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51. 发明专利

TWI534834B 銅微粒子分散液有权
简体标题：铜微粒子分散液
公开(公告)号：TWI534834B
公开(公告)日：2016-05-21
申请号：TW103116754
申请日：2014-05-12
申请人：日本石原化學股份有限公司 , ISHIHARA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：川戶祐一 , KAWATO, YUICHI , 有村英俊 , ARIMURA, HIDETOSHI , 工藤富雄 , KUDO, TOMIO
IPC分类号： H01B1/02 , H01B5/14 , B05D7/24 , B05D3/06 , B05D3/10 , B05D5/12 , B22F9/00 , B22F3/105 , B22F7/04 , H05K1/09 , H05K3/10
CPC分类号： H05K1/092 , B22F3/008 , B22F7/04 , C09D5/24 , C09D7/40 , C09D7/61 , H01B1/02 , H01B1/22 , H05K1/0386 , H05K1/097 , H05K3/10 , H05K3/105 , H05K3/1216 , H05K3/125 , H05K3/1283 , H05K2201/0302 , H05K2203/0508 , H05K2203/10 , H05K2203/108 , H05K2203/1131 , H05K2203/1476

52. 发明专利

TW201614044A 一種導電線路圖案化的蝕刻劑與利用蝕刻劑進行導電線路圖案化的製程审中-公开
简体标题：一种导电线路图案化的蚀刻剂与利用蚀刻剂进行导电线路图案化的制程
公开(公告)号：TW201614044A
公开(公告)日：2016-04-16
申请号：TW103135563
申请日：2014-10-14
申请人：瑞化股份有限公司 , POLYCHEM UV/EB INTERNATIONAL CORP.
发明人：楊永樹 , YANG, YUNG SHU
IPC分类号： C09K13/00 , C01B11/02 , H01B1/16 , H01B1/02 , H01B5/14 , H01B13/00 , C08J7/12 , G03F7/00 , H01L21/027 , H05K3/00 , H01L21/28 , H01L21/3213 , B05D7/24 , B05D3/10 , B05D5/12
摘要：一種利用含有二氧化氯的蝕刻劑進行透明導電線路圖案化的製程，其製程包括將一含有本質性導電之共軛導電高分子及奈米銀絲(silver nanowires)中之一者之透明的一導電層覆蓋於一底材表面，使用一遮蔽材覆蓋導電層之預定需要導電的一第一區域，使未覆蓋遮蔽材之導電層的一第二區域接觸含有二氧化氯的一氣體及含有二氧化氯的一水性蝕刻劑中之一者，使第二區域的電氣阻抗提高100倍以上至完全不導電而形成一非導電區，以及在非導電區以外的第一區域形成所需的一導電線路。
简体摘要：一种利用含有二氧化氯的蚀刻剂进行透明导电线路图案化的制程，其制程包括将一含有本质性导电之共轭导电高分子及奈米银丝(silver nanowires)中之一者之透明的一导电层覆盖于一底材表面，使用一屏蔽材覆盖导电层之预定需要导电的一第一区域，使未覆盖屏蔽材之导电层的一第二区域接触含有二氧化氯的一气体及含有二氧化氯的一水性蚀刻剂中之一者，使第二区域的电气阻抗提高100倍以上至完全不导电而形成一非导电区，以及在非导电区以外的第一区域形成所需的一导电线路。

