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    • 33. 发明专利
    • 具多層導電性介入層之N型氮化鎵層
    • 具多层导电性介入层之N型氮化镓层
    • TW201314946A
    • 2013-04-01
    • TW101120373
    • 2012-06-07
    • 普瑞光電股份有限公司BRIDGELUX INC.
    • 陳振CHEN, ZHEN付羿FU, YI
    • H01L33/04
    • H01L33/12H01L33/007H01L33/0079H01L33/32H01L33/62H01L2224/2929H01L2224/29339H01L2224/32225H01L2224/48091H01L2224/48227H01L2224/73265H01L2924/01322H01L2924/10253H01L2924/0655H01L2924/00H01L2924/00014
    • 本發明揭示一種垂直GaN型藍光LED,其具有一n型層,該層包括多層導電性介入層。該n型層包括複數個週期。該n型層的每一週期包含一氮化鎵(GaN)子層及一薄導電性摻雜矽的氮化鎵鋁(AlGaN:Si)介入子層。在一範例中,每一該氮化鎵子層的厚度大體上都超過100nm且小於1000nm,並且每一該摻雜矽的氮化鎵鋁介入子層的厚度小於25nm。該完整n型層的厚度至少2000nm。該摻雜矽的氮化鎵鋁介入子層提供壓縮拉力給該氮化鎵子層,藉此避免破裂。在形成該LED的該等磊晶層後,一導電載體以晶圓貼合至該結構,然後移除該矽基板,之後加入電極,並將該結構切割形成一完成的LED裝置。該等摻雜矽的氮化鎵鋁介入子層具有導電性,所以該完整n型層可保留成為該完成的LED裝置一部分。
    • 本发明揭示一种垂直GaN型蓝光LED,其具有一n型层,该层包括多层导电性介入层。该n型层包括复数个周期。该n型层的每一周期包含一氮化镓(GaN)子层及一薄导电性掺杂硅的氮化镓铝(AlGaN:Si)介入子层。在一范例中,每一该氮化镓子层的厚度大体上都超过100nm且小于1000nm,并且每一该掺杂硅的氮化镓铝介入子层的厚度小于25nm。该完整n型层的厚度至少2000nm。该掺杂硅的氮化镓铝介入子层提供压缩拉力给该氮化镓子层,借此避免破裂。在形成该LED的该等磊晶层后,一导电载体以晶圆贴合至该结构,然后移除该硅基板,之后加入电极,并将该结构切割形成一完成的LED设备。该等掺杂硅的氮化镓铝介入子层具有导电性,所以该完整n型层可保留成为该完成的LED设备一部分。