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41. 发明专利

TW201341704A 氣體供給裝置审中-公开
简体标题：气体供给设备
公开(公告)号：TW201341704A
公开(公告)日：2013-10-16
申请号：TW101135867
申请日：2012-09-28
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：廣瀨隆 , HIROSE, TAKASHI , 山路道雄 , YAMAJI, MICHIO
IPC分类号： F17D1/04 , F17D3/01 , C23C16/455 , H01L21/205
CPC分类号： F16K27/003 , Y10T137/4259 , Y10T137/86485 , Y10T137/86493 , Y10T137/87885
摘要：本發明，係謀求氣體供給管線和氣體裝置之更進一步的小型化，並且使各機器類之維護管理能夠更為容易地進行。本發明，係為藉由氣體入口側區塊和氣體出口側區塊以及複數之流體控制機器而形成有供給管線之供給裝置，其特徵為：在前述氣體供給裝置處，係至少被形成有2個的氣體供給管線，各氣體供給管線之前述流體控制機器，係包含有至少1個的流量控制器，對於前述入口側區塊，而將其中一方之氣體供給管線的流量控制器之入口側區塊與另外一方之氣體供給管線的流量控制器之入口側區塊以對向狀來作連接，對於前述氣體出口側區塊，而將其中一方之流量控制器的出口側區塊與另外一方之流量控制器的出口側區塊以對向狀來作連接。
简体摘要：本发明，系谋求气体供给管线和气体设备之更进一步的小型化，并且使各机器类之维护管理能够更为容易地进行。本发明，系为借由气体入口侧区块和气体出口侧区块以及复数之流体控制机器而形成有供给管线之供给设备，其特征为：在前述气体供给设备处，系至少被形成有2个的气体供给管线，各气体供给管线之前述流体控制机器，系包含有至少1个的流量控制器，对于前述入口侧区块，而将其中一方之气体供给管线的流量控制器之入口侧区块与另外一方之气体供给管线的流量控制器之入口侧区块以对向状来作连接，对于前述气体出口侧区块，而将其中一方之流量控制器的出口侧区块与另外一方之流量控制器的出口侧区块以对向状来作连接。

42. 发明专利

TW201303196A 氣體減壓供應裝置、具備其之壓缸櫃、閥箱及基板處理裝置，以及氣體減壓供應方法审中-公开
简体标题：气体减压供应设备、具备其之压缸柜、阀箱及基板处理设备，以及气体减压供应方法
公开(公告)号：TW201303196A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：TW101106870
申请日：2012-03-02
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：岡部庸之 , OKABE, TSUNEYUKI
IPC分类号： F17D1/04 , F17C1/00 , F16K1/30
CPC分类号： H01L21/67253 , C23C16/45557 , C23C16/45561 , H01L21/67017 , Y02E60/321 , Y02E60/34 , Y10T137/0396 , Y10T137/2599 , Y10T137/7039 , Y10T137/7043 , Y10T137/776 , Y10T137/7761 , Y10T137/7762
摘要：本發明提供一種以低於大氣壓之製程壓力來進行製程而對腔室供應氣體之氣體減壓供應裝置。該氣體減壓供應裝置具備有：壓力調整器，係將一次壓減壓，而將二次壓調整成低於大氣壓但高於製程壓力之壓力；壓力測量器，係測量壓力調整器之二次側配管內的壓力；第1開閉閥，係設置於二次側配管；開閉閥控制器，係開閉第1開閉閥；壓力比較器，係將藉由壓力測量器所測量的二次側配管內壓力與第1設定壓力相比較；以及控制部，係當壓力比較器判斷二次側配管內的壓力為第1設定壓力以下時，會向開閉閥控制器輸出關閉第1開閉閥之關閉訊號。
简体摘要：本发明提供一种以低于大气压之制程压力来进行制程而对腔室供应气体之气体减压供应设备。该气体减压供应设备具备有：压力调整器，系将一次压减压，而将二次压调整成低于大气压但高于制程压力之压力；压力测量器，系测量压力调整器之二次侧配管内的压力；第1开闭阀，系设置于二次侧配管；开闭阀控制器，系开闭第1开闭阀；压力比较器，系将借由压力测量器所测量的二次侧配管内压力与第1设置压力相比较；以及控制部，系当压力比较器判断二次侧配管内的压力为第1设置压力以下时，会向开闭阀控制器输出关闭第1开闭阀之关闭信号。

43. 实用新型

TWM571367U 鋼瓶置放移動平台有权
简体标题：钢瓶置放移动平台
公开(公告)号：TWM571367U
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：TW107212745
申请日：2018-09-19
申请人：佳具精密股份有限公司
发明人：陳鴻松
IPC分类号： B65G25/04 , B65G47/24 , B65G47/22 , F17D1/04

44. 发明专利

TWI641832B 水質分析儀器有权
简体标题：水质分析仪器
公开(公告)号：TWI641832B
公开(公告)日：2018-11-21
申请号：TW106100693
申请日：2017-01-10
申请人：總翔企業股份有限公司 , ANATEK ENTERPRISE CO., LTD.
发明人：陳又銘 , CHEN, YU-MING
IPC分类号： G01N33/18 , B01D35/01 , F17D1/04 , F17D3/01 , F26B21/00