53. 发明专利

TW201611659A 表面粗化方法审中-公开
公开(公告)号：TW201611659A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW104110079
申请日：2015-03-27
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：染谷安信 , SOMEYA, YASUNOBU , 坂本力丸 , SAKAMOTO, RIKIMARU , 岸岡高広 , KISHIOKA, TAKAHIRO
IPC分类号： H05B33/10 , H05B33/02 , H01L51/50 , B05D7/24 , B05D3/10
CPC分类号： H01L51/5268 , H01L2251/5369
摘要：本發明係提供一種使基板之表面粗化方法。本發明之表面粗化方法，其係包含如下步驟：第1步驟，其係於基板上或較基板上方之層上塗佈含有無機粒子(a1)與有機樹脂(a2)之組成物(a3)，並進行乾燥與硬化而形成有機樹脂層(A)；第2步驟，其係從該基板之上方進行蝕刻而使同基板之表面進行粗化。前述蝕刻係至少進行1次，其中至少一次的蝕刻係以氧系氣體進行氣體蝕刻或以酸性水溶液進行濕式蝕刻。前述無機粒子(a1)為平均粒徑5~1000nm之金屬氧化物粒子。前述組成物(a3)係含有作為無機粒子(a1)之二氧化矽分散於有機溶劑之二氧化矽溶膠、及有機樹脂(a2)之溶液。前述有機樹脂層(A)係相對於有機樹脂(a2)100質量份以5~50質量份之比率含有無機粒子(a1)。前述組成物(a3)為更含有交聯劑及交聯觸媒。所形成之表面粗化層為LED的光取出層。
简体摘要：本发明系提供一种使基板之表面粗化方法。本发明之表面粗化方法，其系包含如下步骤：第1步骤，其系于基板上或较基板上方之层上涂布含有无机粒子(a1)与有机树脂(a2)之组成物(a3)，并进行干燥与硬化而形成有机树脂层(A)；第2步骤，其系从该基板之上方进行蚀刻而使同基板之表面进行粗化。前述蚀刻系至少进行1次，其中至少一次的蚀刻系以氧系气体进行气体蚀刻或以酸性水溶液进行湿式蚀刻。前述无机粒子(a1)为平均粒径5~1000nm之金属氧化物粒子。前述组成物(a3)系含有作为无机粒子(a1)之二氧化硅分散于有机溶剂之二氧化硅溶胶、及有机树脂(a2)之溶液。前述有机树脂层(A)系相对于有机树脂(a2)100质量份以5~50质量份之比率含有无机粒子(a1)。前述组成物(a3)为更含有交联剂及交联触媒。所形成之表面粗化层为LED的光取出层。

54. 发明专利

TW201527454A 於基板上塗佈老化塗層之方法及適用於該方法中之塗料組合物审中-公开
简体标题：于基板上涂布老化涂层之方法及适用于该方法中之涂料组合物
公开(公告)号：TW201527454A
公开(公告)日：2015-07-16
申请号：TW103142004
申请日：2014-12-03
申请人：安科智諾貝爾塗料國際股份有限公司 , AKZO NOBEL COATINGS INTERNATIONAL B. V.
发明人：瓊絲菲利浦凱西 , JONES, PHILLIP KEITH , 漢布列特保羅詹姆士 , HAMBLETT, PAUL JAMES , 漢米爾頓琳德賽 , HAMILTON, LINDSAY
IPC分类号： C09D5/16 , C08J3/24 , B05D3/10
摘要：本發明係關於一種於基板上塗佈老化塗層之方法及可用於該方法中之塗料組合物。該塗料組合物通常係污著鬆脫塗料組合物，且包含可固化或可交聯有機矽氧烷聚合物、有機鉍化合物及矽烷偶合劑。
简体摘要：本发明系关于一种于基板上涂布老化涂层之方法及可用于该方法中之涂料组合物。该涂料组合物通常系污着松脱涂料组合物，且包含可固化或可交联有机硅氧烷聚合物、有机铋化合物及硅烷偶合剂。

55. 发明专利

TW201515723A 濕式鍍膜方法审中-公开
简体标题：湿式镀膜方法
公开(公告)号：TW201515723A
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW102138921
申请日：2013-10-28
申请人：國立成功大學 , NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY
发明人：洪昭南 , HONG, CHAUNAN , 葉俊嘉 , YEH, CHUNCHIA , 徐祥恩 , HSU, HSIANGEN , 李可風 , LI, KEFONG , 顏群哲 , YAN, CYUNJHE , 蔣崇聖 , CHIANG, CHUNGSHENG , 鄭郁陵 , CHENG, YULING
IPC分类号： B05D3/10
CPC分类号： B05D3/148 , B05D1/62 , B05D3/142 , B05D3/147 , C23C18/1216
摘要：一種濕式鍍膜方法，其包含下列步驟。利用一濕式製程施加一薄膜塗料於一基板之至少一表面上。對此薄膜塗料進行一電漿輔助填補處理，以使此薄膜塗料長晶而形成一薄膜。電漿輔助填補處理包含使用一填補塗料。
简体摘要：一种湿式镀膜方法，其包含下列步骤。利用一湿式制程施加一薄膜涂料于一基板之至少一表面上。对此薄膜涂料进行一等离子辅助填补处理，以使此薄膜涂料长晶而形成一薄膜。等离子辅助填补处理包含使用一填补涂料。

