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41. 发明专利

TWI670389B 允許低壓汰換工具之原子層沉積處理腔室及具有其之處理系統有权
简体标题：允许低压汰换工具之原子层沉积处理腔室及具有其之处理系统
公开(公告)号：TWI670389B
公开(公告)日：2019-09-01
申请号：TW104101825
申请日：2015-01-20
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：栗田真一 , KURITA, SHINICHI , 庫達喬瑟 , KUDELA, JOZEF , 懷特約翰 , WHITE, JOHN M. , 海斯戴德 , HAAS, DIETER
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/54 , H01L51/50

42. 发明专利

TWI647780B 基板載體系統及應用其之方法有权
简体标题：基板载体系统及应用其之方法
公开(公告)号：TWI647780B
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：TW104111861
申请日：2015-04-14
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：王作乾 , WANG, ZUOQIAN , 懷特約翰 , WHITE, JOHN M.
IPC分类号： H01L21/677

43. 发明专利

TW201841294A 用以於一真空處理系統中裝載一基板之設備、用以處理一基板之系統、及用以裝載一基板之方法审中-公开
简体标题：用以于一真空处理系统中装载一基板之设备、用以处理一基板之系统、及用以装载一基板之方法
公开(公告)号：TW201841294A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107109330
申请日：2018-03-19
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：懷特約翰 , WHITE, JOHN M. , 文森特約瑟夫 , VINCENT, JOSEPH , 林登博克雷波 , LINDENBERG, RALPH
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/203
摘要：一種用以於一真空處理系統(100)中裝載一基板之設備(140)係說明。設備(140)包括一第一支承件(142)，用以支承一基板(10)；以及一第二支承件(144)，用以支承基板(10)，第二支承件與第一支承件(142)垂直地堆疊。
简体摘要：一种用以于一真空处理系统(100)中装载一基板之设备(140)系说明。设备(140)包括一第一支承件(142)，用以支承一基板(10)；以及一第二支承件(144)，用以支承基板(10)，第二支承件与第一支承件(142)垂直地堆栈。

44. 发明专利

TWI641066B 允許低壓汰換工具之薄膜封裝處理系統及製程套組有权
简体标题：允许低压汰换工具之薄膜封装处理系统及制程套组
公开(公告)号：TWI641066B
公开(公告)日：2018-11-11
申请号：TW104101824
申请日：2015-01-20
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：栗田真一 , KURITA, SHINICHI , 庫達喬瑟 , KUDELA, JOZEF , 懷特約翰 , WHITE, JOHN M. , 海斯戴德 , HAAS, DIETER
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/677

45. 发明专利

TW201823613A 具有可膨脹密封件之真空腔室审中-公开
简体标题：具有可膨胀密封件之真空腔室
公开(公告)号：TW201823613A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW106128156
申请日：2017-08-18
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：懷特約翰 , WHITE, JOHN M.
IPC分类号： F16K1/46 , F16K51/02 , H01L21/67
摘要：本文描述具有數個可膨脹的狹縫閥開口之密封件的真空腔室。在一示例中，一真空腔室包含一腔室主體、一第一可膨脹密封件及一第一狹縫閥門。腔室主體具有一頂部、一底部及數個側壁。一第一狹縫閥開口形成在該些側壁中。第一可膨脹密封件密封地連接至該些側壁中的一者並外接第一狹縫閥開口。第一可膨脹密封件具有耦接至該些側壁中的一者的一基部及可相對於基部側向移動的一中空管狀部。第一狹縫閥門可移動於該第一狹縫閥門接觸第一可膨脹密封件以在第一狹縫閥門與腔室主體之間提供一真空密封的一關閉狀態與使第一狹縫閥門脫離該第一狹縫閥開口的一開啟狀態之間。
简体摘要：本文描述具有数个可膨胀的狭缝阀开口之密封件的真空腔室。在一示例中，一真空腔室包含一腔室主体、一第一可膨胀密封件及一第一狭缝阀门。腔室主体具有一顶部、一底部及数个侧壁。一第一狭缝阀开口形成在该些侧壁中。第一可膨胀密封件密封地连接至该些侧壁中的一者并外置第一狭缝阀开口。第一可膨胀密封件具有耦接至该些侧壁中的一者的一基部及可相对于基部侧向移动的一中空管状部。第一狭缝阀门可移动于该第一狭缝阀门接触第一可膨胀密封件以在第一狭缝阀门与腔室主体之间提供一真空密封的一关闭状态与使第一狭缝阀门脱离该第一狭缝阀开口的一打开状态之间。

