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    • 11. 发明专利
    • 等離子體處理裝置
    • 等离子体处理设备
    • TW202015496A
    • 2020-04-16
    • TW108145871
    • 2018-03-29
    • 日商芝浦機械電子裝置股份有限公司SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
    • 川又由雄KAWAMATA, YOSHIO神戸優KAMBE, YU
    • H05H7/14C23C14/56H01L21/67
    • 等離子體處理裝置包括:搬送部,在真空容器中具有旋轉體,通過旋轉體而以圓周的搬送路徑循環搬送工件;筒部,在朝向真空容器的內部的搬送路徑的方向上延伸存在;窗構件,將導入有工藝氣體的氣體空間與外部之間加以劃分;以及天線,通過施加電力而在氣體空間的工藝氣體中產生電感耦合等離子體;並且筒部具有設置有開口且朝向旋轉體的對向部,在對向部與旋轉體之間具有隔離壁,所述隔離壁相對於對向部及旋轉體而非接觸且相對於真空容器而以固定不動的方式介隔存在,在隔離壁形成有與開口對向且調節等離子體處理的範圍的調節孔。
    • 等离子体处理设备包括:搬送部,在真空容器中具有旋转体,通过旋转体而以圆周的搬送路径循环搬送工件;筒部,在朝向真空容器的内部的搬送路径的方向上延伸存在;窗构件,将导入有工艺气体的气体空间与外部之间加以划分;以及天线,通过施加电力而在气体空间的工艺气体中产生电感耦合等离子体;并且筒部具有设置有开口且朝向旋转体的对向部,在对向部与旋转体之间具有隔离壁,所述隔离壁相对于对向部及旋转体而非接触且相对于真空容器而以固定不动的方式介隔存在,在隔离壁形成有与开口对向且调节等离子体处理的范围的调节孔。