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31. 发明专利

TWI477902B 環脂族單體、含該單體之聚合物及含該聚合物之光阻劑組成物有权
简体标题：环脂族单体、含该单体之聚合物及含该聚合物之光阻剂组成物
公开(公告)号：TWI477902B
公开(公告)日：2015-03-21
申请号：TW101150052
申请日：2012-12-26
申请人：羅門哈斯電子材料有限公司 , ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
发明人：劉琮 , LIU, CONG , 李銘啟 , LI, MINGQI , 徐承柏 , XU, CHENG-BAI
IPC分类号： G03F7/004 , C08F220/18 , H01L21/027
CPC分类号： C07C69/533 , C07C69/54 , C07C2601/08 , G03F7/0046 , G03F7/027 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , Y10T428/24802

32. 发明专利

TWI477495B 光酸產生劑及含該光酸產生劑之光阻有权
简体标题：光酸产生剂及含该光酸产生剂之光阻
公开(公告)号：TWI477495B
公开(公告)日：2015-03-21
申请号：TW099143180
申请日：2010-12-10
申请人：羅門哈斯電子材料有限公司 , ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
发明人：李銘啟 , LI, MINGQI , 阿葵德恩媚德 , AQAD, EMAD , 劉琮 , LIU, CONG , 瑪緹亞喬瑟夫 , MATTIA, JOSEPH , 徐承柏 , XU, CHENG-BAI , 巴克雷喬治G , BARCLAY, GEORGE G.
IPC分类号： C07D333/46 , C07D493/20 , C07C309/06 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C303/32 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C321/30 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07D333/46 , C07D335/02 , C07D337/04 , C07D493/20 , C07J31/006 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397

33. 发明专利

TWI474128B 包含雜取代之碳環系芳基成份之光微影組成物及方法有权
简体标题：包含杂取代之碳环系芳基成份之光微影组成物及方法
公开(公告)号：TWI474128B
公开(公告)日：2015-02-21
申请号：TW098139096
申请日：2009-11-18
申请人：羅門哈斯電子材料有限公司 , ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
发明人：王大洋 , WANG, DEYAN , 徐承柏 , XU, CHENG-BAI , 巴克雷喬治G , BARCLAY, GEORGE G.
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/11 , G03F7/004 , C08F212/32 , C08F220/18 , C08F220/26
CPC分类号： G03F7/0048 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/2041

34. 发明专利

TW201433563A 樹狀化合物、光阻組成物及製造電子裝置的方法审中-公开
简体标题：树状化合物、光阻组成物及制造电子设备的方法
公开(公告)号：TW201433563A
公开(公告)日：2014-09-01
申请号：TW102149241
申请日：2013-12-31
申请人：羅門哈斯電子材料有限公司 , ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
发明人：阿葵德恩媚德 , AQAD, EMAD , 徐承柏 , XU, CHENG-BAI , 庫爾爾凡德 , KAUR, IRVINDER , 李銘啓 , LI, MINGQI , 孫吉賓 , SUN, JIBIN , 安德斯西西里 , ANDES, CECILY
IPC分类号： C07C309/02 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/004 , C07C303/32 , C07C2603/26 , G03F7/0042 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20
摘要：本發明提供樹狀化合物。該樹狀化合物包括包含焦點之陰離子樹狀高分子，該焦點包含陰離子性基與聯結基團，以及光反應性陽離子。此樹狀化合物特別適用於使用作為光酸產生劑。亦提供一種包括此樹狀化合物之光阻組成物，以及以該光阻組成物形成電子裝置之方法。該樹狀化合物、光阻組成物與方法，已知特別適用於製造半導體裝置。
简体摘要：本发明提供树状化合物。该树状化合物包括包含焦点之阴离子树状高分子，该焦点包含阴离子性基与联结基团，以及光反应性阳离子。此树状化合物特别适用于使用作为光酸产生剂。亦提供一种包括此树状化合物之光阻组成物，以及以该光阻组成物形成电子设备之方法。该树状化合物、光阻组成物与方法，已知特别适用于制造半导体设备。

35. 发明专利

TW201426195A 用於低溫應用的離子性熱酸產生劑审中-公开
简体标题：用于低温应用的离子性热酸产生剂
公开(公告)号：TW201426195A
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW102142787
申请日：2013-11-25
申请人：羅門哈斯電子材料有限公司 , ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
发明人：波樂斯葛哈德 , POHLERS, GERHARD , 劉琮 , LIU, CONG , 徐承柏 , XU, CHENG-BAI , 羅威凱文 , ROWELL, KEVIN , 庫爾爾凡德 , KAUR, IRVINDER
IPC分类号： G03F7/09 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/40 , C07C309/03 , C07C309/06 , C07D239/26 , C07D241/12 , C07D263/32 , C07D277/22 , C07D333/48 , G03F7/0397 , G03F7/09 , G03F7/091 , G03F7/11 , G03F7/30 , G03F7/405
摘要：本發明係提供新的離子性熱酸產生劑化合物。本發明亦提供光阻劑組成物，抗反射塗佈組成物，和化學修整外覆組成物，以及使用此等組成物之方法。
简体摘要：本发明系提供新的离子性热酸产生剂化合物。本发明亦提供光阻剂组成物，抗反射涂布组成物，和化学修整外覆组成物，以及使用此等组成物之方法。