46. 发明专利

TW201742950A 溫度控制系統及應用其之用以處理基板之系統及對應之控制基板支撐件組件之溫度的方法审中-公开
简体标题：温度控制系统及应用其之用以处理基板之系统及对应之控制基板支撑件组件之温度的方法
公开(公告)号：TW201742950A
公开(公告)日：2017-12-16
申请号：TW106113742
申请日：2017-04-25
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：懷特約翰 , WHITE, JOHN M.
IPC分类号： C23C16/46 , C23C16/52 , C23C16/513
CPC分类号： G06F1/20 , G05B15/02 , G05D7/0676 , G05D23/1393 , H01L21/67103
摘要：此處所述實施例一般有關於用於基板處理系統中之基板支撐件組件之溫度控制系統。於實施例中，溫度控制系統係於此揭露。溫度控制系統包括遠端流體源及主機系統。遠端流體源具有第一儲器及第二儲器。主機系統包括第一流體迴路、第二流體迴路及第一比例閥。第一流體迴路耦接於第一儲器，及裝配以接收來自第一儲器之第一流體。第二流體迴路耦接於第二儲器，及裝配以接收來自第二儲器之第二流體。第一比例閥具有第一入口及第二入口，第一入口連通於第一流體迴路，第二入口連通於第二流體迴路。第一比例閥具有出口，裝配以讓第三流體流動。
简体摘要：此处所述实施例一般有关于用于基板处理系统中之基板支撑件组件之温度控制系统。于实施例中，温度控制系统系于此揭露。温度控制系统包括远程流体源及主机系统。远程流体源具有第一储器及第二储器。主机系统包括第一流体回路、第二流体回路及第一比例阀。第一流体回路耦接于第一储器，及装配以接收来自第一储器之第一流体。第二流体回路耦接于第二储器，及装配以接收来自第二储器之第二流体。第一比例阀具有第一入口及第二入口，第一入口连通于第一流体回路，第二入口连通于第二流体回路。第一比例阀具有出口，装配以让第三流体流动。

47. 发明专利

TWI579406B 遮蔽框及對應之基板支座、與具有此二者的電漿輔助化學氣相沉積裝置有权
简体标题：屏蔽框及对应之基板支座、与具有此二者的等离子辅助化学气相沉积设备
公开(公告)号：TWI579406B
公开(公告)日：2017-04-21
申请号：TW102106253
申请日：2013-02-22
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：古田學 , FURUTA, GAKU , 懷特約翰 , WHITE, JOHN M. , 栗田真一 , KURITA, SHINICHI , 崔壽永 , CHOI, SOO YOUNG , 安華蘇海 , ANWAR, SUHAIL , 廷訥羅賓 , TINER, ROBIN L.
IPC分类号： C23C16/54
CPC分类号： C23C16/458 , C23C16/4585 , H01J37/32559 , H01J37/32577 , H01J37/32715

48. 实用新型

TWM534436U 框架、組合式基板下罩框及處理腔室有权
简体标题：框架、组合式基板下罩框及处理腔室
公开(公告)号：TWM534436U
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：TW104217922
申请日：2015-11-09
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：李東碩 , LEE, DONGSUH , 廷訥羅賓 , TINER, ROBIN L. , 懷特約翰 , WHITE, JOHN M. , 史德林威廉羅門 , STERLING, WILLIAM NORMAN , 崔壽永 , CHOI, SOO YOUNG , 趙來 , ZHAO, LAI , 王大鵬 , WANG, DAPENG , 古田學 , FURUTA, GAKU
IPC分类号： H01L27/32

49. 发明专利

TWI550123B 在直線型大面積的電漿反應器均勻處理的氣體輸送和分配系統及其處理腔室有权
简体标题：在直线型大面积的等离子反应器均匀处理的气体输送和分配系统及其处理腔室
公开(公告)号：TWI550123B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：TW101132105
申请日：2012-09-04
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：懷特約翰 , WHITE, JOHN M. , 安華蘇海 , ANWAR, SUHAIL , 庫達喬瑟 , KUDELA, JOZEF , 蘇倫珊卡爾 , SORENSEN, CARL A. , 元泰景 , WON, TAE KYUNG , 卓尚美 , CHO, SEON-MEE , 崔秀英 , CHOI, SOO YOUNG , 朴範洙 , PARK, BEOM SOO , 約翰史東班哲明 , JOHNSTON, BENJAMIN M. , 范明斯 , PHAM, VINCE
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/50 , H01J37/32
CPC分类号： C23C16/455 , C23C16/45578 , C23C16/4587 , C23C16/511 , C23C16/513 , C23C16/54

50. 发明专利

TW201622055A 利用磁性夾持件之處理系統、基板載體與方法审中-公开
简体标题：利用磁性夹持件之处理系统、基板载体与方法
公开(公告)号：TW201622055A
公开(公告)日：2016-06-16
申请号：TW104120417
申请日：2015-06-25
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：凡薩錫托瑪索 , VERCESI, TOMMASO , 王作乾 , WANG, ZUOQIAN , 懷特約翰 , WHITE, JOHN M.
IPC分类号： H01L21/683
CPC分类号： H01L21/6831 , H01J37/32366 , H01J37/32715 , H01L21/682 , H01L51/0011
摘要：一種用以夾持一遮罩至一基板之處理系統係提供。處理系統包括一處理腔室及設置於處理腔室內的一磁性夾持件。磁性夾持件包括一夾持表面、一或多個旋轉機構、及相對於夾持表面定向於一或多個海爾貝克陣列中數個磁鐵。各磁鐵具有一北極，定向四方向之其中一者。此一或多個旋轉機構係耦接以改變此些磁鐵之至少一者的北極之方向。
简体摘要：一种用以夹持一遮罩至一基板之处理系统系提供。处理系统包括一处理腔室及设置于处理腔室内的一磁性夹持件。磁性夹持件包括一夹持表面、一或多个旋转机构、及相对于夹持表面定向于一或多个海尔贝克数组中数个磁铁。各磁铁具有一北极，定向四方向之其中一者。此一或多个旋转机构系耦接以改变此些磁铁之至少一者的北极之方向。

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