45. 发明专利

TW201840948A 用於提供均勻氣流之氣體分配設備與處理腔室审中-公开
简体标题：用于提供均匀气流之气体分配设备与处理腔室
公开(公告)号：TW201840948A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107112516
申请日：2012-10-19
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：尤都史凱約瑟夫 , YUDOVSKY,JOSEPH , 張鎂 , CHANG,MEI , 甘戈法如克 , GUNGOR,FARUK , 馬伯方 , MA,PAUL F. , 朱聿達 , CHU,DAVID , 高建德 , KAO,CHIEN-TEH , 林偉雄 , LAM,HYMAN , 吳典曄 , WU,DIEN-YEH
IPC分类号： F17D1/04 , C23C16/455
摘要：提供了一種具有輸送通道的氣體分配設備，其中輸送通道具有一入口端、一出口端與沿著長度而分隔之複數個縫隙。入口端係可連接至一惰性氣體源，且出口端係可連接於一真空源。同時提供了一種具有螺旋輸送通道、互相纏繞之螺旋輸送通道、分流之輸送通道、匯合之輸送通道、以及成形之輸送通道的氣體分配設備，其中入口端與出口端係配置以使氣體在輸送通道內快速交換。
简体摘要：提供了一种具有输送信道的气体分配设备，其中输送信道具有一入口端、一出口端与沿着长度而分隔之复数个缝隙。入口端系可连接至一惰性气体源，且出口端系可连接于一真空源。同时提供了一种具有螺旋输送信道、互相缠绕之螺旋输送信道、分流之输送信道、汇合之输送信道、以及成形之输送信道的气体分配设备，其中入口端与出口端系配置以使气体在输送信道内快速交换。

46. 发明专利

TW201831818A 用於處理腔室的氣體分配設備审中-公开
简体标题：用于处理腔室的气体分配设备
公开(公告)号：TW201831818A
公开(公告)日：2018-09-01
申请号：TW107102612
申请日：2018-01-25
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：督波斯道爾R , DU BOIS, DALE R. , 祝基恩N , CHUC, KIEN N. , 加納基拉曼卡希克 , JANAKIRAMAN, KARTHIK
IPC分类号： F17D1/04 , C23C16/455
摘要：本文所說明的實施例一般而言相關於用於在基板上沈積材料的設備與方法。在一個實施例中，用於處理基板的處理腔室包含腔室主體與基板支座，基板支座設置在腔室主體中且經適配以支撐基板。處理腔室包含定位在基板支座上方的複數個氣體入口，以在基板支座上方引導處理氣體。可移動式擴散器被經由樞轉架座可樞轉地安裝為鄰接基板支座。可移動式擴散器包含沈積頭，沈積頭具有複數個入口開口與複數個排氣開口，複數個入口開口用於將處理氣體導向基板支座，複數個排氣開口用於對可移動式擴散器設置在基板支座上方的處理氣體提供排氣。
简体摘要：本文所说明的实施例一般而言相关于用于在基板上沉积材料的设备与方法。在一个实施例中，用于处理基板的处理腔室包含腔室主体与基板支座，基板支座设置在腔室主体中且经适配以支撑基板。处理腔室包含定位在基板支座上方的复数个气体入口，以在基板支座上方引导处理气体。可移动式扩散器被经由枢转架座可枢转地安装为邻接基板支座。可移动式扩散器包含沉积头，沉积头具有复数个入口开口与复数个排气开口，复数个入口开口用于将处理气体导向基板支座，复数个排气开口用于对可移动式扩散器设置在基板支座上方的处理气体提供排气。

47. 发明专利

TWI627368B 用於提供均勻氣流之氣體分配設備與處理腔室有权
简体标题：用于提供均匀气流之气体分配设备与处理腔室
公开(公告)号：TWI627368B
公开(公告)日：2018-06-21
申请号：TW106126029
申请日：2012-10-19
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：尤都史凱約瑟夫 , YUDOVSKY,JOSEPH , 張鎂 , CHANG,MEI , 甘戈法如克 , GUNGOR,FARUK , 馬伯方 , MA,PAUL F. , 朱聿達 , CHU,DAVID , 高建德 , KAO,CHIEN-TEH , 林偉雄 , LAM,HYMAN , 吳典曄 , WU,DIEN-YEH
IPC分类号： F17D1/04 , C23C16/455

48. 发明专利

TWI626392B 大量供氣的供氣方法有权
简体标题：大量供气的供气方法
公开(公告)号：TWI626392B
公开(公告)日：2018-06-11
申请号：TW106135903
申请日：2017-10-19
申请人：詹益政
发明人：詹益政
IPC分类号： F17D1/04 , F17D3/01 , F17C13/04

49. 实用新型

TWM558318U 用於曲軸箱的減壓裝置有权
简体标题：用于曲轴箱的减压设备
公开(公告)号：TWM558318U
公开(公告)日：2018-04-11
申请号：TW106215662
申请日：2017-10-24
申请人：明莧科技有限公司 , MTTEK CO.,LTD
发明人：陳宗明
IPC分类号： F17D1/04 , F17D3/01

50. 发明专利

TWI517280B 半導體製造設備用之氣體供應設備有权
简体标题：半导体制造设备用之气体供应设备
公开(公告)号：TWI517280B
公开(公告)日：2016-01-11
申请号：TW100113913
申请日：2011-04-21
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：岡部庸之 , OKABE, TSUNEYUKI
IPC分类号： H01L21/67 , C23C16/455 , F17D1/04
CPC分类号： C23C16/52 , C23C16/00 , C23C16/45561 , G05D7/0617 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761 , Y10T137/85938 , Y10T137/87249

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