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热词
    • 41. 发明专利
    • 多晶矽晶塊的製造方法
    • 多晶硅晶块的制造方法
    • TW201402885A
    • 2014-01-16
    • TW101124418
    • 2012-07-06
    • 茂迪股份有限公司
    • 何鎧安周建綱
    • C30B28/06C30B29/06
    • C01B33/021C30B11/003C30B29/06
    • 一種多晶矽晶塊的製造方法,包含:(A)準備一裝有矽熔湯的容器,保持該矽熔湯表面溫度高於矽熔點,並將該容器的底部溫度自一初始溫度降溫至一第一溫度,而且本步驟的降溫速率大於或等於2.6℃/分鐘。(B)將該容器的底部溫度升溫至一個小於該初始溫度的第二溫度,接著再進行一次降溫與一次升溫,本步驟的降溫速率大於或等於2.6℃/分鐘。(C)降溫以形成多晶矽晶塊。本發明透過至少兩次的快速降溫與兩次的升溫,利用溫度反覆變化以成長出樹枝晶結構,可得到較大的晶粒尺寸,使成長出的多晶矽晶塊具有較佳的結晶性。
    • 一种多晶硅晶块的制造方法,包含:(A)准备一装有硅熔汤的容器,保持该硅熔汤表面温度高于硅熔点,并将该容器的底部温度自一初始温度降温至一第一温度,而且本步骤的降温速率大于或等于2.6℃/分钟。(B)将该容器的底部温度升温至一个小于该初始温度的第二温度,接着再进行一次降温与一次升温,本步骤的降温速率大于或等于2.6℃/分钟。(C)降温以形成多晶硅晶块。本发明透过至少两次的快速降温与两次的升温,利用温度反复变化以成长出树枝晶结构,可得到较大的晶粒尺寸,使成长出的多晶硅晶块具有较佳的结晶性。
    • 42. 发明专利
    • 多晶矽及其鑄造方法
    • 多晶硅及其铸造方法
    • TW201341602A
    • 2013-10-16
    • TW102110404
    • 2013-03-25
    • 勝高股份有限公司SUMCO CORPORATION
    • 八木大地YAGI, DAICHI安部貴裕ABE, TAKAHIRO
    • C30B29/06C30B28/06
    • C30B28/10C30B11/001C30B11/065C30B29/06C30B30/04H01L31/182Y02E10/546Y02P70/521
    • 本發明提供一種適合於具有高的轉換效率的太陽電池的多晶矽及其鑄造方法。本發明的多晶矽的鑄造方法是在腔室的感應線圈內,將軸方向的至少一部分在周面方向分割成多個,並配置在內表面塗佈了含有氮的脫模材料的無底的無底冷卻坩堝,藉由上述感應線圈所產生的電磁感應加熱,而在上述無底冷卻坩堝內將多晶矽的原料熔融,將所得的熔融矽冷卻使其凝固,並且向下方拉抽,且上述經凝固的熔融矽的拉抽是在該熔融矽中的碳濃度調整為4.0×1017 atoms/cm3以上、6.0×1017 atoms/cm3以下,氧濃度調整為0.3×1017 atoms/cm3以上、5.0×1017 atoms/cm3以下,且氮濃度調整為8.0×1013 atoms/cm3以上、1.0×1018 atoms/cm3以下的情況下進行。
    • 本发明提供一种适合于具有高的转换效率的太阳电池的多晶硅及其铸造方法。本发明的多晶硅的铸造方法是在腔室的感应线圈内,将轴方向的至少一部分在周面方向分割成多个,并配置在内表面涂布了含有氮的脱模材料的无底的无底冷却坩埚,借由上述感应线圈所产生的电磁感应加热,而在上述无底冷却坩埚内将多晶硅的原料熔融,将所得的熔融硅冷却使其凝固,并且向下方拉抽,且上述经凝固的熔融硅的拉抽是在该熔融硅中的碳浓度调整为4.0×1017 atoms/cm3以上、6.0×1017 atoms/cm3以下,氧浓度调整为0.3×1017 atoms/cm3以上、5.0×1017 atoms/cm3以下,且氮浓度调整为8.0×1013 atoms/cm3以上、1.0×1018 atoms/cm3以下的情况下进行。