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    • 3. 发明专利
    • 粒子束照射系統及粒子束照射系統之控制方法 PARTICLE BEAM IRRADIATION SYSTEM AND METHOD FOR CONTROLLING THE PARTICLE BEAM IRRADIATION SYSTEM
    • 粒子束照射系统及粒子束照射系统之控制方法 PARTICLE BEAM IRRADIATION SYSTEM AND METHOD FOR CONTROLLING THE PARTICLE BEAM IRRADIATION SYSTEM
    • TW201143841A
    • 2011-12-16
    • TW100112439
    • 2011-04-11
    • 三菱電機股份有限公司
    • 原田久
    • A61NG21K
    • A61N5/1042A61N5/1043A61N5/1049A61N5/1065A61N5/1079A61N2005/1074A61N2005/1087G21K1/093
    • 本發明的目的為在粒子束照射系統中,給予更佳精確度的高劑量分佈。照射控制部(13)係具備有:能量設定控制器(14),用以設定帶電粒子射束的能量;射束掃描控制器(16),用以控制射束掃描器(41);以及射束直徑控制器(15),用以控制射束直徑變更器(40、60);而照射控制部(13)係以下述方式進行控制:藉由射束直徑控制器(15)將帶電粒子射束的射束直徑設定為第一射束直徑,並藉由射束掃描控制器(16)將帶電粒子射束以階梯狀掃描並對照射目標的預定區域照射帶電粒子射束;之後,藉由射束直徑控制器(15)將帶電粒子射束的射束直徑設定為與第一射束直徑相異的第二射束直徑,並藉由射束掃描控制器(16)將帶電粒子射束以階梯狀掃描,並以對與照射目標的預定區域的至少一部份重疊的區域照射帶電粒子射束。
    • 本发明的目的为在粒子束照射系统中,给予更佳精确度的高剂量分布。照射控制部(13)系具备有:能量设置控制器(14),用以设置带电粒子射束的能量;射束扫描控制器(16),用以控制射束扫描仪(41);以及射束直径控制器(15),用以控制射束直径变更器(40、60);而照射控制部(13)系以下述方式进行控制:借由射束直径控制器(15)将带电粒子射束的射束直径设置为第一射束直径,并借由射束扫描控制器(16)将带电粒子射束以阶梯状扫描并对照射目标的预定区域照射带电粒子射束;之后,借由射束直径控制器(15)将带电粒子射束的射束直径设置为与第一射束直径相异的第二射束直径,并借由射束扫描控制器(16)将带电粒子射束以阶梯状扫描,并以对与照射目标的预定区域的至少一部份重叠的区域照射带电粒子射束。