56. 发明专利

TW201510121A 塗裝鋼板用基底處理組成物、以及經基底處理之鍍敷鋼板及其製造方法、塗裝鍍敷鋼板及其製造方法审中-公开
简体标题：涂装钢板用基底处理组成物、以及经基底处理之镀敷钢板及其制造方法、涂装镀敷钢板及其制造方法
公开(公告)号：TW201510121A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：TW103114369
申请日：2014-04-21
申请人：日本派克乃成股份有限公司 , NIHON PARKERIZING CO., LTD. , 日鐵住金鋼板股份有限公司 , NIPPON STEEL & SUMIKIN COATED SHEET CORPORATION
发明人：山本茂樹 , YAMAMOTO, SHIGEKI , 豬古智洋 , IKO, TOMOHIRO , 工藤英介 , KUDO, EISUKE , 野村廣正 , NOMURA, HIROMASA , 及川廣行 , OYOKAWA, HIROYUKI
IPC分类号： C09D175/04 , C09D7/12 , B32B15/095 , C23C2/06 , C23C2/12 , C23C2/26 , C23C22/44 , B05D3/02 , B05D3/10 , B05D7/14
CPC分类号： C09D5/084 , B05D1/40 , B05D3/0413 , B05D7/586 , C08K3/16 , C09D7/61 , C09D175/04 , C23C22/44 , C23C2222/20
摘要：本發明提供塗裝鋼板用水系基底處理組成物，使其形成一即便不含鉻，在擔保充分的加工密著之同時，賦予優異的耐屋簷下耐蝕性的基底處理層。在含有特定有機矽化合物、六氟金屬酸、具有特定陽離子性基之胺甲酸乙酯樹脂、釩化合物及水性介質的基底處理組成物中，藉由具有胺甲酸乙酯樹脂之陽離子性基及總胺價為特定之值，可獲得一在擔保充分加工密著性之同時，賦予優異耐屋簷下耐蝕性的基底處理層。
简体摘要：本发明提供涂装钢板用水系基底处理组成物，使其形成一即便不含铬，在担保充分的加工密着之同时，赋予优异的耐屋檐下耐蚀性的基底处理层。在含有特定有机硅化合物、六氟金属酸、具有特定阳离子性基之胺甲酸乙酯树脂、钒化合物及水性介质的基底处理组成物中，借由具有胺甲酸乙酯树脂之阳离子性基及总胺价为特定之值，可获得一在担保充分加工密着性之同时，赋予优异耐屋檐下耐蚀性的基底处理层。

57. 发明专利

TWI473665B 表面處理組成物及經表面處理之鋼板有权
简体标题：表面处理组成物及经表面处理之钢板
公开(公告)号：TWI473665B
公开(公告)日：2015-02-21
申请号：TW099140816
申请日：2010-11-25
申请人： JFE鋼鐵股份有限公司 , JFE STEEL CORPORATION
发明人：金子里江 , KANEKO, RIE , 藤林亘江 , FUJIBAYASHI, NOBUE , 窪田隆廣 , KUBOTA, TAKAHIRO , 中野多佳士 , NAKANO, TAKASHI , 阿久井潤 , AKUI, JUN
IPC分类号： B05D3/02 , B05D3/10 , B05D7/14 , B05D7/24 , B32B15/08 , C23C22/08 , C23C22/83 , C23C30/00 , C09D201/02
CPC分类号： C23C22/68 , B32B15/08 , B32B2419/00 , B32B2509/00 , B32B2605/08 , C09D5/084 , C23C2222/20

