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    • 23. 发明专利
    • 苯乙酸衍生物,其製法及作為殺真菌劑之用途
    • 苯乙酸衍生物,其制法及作为杀真菌剂之用途
    • TW224042B
    • 1994-05-21
    • TW082102273
    • 1993-03-26
    • 巴地斯顏料化工廠
    • 吉沙拉.羅倫亞伯哈德.亞曼門亞伯特.哈魯斯雷哈德.多茲爾雷哈德.金斯根赫伯特.蘇特赫斯特.文格特
    • A01NC07CA01P
    • C07D295/185A01N37/36A01N37/40A01N37/42C07C69/734C07C69/738C07C233/11C07C235/34C07C235/38C07C251/40C07C251/48C07C251/52C07C251/60C07C251/80C07C255/53C07C259/06C07C2601/02C07C2601/14C07F7/1896
    • 本發明係揭示具有殺真菌作用之式Ⅰ化合物□ Ⅰ其中:n係0或1;W係氫;X係CHOCH3或NOCH3;Y係氧,NR4或-O-NR4-;Z係氧,NOR7或N-NR5R9; R1係氫; R2與R1無關,係氫或C1-4烷基; R3係氫;
      未經取代或經C1-6烷氧羰基取代之C1-C6烷基; C2-C6烯基; C2-C6炔基;未經取代或經C1-6烷基、鹵素、烷氧亞胺烷基,CF3,C1-6烷氧羰基或C1-6烷氧基取代之苯基;苯基-C1-4烷基,其中苯基部份係未經取代或經鹵素,C1-6烷基、氰基或C1-6烷氧基所取代;唑基-C1-C4烷基,其中唑基部份係未經取代或經苯基取代;未經取代或經苯基取代之唑基;
      嗎林基;或
      六氫啶基; R4為氫或C1-4烷基;或者 R3與R4一起形成-(CH2)5-基團; R7係氫;
      未經取代或經C1-6烷氧羰基,氰基或苯氧基取代之
      C1-C4烷基,其中該苯基部份可為未經取代或經鹵素
      所取代;
      未經取代或經鹵素取代之C2-C4烯基;
      未經取代或經C1-6烷基或羥基取代之嘧啶基;
      苯基-C1-4烷基,其中該烷基部份未經取代或經鹵
      素、C1-6烷基、CF3氰基或NO2所取;
      塞吩基-C1-C4烷基,其中該吩基部份係未經取代
      或經鹵素所取代;或
      嘧啶基-C1-C4烷基,其中該嘧啶基部份係未經取代或
      經C1-6烷基或羥基所取代; R8係氫,C1-4烷基,或未經取代或經NO2取代之苯基; R9定義同R4,且與R8無關;及CC係單鍵或雙鍵,及含彼等化合物之殺真菌劑。
    • 本发明系揭示具有杀真菌作用之式Ⅰ化合物□ Ⅰ其中:n系0或1;W系氢;X系CHOCH3或NOCH3;Y系氧,NR4或-O-NR4-;Z系氧,NOR7或N-NR5R9; R1系氢; R2与R1无关,系氢或C1-4烷基; R3系氢; 未经取代或经C1-6烷氧羰基取代之C1-C6烷基; C2-C6烯基; C2-C6炔基;未经取代或经C1-6烷基、卤素、烷氧亚胺烷基,CF3,C1-6烷氧羰基或C1-6烷氧基取代之苯基;苯基-C1-4烷基,其中苯基部份系未经取代或经卤素,C1-6烷基、氰基或C1-6烷氧基所取代;唑基-C1-C4烷基,其中唑基部份系未经取代或经苯基取代;未经取代或经苯基取代之唑基; 吗林基;或 六氢啶基; R4为氢或C1-4烷基;或者 R3与R4一起形成-(CH2)5-基团; R7系氢; 未经取代或经C1-6烷氧羰基,氰基或苯氧基取代之 C1-C4烷基,其中该苯基部份可为未经取代或经卤素 所取代; 未经取代或经卤素取代之C2-C4烯基; 未经取代或经C1-6烷基或羟基取代之嘧啶基; 苯基-C1-4烷基,其中该烷基部份未经取代或经卤 素、C1-6烷基、CF3氰基或NO2所取; 塞吩基-C1-C4烷基,其中该吩基部份系未经取代 或经卤素所取代;或 嘧啶基-C1-C4烷基,其中该嘧啶基部份系未经取代或 经C1-6烷基或羟基所取代; R8系氢,C1-4烷基,或未经取代或经NO2取代之苯基; R9定义同R4,且与R8无关;及CC系单键或双键,及含彼等化合物之杀真菌剂。