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21. 发明专利

TWI332442B 製造流體射出器的孔口之方法 METHOD FOR MAKING FLUID EMITTER ORIFICE 失效
简体标题：制造流体射出器的孔口之方法 METHOD FOR MAKING FLUID EMITTER ORIFICE
公开(公告)号：TWI332442B
公开(公告)日：2010-11-01
申请号：TW093118071
申请日：2004-06-23
申请人：惠普研發公司
发明人：夏拉威摩漢梅德 , 史特蘭德湯瑪斯R.
IPC分类号： B41J
CPC分类号： G03F7/2022 , B41J2/16 , B41J2/1626 , B41J2/1631 , B41J2002/14475 , G03F7/0015 , G03F7/0037
摘要：一種用於在一層光阻的一表面中形成一凹陷之方法係包含以第一劑量的輻射能來曝光一層光阻的一第一部。此層的一第二部係由第二劑量的輻射能加以曝光。第二劑量小於第一劑量。烘烤此層。
简体摘要：一种用于在一层光阻的一表面中形成一凹陷之方法系包含以第一剂量的辐射能来曝光一层光阻的一第一部。此层的一第二部系由第二剂量的辐射能加以曝光。第二剂量小于第一剂量。烘烤此层。

22. 发明专利

TW201017329A 可用於影像投射系統之可輻射固化組合物 RADIATION CURABLE COMPOSITIONS USEFUL IN IMAGE PROJECTION SYSTEMS 审中-公开
简体标题：可用于影像投射系统之可辐射固化组合物 RADIATION CURABLE COMPOSITIONS USEFUL IN IMAGE PROJECTION SYSTEMS
公开(公告)号：TW201017329A
公开(公告)日：2010-05-01
申请号：TW098129553
申请日：2009-09-02
申请人： 3D系統公司
发明人：許平永
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/033 , B29C64/124 , G03F7/0037
摘要：本發明提供一種可用於製造三維固體物件之可輻射固化組合物。該可輻射固化組合物包含至少一超支化聚(甲基)丙烯酸酯化合物、至少一光增敏劑、與至少一自由基聚合引發劑。
简体摘要：本发明提供一种可用于制造三维固体对象之可辐射固化组合物。该可辐射固化组合物包含至少一超支化聚(甲基)丙烯酸酯化合物、至少一光增敏剂、与至少一自由基聚合引发剂。

23. 发明专利

TW200609669A 可光硬化組合物 PHOTOCURABLE COMPOSITIONS 审中-公开
简体标题：可光硬化组合物 PHOTOCURABLE COMPOSITIONS
公开(公告)号：TW200609669A
公开(公告)日：2006-03-16
申请号：TW094108631
申请日：2005-03-21
申请人：亨斯邁先進材料(瑞士)有限公司 HUNTSMAN ADVANCED MATERIALS (SWITZERLAND) GMBH
发明人：雷傑納C 潘提爾 PATEL, RANJANA C. , 麥可隆迪斯 RHODES, MICHAEL , 鄒永 ZHAO, YONG
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/038 , B29C2035/0827 , B29K2033/00 , B33Y70/00 , G03F7/0037
摘要：本發明係關於一種光學模塑之方法，其包括下列連續步驟：(a)形成一種可光硬化組合物之薄層；和(b)在薄層中以來自輻射源之輻射來照射所選區域的組合物，藉此在該選擇區域中將組合物硬化然後在較早硬化的薄層上重複步驟a)和b)以形成三維結構，其中用於步驟b)之輻射源為一種非連貫性輻射源，且其中可光硬化組合物含有至少兩種可硬化成分：(i)第一種成分，其為組合物中總可硬化成分的45–95重量％(且較佳為至少50重量％，更佳為至少60重量％，例如至少70重量％)，其為光可硬化，且當光硬化引發劑存在時，藉由曝光於具能量為30毫焦耳／公分^2之UV輻射而硬化，使得至少90％成分在50毫秒內硬化；和(ii)第二種成分，其為組合物中總可硬化成分的5–55重量％(且較佳為10–40重量％，更佳為15至30重量％，例如約20重量％)，其使得組合物在硬化時於線性方向長度收縮小於3％，且較佳為其使得組合物在硬化後具有之Tg大於50℃，較佳為至少100℃，且更佳為至少120℃。
简体摘要：本发明系关于一种光学模塑之方法，其包括下列连续步骤：(a)形成一种可光硬化组合物之薄层；和(b)在薄层中以来自辐射源之辐射来照射所选区域的组合物，借此在该选择区域中将组合物硬化然后在较早硬化的薄层上重复步骤a)和b)以形成三维结构，其中用于步骤b)之辐射源为一种非连贯性辐射源，且其中可光硬化组合物含有至少两种可硬化成分：(i)第一种成分，其为组合物中总可硬化成分的45–95重量％(且较佳为至少50重量％，更佳为至少60重量％，例如至少70重量％)，其为光可硬化，且当光硬化引发剂存在时，借由曝光于具能量为30毫焦耳／公分^2之UV辐射而硬化，使得至少90％成分在50毫秒内硬化；和(ii)第二种成分，其为组合物中总可硬化成分的5–55重量％(且较佳为10–40重量％，更佳为15至30重量％，例如约20重量％)，其使得组合物在硬化时于线性方向长度收缩小于3％，且较佳为其使得组合物在硬化后具有之Tg大于50℃，较佳为至少100℃，且更佳为至少120℃。