58. 发明专利

TW201443282A 鎂合金化成方法失效
简体标题：镁合金化成方法
公开(公告)号：TW201443282A
公开(公告)日：2014-11-16
申请号：TW102109458
申请日：2013-03-18
申请人：鴻準精密工業股份有限公司 , FOXCONN TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：陳浩偉 , CHEN, HAO-WEI , 李午斌 , LI, WU-BIN , 高永輝 , GAO, YONG-HUI , 錢崑 , QIAN, KUN
IPC分类号： C23C22/07 , C23C22/42 , C23C22/47 , C23C22/78 , B05D3/10
CPC分类号： C23C22/42 , C23C22/80 , C23G1/00 , C23G1/12 , C23G1/22
摘要：一種鎂合金化成方法，其包括以下步驟：提供一鎂合金工件；使用脫脂溶液對該鎂合金工件脫脂；使用酸洗溶液對該鎂合金工件第一次酸洗；使用表面調整溶液對該鎂合金工件第一次表面調整；使用酸洗溶液對該鎂合金工件第二次酸洗；使用表面調整溶液對該鎂合金工件第二次表面調整；使用預成膜溶液對該鎂合金工件預成膜，以中和在該鎂合金工件表面殘留之表面調整溶液；及使用化成溶液對該鎂合金工件化學成膜，以在該鎂合金工件表面形成磷化膜。
简体摘要：一种镁合金化成方法，其包括以下步骤：提供一镁合金工件；使用脱脂溶液对该镁合金工件脱脂；使用酸洗溶液对该镁合金工件第一次酸洗；使用表面调整溶液对该镁合金工件第一次表面调整；使用酸洗溶液对该镁合金工件第二次酸洗；使用表面调整溶液对该镁合金工件第二次表面调整；使用预成膜溶液对该镁合金工件预成膜，以中和在该镁合金工件表面残留之表面调整溶液；及使用化成溶液对该镁合金工件化学成膜，以在该镁合金工件表面形成磷化膜。

59. 发明专利

TW201410336A 圖案形成方法、圖案形成裝置及電腦可讀取記憶媒體审中-公开
简体标题：图案形成方法、图案形成设备及电脑可读取记忆媒体
公开(公告)号：TW201410336A
公开(公告)日：2014-03-16
申请号：TW102111688
申请日：2013-04-01
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：村松誠 , MURAMATSU, MAKOTO , 北野高廣 , KITANO, TAKAHIRO , 富田忠利 , TOMITA, TADATOSHI , 田內啓士 , TANOUCHI, KEIJI
IPC分类号： B05D7/24 , B05D3/06 , B05D3/10 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/40 , B81C1/00031 , B81C2201/0149 , G03F7/0002 , G03F7/2002 , G03F7/405 , H01L21/0271 , H01L21/0337 , H01L21/31133 , H01L21/67109 , H01L21/67115 , H01L21/6715 , H01L21/67178
摘要：本發明旨在提供一種圖案形成方法、圖案形成裝置及電腦可讀取記憶媒體，可提升嵌段共聚物中A聚合物區域與B聚合物區域相對於有機溶劑之溶解度比。其中藉由包含下列步驟之圖案形成方法達成上述課題：於基板形成包含至少2種類之聚合物的嵌段共聚物膜；加熱該嵌段共聚物膜；在惰性氣體氛圍下對經加熱之該嵌段共聚物膜照射紫外線；及對經照射紫外線之該嵌段共聚物膜供給有機溶劑。
简体摘要：本发明旨在提供一种图案形成方法、图案形成设备及电脑可读取记忆媒体，可提升嵌段共聚物中A聚合物区域与B聚合物区域相对于有机溶剂之溶解度比。其中借由包含下列步骤之图案形成方法达成上述课题：于基板形成包含至少2种类之聚合物的嵌段共聚物膜；加热该嵌段共聚物膜；在惰性气体氛围下对经加热之该嵌段共聚物膜照射紫外线；及对经照射紫外线之该嵌段共聚物膜供给有机溶剂。

60. 发明专利

TWI693228B 化學穩定之烷基鋁溶液、烷基鋁水解組合物溶液、鋁氧化物膜塗布形成用組合物、具有鋁氧化物膜之物品、其製造方法、氧化鋁薄膜之製造方法、鈍化膜之製造方法、鈍化膜、使用其之太陽電池元件有权
简体标题：化学稳定之烷基铝溶液、烷基铝水解组合物溶液、铝氧化物膜涂布形成用组合物、具有铝氧化物膜之物品、其制造方法、氧化铝薄膜之制造方法、钝化膜之制造方法、钝化膜、使用其之太阳电池组件
公开(公告)号：TWI693228B
公开(公告)日：2020-05-11
申请号：TW104127392
申请日：2015-08-21
申请人：日商東曹精細化學股份有限公司 , TOSOH FINECHEM CORPORATION
发明人：豊田浩司 , TOYOTA, KOJI , 稲葉孝一郎 , INABA, KOICHIRO , 富安靜夫 , TOMIYASU, SHIZUO , 中俊雄 , NAKA, TOSHIO , 羽賀健一 , HAGA, KENICHI , 宮島晋介 , MIYAJIMA, SHINSUKE
IPC分类号： C07F5/06 , C01F7/02 , B05D3/10 , B32B9/00 , H01L21/316 , H01L31/042

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