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    • 41. 发明专利
    • 微透鏡製造方法 METHOD FOR FABRICATING MICROLENSES AND PROCESS OF SINGLE PHOTOMASK PATTERN-BASED PHOTOLITHOGRAPHY
    • 微透镜制造方法 METHOD FOR FABRICATING MICROLENSES AND PROCESS OF SINGLE PHOTOMASK PATTERN-BASED PHOTOLITHOGRAPHY
    • TW200944859A
    • 2009-11-01
    • TW097115631
    • 2008-04-29
    • 國立臺灣大學
    • 蘇國棟謝欣達
    • G02BH01L
    • B29D11/00365G02B3/0018G03F7/0005
    • 一種微透鏡製造方法以及以單一光罩圖形搭配光蝕刻微影技術,係提供基板並於基板表面形成複數個微型洞結構(Micro-holes)結構,再於各微型洞結構中置入透鏡材料,接著加熱各透鏡材料進而使其熱融(Reflow)而成複數個透鏡單元。該微型洞結構係用以界定該透競材料熱融成透鏡單元之邊界(Boundary Of Lens),進而避免傳統微透鏡製造方法中,因加熱過度而使兩相鄰的透鏡單元熱融接合之問題。該以單一光罩圖形搭配光蝕刻微影技術則係利用負光阻與正光阻分別建立微型洞結構與透鏡材料,進而將本發明有效率應用於現代化製程之微透鏡製造方法。
    • 一种微透镜制造方法以及以单一光罩图形搭配光蚀刻微影技术,系提供基板并于基板表面形成复数个微型洞结构(Micro-holes)结构,再于各微型洞结构中置入透镜材料,接着加热各透镜材料进而使其热融(Reflow)而成复数个透镜单元。该微型洞结构系用以界定该透竞材料热融成透镜单元之边界(Boundary Of Lens),进而避免传统微透镜制造方法中,因加热过度而使两相邻的透镜单元热融接合之问题。该以单一光罩图形搭配光蚀刻微影技术则系利用负光阻与正光阻分别创建微型洞结构与透镜材料,进而将本发明有效率应用于现代化制程之微透镜制造方法。
    • 43. 发明专利
    • 微透鏡陣列及其製造方法 MICRO LENS ARRAY AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
    • 微透镜数组及其制造方法 MICRO LENS ARRAY AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
    • TWI281561B
    • 2007-05-21
    • TW092129088
    • 2003-10-21
    • 日進鑽石股份有限公司 ILJIN DIAMOND CO., LTD.
    • 全泓彬 JEON, HONG-BIN
    • G02F
    • G02B3/0018G02F1/133526
    • 本發明是有關於一種應用於液晶投影機之液晶顯示面板及其製造方法。本發明之方法包括下列步驟:一第一步驟在一第一透明基板上形成連貫的多數個光阻圖案,其中光阻圖案係以預定間隔分離開來;一第二步驟,蝕刻光阻圖案之間之預定間隔,以在第一透明基板之一上部形成具有預定尺寸之多數個溝槽;一第三步驟,移除位於第一透明基板之上部的雜質以及光阻圖案;以及一第四步驟,利用一直接接合方法,將一第二透明基板與第一透明基板之上部結合在一起。其中,第一透明基板以及第二透明基板之材質相同。
    • 本发明是有关于一种应用于液晶投影机之液晶显示皮肤及其制造方法。本发明之方法包括下列步骤:一第一步骤在一第一透明基板上形成连贯的多数个光阻图案,其中光阻图案系以预定间隔分离开来;一第二步骤,蚀刻光阻图案之间之预定间隔,以在第一透明基板之一上部形成具有预定尺寸之多数个沟槽;一第三步骤,移除位于第一透明基板之上部的杂质以及光阻图案;以及一第四步骤,利用一直接接合方法,将一第二透明基板与第一透明基板之上部结合在一起。其中,第一透明基板以及第二透明基板之材质相同。