24. 发明专利

TW200602808A 官能化的光起始劑 FUNCTIONALIZED PHOTOINITIATORS 审中-公开
简体标题：官能化的光起始剂 FUNCTIONALIZED PHOTOINITIATORS
公开(公告)号：TW200602808A
公开(公告)日：2006-01-16
申请号：TW094103043
申请日：2005-02-01
申请人：席巴特製品化學股份有限公司 CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.
发明人：迪特里克柯特 DIETLIKER, KURT , 胡斯勒里納多 HUSLER, RINALDO , 伯巴姆珍-路克 BIRBAUM, JEAN-LUC , 渥夫珍-皮爾里 WOLF, JEAN-PIERRE
IPC分类号： G03F
CPC分类号： C08F2/50 , B33Y70/00 , G03F7/0007 , G03F7/001 , G03F7/0037 , G03F7/031
摘要：本發明係關於一種具有下列化學式I之新穎光起始劑094103043-p01.bmp其中各取代基係之定義係如本案發明說明書及申請專利範圍中所記述者。該光起始劑可用以製備多功能化光起始劑。094103043-p01.bmp
简体摘要：本发明系关于一种具有下列化学式I之新颖光起始剂094103043-p01.bmp其中各取代基系之定义系如本案发明说明书及申请专利范围中所记述者。该光起始剂可用以制备多功能化光起始剂。094103043-p01.bmp

25. 发明专利

TW200538481A 熱安定性陽離子光固化組成物 THERMALLY STABLE CATIONIC PHOTOCURABLE COMPOSITIONS 审中-公开
简体标题：热安定性阳离子光固化组成物 THERMALLY STABLE CATIONIC PHOTOCURABLE COMPOSITIONS
公开(公告)号：TW200538481A
公开(公告)日：2005-12-01
申请号：TW094102282
申请日：2005-01-26
申请人：席巴特製品化學股份有限公司 CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.
发明人：渥爾夫珍-皮耶 WOLF, JEAN-PIERRE , 尹爾格史帝芬 ILG, STEPHAN , 畢爾鮑姆珍-露克 BIRBAUM, JEAN-LUC , 錫茲曼尤金V. SITZMANN, EUGENE VALENTINE , 布瑞瑪大衛 BRAMER, DAVID , 洛薩皮歐格瑞格 LOSAPIO, GREG
IPC分类号： C08G
CPC分类号： G03F7/0037 , C08G59/18 , C08G59/24 , C08G59/68 , G03F7/038
摘要：揭露一種具改良儲存期限安定性之陽離子光固化組成物。此熱安定性組成物包含至少一陽離子可聚合之化合物，例如，環氧化合物，至少一鹽光起始劑，及至少一選自有機磷安定劑及位阻硝醯基安定劑所組成族群之化合物。亦揭露一種陽離子光起始劑組成物，包含至少一鹽光起始劑及至少一選自有機磷安定劑及位阻硝醯基安定劑所組成族群之化合物。
简体摘要：揭露一种具改良存储期限安定性之阳离子光固化组成物。此热安定性组成物包含至少一阳离子可聚合之化合物，例如，环氧化合物，至少一盐光起始剂，及至少一选自有机磷安定剂及位阻硝酰基安定剂所组成族群之化合物。亦揭露一种阳离子光起始剂组成物，包含至少一盐光起始剂及至少一选自有机磷安定剂及位阻硝酰基安定剂所组成族群之化合物。

