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    • 15. 发明专利
    • 反應方法及其裝置
    • 反应方法及其设备
    • TW201534391A
    • 2015-09-16
    • TW103108382
    • 2014-03-11
    • 陳柏頴
    • 陳柏頴陳俋瑾陳俋錫
    • B01J19/08C23C16/50C08G18/08
    • Y02P20/544
    • 一種反應方法及其裝置,主要是藉由在一密閉腔室內盛裝可導電超臨界流體,配合通電作用,使得可導電超臨界流體成為帶電荷超臨界流體,並適時搭配照光單元引入紫外線光或雷射光,或輸入化學反應氣體之運作,因而能產生三種功效:(1)利用帶電荷超臨界流體以溶解並去除材料表面或內部雜質,使得材料優化;(2)該密閉腔室也可以作為氣相化學反應腔,高分子聚合或化學氣相沉積在低溫條件就可進行反應;(3)在紫外線光或雷射光的照射下,可使材料的熟化或純化、優化過程在低溫條件下就可以進行,縮短反應時間且使均勻度增加。
    • 一种反应方法及其设备,主要是借由在一密闭腔室内盛装可导电超临界流体,配合通电作用,使得可导电超临界流体成为带电荷超临界流体,并适时搭配照光单元引入紫外线光或激光光,或输入化学反应气体之运作,因而能产生三种功效:(1)利用带电荷超临界流体以溶解并去除材料表面或内部杂质,使得材料优化;(2)该密闭腔室也可以作为气相化学反应腔,高分子聚合或化学气相沉积在低温条件就可进行反应;(3)在紫外线光或激光光的照射下,可使材料的熟化或纯化、优化过程在低温条件下就可以进行,缩短反应时间且使均匀度增加。