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    • 39. 发明专利
    • 藉由光譜訊號分析以連續監視內含製程及光學檢視基材之方法
    • 借由光谱信号分析以连续监视内含制程及光学视图基材之方法
    • TW516146B
    • 2003-01-01
    • TW090124774
    • 2001-10-05
    • 應用材料股份有限公司
    • 瑞吉納德杭特艾都瓦鬥瑪昆斯
    • H01L
    • G01N21/94G01N21/8851G01N21/9501G01N21/956G01N2021/8887
    • 本發明係關於提供一種檢視一製程系統中一基材之設備及方法。本發明一態樣中,一光源與一光學接收裝置(如:一光譜儀)連結,以照明及檢視一基材之各種光學訊號。將一檢視過程中所收集之資料加以處理,以決定基材之拓樸資料。一實施例中,該資料用以產生代表訊號強度及/或顏色之平均值。一提供光譜分析之態樣中,其中一試驗基材條狀圖結果減去中一參考條狀圖。而後,進行該平均值與該等參考值之比對,以決定基材拓樸型態。本發明之優點為可使用一數據處理系統以收集該數據、執行該光譜訊號分析、及判定所形成的處理狀態。
    • 本发明系关于提供一种视图一制程系统中一基材之设备及方法。本发明一态样中,一光源与一光学接收设备(如:一光谱仪)链接,以照明及视图一基材之各种光学信号。将一视图过程中所收集之数据加以处理,以决定基材之拓朴数据。一实施例中,该数据用以产生代表信号强度及/或颜色之平均值。一提供光谱分析之态样中,其中一试验基材条状图结果减去中一参考条状图。而后,进行该平均值与该等参考值之比对,以决定基材拓朴型态。本发明之优点为可使用一数据处理系统以收集该数据、运行该光谱信号分析、及判定所形成的处理状态。