且根據照射條件控制照射裝置(40)。
简体摘要：本发明提供一种粒子线治疗设备。控制部(20)以设置有下述构件之方式所构成：运转模式保持部(25)，用来保持复数个运转模式(OP-S、OP-L)，以作为加速器(10)周期性地反复进行的运转模式，该复数个运转模式(OP-S、OP-L)之能够射出粒子线B之时间(To)不同，并且即使存在磁滞现象下，亦以加速器(10)之偏向电磁铁(13)形成期望之磁场强度之方式，分别调整操作条件；照射条件读入部(22)，对于朝深度方向划分照射对象的复数个分层，读入每一分层的照射条件；运转模式选择部(23)，根据读入之照射条件，选择复数个运转模式之中，适合于该分层的运转模式；以及主控制部(21)，对每一分层，根据选择的运转模式控制加速器(10)，并且根据照射条件控制照射设备(40)。

9. 发明专利

TW201318661A 粒子線治療裝置审中-公开
简体标题：粒子线治疗设备
公开(公告)号：TW201318661A
公开(公告)日：2013-05-16
申请号：TW101105419
申请日：2012-02-20
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：池田昌廣 , IKEDA, MASAHIRO , 原田久 , HARADA, HISASHI , 花川和之 , HANAKAWA, KAZUSHI , 大谷利宏 , OTANI, TOSHIHIRO , 片寄雅 , KATAYOSE, TADASHI , 本田泰三 , HONDA, TAIZO , 山田由希子 , YAMADA, YUKIKO , 蒲越虎 , PU, YUEHU
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1077 , A61N5/1049 , A61N5/1069 , A61N2005/1087
摘要：本發明之目的在於獲致一種粒子線治療裝置，可在長度固定之照射噴嘴之狀態下抑制射束尺寸的擴大而照射粒子線，且可進行精確度高的照射。本發明之粒子線治療裝置係具備：治療台控制部(61)，用以控制該治療台(30)的位置；及照射控制部(60)，用以輸出用來控制該治療台控制部與加速器(1)與掃描電磁鐵(7)之指令；其中，治療台控制部在以使患者之患部基準位置之患者等角點移動至設定在較照射噴嘴(4)與治療台之位置關係之基準的機器等角點(IC1)更接近照射噴嘴之位置之照射等角點(IC2)之位置為止之方式控制治療台後，照射控制部係輸出對患者照射粒子線的指令。
简体摘要：本发明之目的在于获致一种粒子线治疗设备，可在长度固定之照射喷嘴之状态下抑制射束尺寸的扩大而照射粒子线，且可进行精确度高的照射。本发明之粒子线治疗设备系具备：治疗台控制部(61)，用以控制该治疗台(30)的位置；及照射控制部(60)，用以输出用来控制该治疗台控制部与加速器(1)与扫描电磁铁(7)之指令；其中，治疗台控制部在以使患者之患部基准位置之患者等角点移动至设置在较照射喷嘴(4)与治疗台之位置关系之基准的机器等角点(IC1)更接近照射喷嘴之位置之照射等角点(IC2)之位置为止之方式控制治疗台后，照射控制部系输出对患者照射粒子线的指令。

10. 发明专利

TW201822836A 粒子線治療裝置审中-公开
简体标题：粒子线治疗设备
公开(公告)号：TW201822836A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW106121794
申请日：2017-06-29
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：小田原周平 , ODAWARA, SHUHEI , 片寄雅 , KATAYOSE, TADASHI
IPC分类号： A61N5/10 , G21K5/04 , H05H7/04
摘要：粒子線治療裝置100之偏向電磁鐵55係使離子射束偏向，並且藉由主線圈2a、2b將磁場強度從比作為目標之磁場強度更高之第一磁場強度，調整成比前述第一磁場強度更低且比前述作為目標之磁場強度高出預定量之第二磁場強度後，藉由與主線圈2a、2b分別共用磁極鐵芯1a、1b之修正線圈3a、3b修正成作為目標之磁場強度，藉此即便是在照射中切換射束能量之情形時，亦可在與反覆輸送相同能量之情形相同之磁滯曲線上使偏向電磁鐵55的磁場變化，而在變更射束能量後亦實現與調整時相同之射束狀態。
简体摘要：粒子线治疗设备100之偏向电磁铁55系使离子射束偏向，并且借由主线圈2a、2b将磁场强度从比作为目标之磁场强度更高之第一磁场强度，调整成比前述第一磁场强度更低且比前述作为目标之磁场强度高出预定量之第二磁场强度后，借由与主线圈2a、2b分别共享磁极铁芯1a、1b之修正线圈3a、3b修正成作为目标之磁场强度，借此即便是在照射中切换射束能量之情形时，亦可在与反复输送相同能量之情形相同之磁滞曲在线使偏向电磁铁55的磁场变化，而在变更射束能量后亦实现与调整时相同之射束状态。

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