26. 发明专利

TW200523248A 芳基鹽與其可聚合之組成物及其聚合方法 ARYL SULFONIUM SALT, POLYMERIZABLE COMPOSITION AND POLYMERIZATION METHOD OF THE SAME 审中-公开
简体标题：芳基盐与其可聚合之组成物及其聚合方法 ARYL SULFONIUM SALT, POLYMERIZABLE COMPOSITION AND POLYMERIZATION METHOD OF THE SAME
公开(公告)号：TW200523248A
公开(公告)日：2005-07-16
申请号：TW093140246
申请日：2004-12-23
申请人：奇鈦科技股份有限公司 CHITEC TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：曲清蕃 CHIU, CHINGFAN , 楊郡慈 YANG, CHUN TZU
IPC分类号： C07C
CPC分类号： C07C381/12 , C08G59/687 , G03F7/0037 , G03F7/0045 , G03F7/029
摘要：本發明揭露一種芳基銃鹽，係以化學式(I)表示：093140246-p01.bmp Z代表一氫原子或化學式(II)：093140246-p02.bmp其中，取代基R1到R12係為各自獨立的(independently)氫原子、C1到C12的烷基、或C3到C12的環烷基;每個苯基係各自獨立地擁有至少一個烷基或環烷基;而且X^–及Y^–係為各自獨立的陰離子。此芳基銃鹽經光誘導後(photo–induced)，不產生苯。本發明也揭露含此芳基銃鹽的一種可聚合組成物及其聚合的方法。093140246-p01.bmp
简体摘要：本发明揭露一种芳基铳盐，系以化学式(I)表示：093140246-p01.bmp Z代表一氢原子或化学式(II)：093140246-p02.bmp其中，取代基R1到R12系为各自独立的(independently)氢原子、C1到C12的烷基、或C3到C12的环烷基;每个苯基系各自独立地拥有至少一个烷基或环烷基;而且X^–及Y^–系为各自独立的阴离子。此芳基铳盐经光诱导后(photo–induced)，不产生苯。本发明也揭露含此芳基铳盐的一种可聚合组成物及其聚合的方法。093140246-p01.bmp

27. 发明专利

TW200518943A 製造流體射出器的孔口之方法 METHOD FOR MAKING FLUID EMITTER ORIFICE 失效
简体标题：制造流体射出器的孔口之方法 METHOD FOR MAKING FLUID EMITTER ORIFICE
公开(公告)号：TW200518943A
公开(公告)日：2005-06-16
申请号：TW093118071
申请日：2004-06-23
申请人：惠普研發公司 HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY, L.P.
发明人：夏拉威摩漢梅德 SHAARAWI, MOHAMMED , 史特蘭德湯瑪斯R. STRAND, THOMAS R.
IPC分类号： B41J
CPC分类号： G03F7/2022 , B41J2/16 , B41J2/1626 , B41J2/1631 , B41J2002/14475 , G03F7/0015 , G03F7/0037
摘要：一種用於在一層光阻的一表面中形成一凹陷之方法係包含以第一劑量的輻射能來曝光一層光阻的一第一部。此層的一第二部係由第二劑量的輻射能加以曝光。第二劑量小於第一劑量。烘烤此層。
简体摘要：一种用于在一层光阻的一表面中形成一凹陷之方法系包含以第一剂量的辐射能来曝光一层光阻的一第一部。此层的一第二部系由第二剂量的辐射能加以曝光。第二剂量小于第一剂量。烘烤此层。