36. 发明专利

TWI425314B 新穎樹脂及包括該樹脂之光阻組成物有权
简体标题：新颖树脂及包括该树脂之光阻组成物
公开(公告)号：TWI425314B
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW099115903
申请日：2010-05-19
申请人：羅門哈斯電子材料有限公司 , ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
发明人：徐承柏 , XU, CHENG-BAI , 詹皮尼安東尼 , ZAMPINI, ANTHONY
IPC分类号： G03F7/004 , C08F20/28 , H01L21/027
CPC分类号： C08F20/10 , C08F220/30 , G03F7/0392 , G03F7/0397

37. 发明专利

TW201335129A 光酸產生劑及含該光酸產生劑之光阻劑审中-公开
简体标题：光酸产生剂及含该光酸产生剂之光阻剂
公开(公告)号：TW201335129A
公开(公告)日：2013-09-01
申请号：TW101150051
申请日：2012-12-26
申请人：羅門哈斯電子材料有限公司 , ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
发明人：阿葵德恩媚德 , AQAD, EMAD , 徐承柏 , XU, CHENG-BAI , 李銘啟 , LI, MINGQI , 威廉斯威廉 , WILLIAMS, WILLIAM
IPC分类号： C07C381/12 , C07D333/46 , C07D493/20 , G03F7/004
CPC分类号： C07D493/18 , G03F7/0045 , G03F7/027 , G03F7/0392
摘要：一種光酸產生劑，包含該等具式(I)者：其中，式(I)中之各Ra係獨立為H、F、C1-10非氟化有機基、C1-10氟化有機基、或包括至少一個前述者之組合，限制條件為至少一個Ra係氟或C1-10氟化有機基，各該C1-10氟化以及非氟化之有機基視需要包括O、S、N、或包括至少一個前述雜原子之組合；L1係包括雜原子之連結基，該雜原子包括O、S、N、F、或包括至少一個前述者之組合；G+係式(II)之鎓鹽：其中，於式(II)中，X係S或I，各R0係獨立為C1-30烷基；多環或單環之C3-30環烷基；多環或單環之C4-30芳基；或包括至少一個前述者之組合，限制條件為至少一個R0係經取代，其中，各R0係C6單環芳基，以及其中，當X係I時，a係2，以及其中當X係S時，a係3，p係0或1，以及q係自1至10之整數。
简体摘要：一种光酸产生剂，包含该等具式(I)者：其中，式(I)中之各Ra系独立为H、F、C1-10非氟化有机基、C1-10氟化有机基、或包括至少一个前述者之组合，限制条件为至少一个Ra系氟或C1-10氟化有机基，各该C1-10氟化以及非氟化之有机基视需要包括O、S、N、或包括至少一个前述杂原子之组合；L1系包括杂原子之链接基，该杂原子包括O、S、N、F、或包括至少一个前述者之组合；G+系式(II)之鎓盐：其中，于式(II)中，X系S或I，各R0系独立为C1-30烷基；多环或单环之C3-30环烷基；多环或单环之C4-30芳基；或包括至少一个前述者之组合，限制条件为至少一个R0系经取代，其中，各R0系C6单环芳基，以及其中，当X系I时，a系2，以及其中当X系S时，a系3，p系0或1，以及q系自1至10之整数。

38. 发明专利

TWI593666B 內酯光酸產生劑及含該光酸產生劑之樹脂及光阻劑有权
简体标题：内酯光酸产生剂及含该光酸产生剂之树脂及光阻剂
公开(公告)号：TWI593666B
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW100141552
申请日：2011-11-15
申请人：羅門哈斯電子材料有限公司 , ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
发明人：阿葵德恩媚德 , AQAD, EMAD , 李銘啟 , LI, MINGQI , 徐承柏 , XU, CHENG-BAI , 劉琮 , LIU, CONG
IPC分类号： C07C381/12 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , C07D493/08 , G03F7/0046 , G03F7/0397

39. 发明专利

TWI554841B 浸潤式微影組成物及製程有权
简体标题：浸润式微影组成物及制程
公开(公告)号：TWI554841B
公开(公告)日：2016-10-21
申请号：TW102126077
申请日：2008-11-05
申请人：羅門哈斯電子材料有限公司 , ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
发明人：王大洋 , WANG, DEYAN , 徐承柏 , XU, CHENG-BAI , 巴克雷喬治G , BARCLAY, GEORGE G.
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/075
CPC分类号： G03F7/2041 , C08F220/22 , C08F220/24 , C08F220/26 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0392 , G03F7/0757 , H01L21/0274

40. 发明专利

TWI533091B 包括胺甲酸酯成分之光阻劑有权
简体标题：包括胺甲酸酯成分之光阻剂
公开(公告)号：TWI533091B
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：TW103118950
申请日：2014-05-30
申请人：羅門哈斯電子材料有限公司 , ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
发明人：威廉三世威廉 , WILLIAMS, III, WILLIAM , 劉琮 , LIU, CONG , 徐承柏 , XU, CHENG-BAI
IPC分类号： G03F7/039 , C08K5/3415 , C08K5/3432 , C08K5/205 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397

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