28. 发明专利

TWI548949B 微影方法與設備有权
简体标题：微影方法与设备
公开(公告)号：TWI548949B
公开(公告)日：2016-09-11
申请号：TW100139416
申请日：2011-10-28
申请人：新加坡國立大學 , NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE
发明人：休斯勒沙夏皮爾 , HEUSSLER, SASCHA PIERRE , 摩瑟赫柏特O , MOSER, HERBERT O.
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G02B5/18 , G01J3/00 , G03F7/0002 , G03F7/0005 , G03F7/0017 , G03F7/0037 , G03F7/2014 , G03F7/203 , G03F7/213 , G03F7/70058 , G03F7/70416 , G03F7/70466

29. 发明专利

TW201413384A 超疏油表面及其製造方法审中-公开
简体标题：超疏油表面及其制造方法
公开(公告)号：TW201413384A
公开(公告)日：2014-04-01
申请号：TW102121494
申请日：2013-06-18
申请人：西安大略大學 , THE UNIVERSITY OF WESTERN ONTARIO , 朗盛公司 , LANXESS INC.
发明人：楊軍 , YANG, JUN , 李庭杰 , LI, TINGJIE , 佩利馬克辛 , PALIY, MAXIM , 王曉龍 , WANG, XIAOLONG , 蘇瀚娜塔莉 , SUHAN, NATALIE
IPC分类号： G03F7/038 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0037 , B08B17/065 , B81B2203/0361 , B81C1/00031 , B81C1/00206 , B82Y30/00 , C03C2217/76 , G03F7/004 , G03F7/2024 , Y10T428/24372 , Y10T428/24405
摘要：本文中揭露一種表面經改質的基板，此改質表面提供多尺寸粗糙度，藉此提供超疏水及/或超疏油特性。該表面具有上部覆有複數奈米粒子之微米級柱的圖案，此些奈米粒子具有凹入突出形狀。亦選擇該表面的面積比例以提供期望的超疏油特性。本文亦揭露一種該改質表面的產生方法，其包含微影製程及後續的選擇性氣相沈積。該基板可被形成於有用物品中或被施加至預形成的物品。
简体摘要：本文中揭露一种表面经改质的基板，此改质表面提供多尺寸粗糙度，借此提供超疏水及/或超疏油特性。该表面具有上部覆有复数奈米粒子之微米级柱的图案，此些奈米粒子具有凹入突出形状。亦选择该表面的面积比例以提供期望的超疏油特性。本文亦揭露一种该改质表面的产生方法，其包含微影制程及后续的选择性气相沉积。该基板可被形成于有用物品中或被施加至预形成的物品。

30. 发明专利

TWI427406B 用於具穩定抗張性質之物件之可光硬化組合物有权
简体标题：用于具稳定抗张性质之对象之可光硬化组合物
公开(公告)号：TWI427406B
公开(公告)日：2014-02-21
申请号：TW093129996
申请日：2004-10-04
申请人： 3D系統公司 , 3D SYSTEMS, INC.
发明人：大衛強森 , JOHNSON, DAVID , 法蘭克特朗 , TRAN, FRANK , 約翰衛馮 , FONG, JOHN WAI , 理查諾伊利丹 , LEYDEN, RICHARD NOEL , 朗傑納C 潘提 , PATEL RANJANA C.
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/038 , B29C41/003 , B29C64/135 , B29K2995/0077 , B33Y10/00 , B33Y70/00 , C03C25/106 , C09D4/00 , G03F7/0037 , G11B7/24038 , Y10T428/29 , Y10T428/2913 , Y10T428/2933 , Y10T428/2938 , Y10T428/2947 , Y10T428/2949 , Y10T428/31504 , Y10T428/31855 , C08F222/1006

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