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1. 发明专利

TW201623499A 提高第一帶狀材料之第一表面及第二帶狀材料之第一表面之間的黏著力之方法审中-公开
简体标题：提高第一带状材料之第一表面及第二带状材料之第一表面之间的黏着力之方法
公开(公告)号：TW201623499A
公开(公告)日：2016-07-01
申请号：TW104128051
申请日：2015-08-27
申请人：特薩股份有限公司 , TESA SE
发明人：庫斯艾尼 , KOOPS, ARNE , 舒伯特湯瑪斯 , SCHUBERT, THOMAS , 凱特泰根布雀克勞斯 , KEITE-TELGENBUESCHER, KLAUS , 庫普斯蓋馬可 , KUPSKY, MARCO , 索爾納史蒂芬 , ZOELLNER, STEPHAN
IPC分类号： C09J5/02 , C09J7/02 , C09J133/08 , C09J175/04
CPC分类号： C09J5/02 , B29C65/48 , B29C65/483 , B29C66/028 , B29C66/1122 , B29C66/45 , B29C66/71 , B29C66/723 , B29C66/7392 , B29C66/8122 , B29C66/81263 , B29C66/81422 , B29C66/83413 , B29C66/836 , B29C66/8362 , B32B37/12 , B32B37/203 , B32B38/0008 , C09J7/38 , C09J7/383 , C09J7/385 , C09J107/00 , C09J121/00 , C09J175/04 , C09J2201/128 , C09J2201/606 , C09J2205/31 , C09J2407/00 , C09J2407/006 , C09J2407/008 , C09J2421/008 , C09J2433/00 , C09J2433/006 , C09J2433/008 , C09J2475/00 , C09J2475/006 , C09J2475/008 , B29K2909/08 , B29K2909/02 , B29K2901/00 , B29K2883/00 , B29K2811/00 , B29K2809/06 , B29K2819/00 , B29K2023/06 , B29K2023/086 , B29K2023/12 , B29K2023/38 , B29K2027/06 , B29K2027/08 , B29K2027/16 , B29K2033/20 , B29K2067/00 , B29K2067/003 , B29K2069/00 , B29K2077/00 , B29K2079/08 , B29K2081/06
摘要：本發明係關於一種提高第一帶狀材料之第一表面及第二帶狀材料之第一表面之間的黏著力之方法，其中將該第一帶狀材料與該第二帶狀材料連續並以相同前進方向地輸送進積層機狹縫，於該積層機狹縫將該第一帶狀材料與該第二帶狀材料分別以其第一表面積層在一起，以電漿處理該第一帶狀材料與該第二帶狀材料之兩個第一表面之整個面的方式，使該電漿從在該積層機狹縫前開始連續對兩個第一表面作用直到進入該積層機狹縫，該積層機狹縫係由一加壓滾輪與一承壓滾輪形成，且至少一個滾輪表面或是兩個滾輪表面配備有介電質，該電漿或電暈係產生自一噴嘴，其中該第一帶狀材料具有一黏著劑層，該黏著劑層係以形成第一帶狀材料之第一表面之方式設置於該第一帶狀材料。
简体摘要：本发明系关于一种提高第一带状材料之第一表面及第二带状材料之第一表面之间的黏着力之方法，其中将该第一带状材料与该第二带状材料连续并以相同前进方向地输送进积层机狭缝，于该积层机狭缝将该第一带状材料与该第二带状材料分别以其第一表面积层在一起，以等离子处理该第一带状材料与该第二带状材料之两个第一表面之整个面的方式，使该等离子从在该积层机狭缝前开始连续对两个第一表面作用直到进入该积层机狭缝，该积层机狭缝系由一加压滚轮与一承压滚轮形成，且至少一个滚轮表面或是两个滚轮表面配备有介电质，该等离子或电晕系产生自一喷嘴，其中该第一带状材料具有一黏着剂层，该黏着剂层系以形成第一带状材料之第一表面之方式设置于该第一带状材料。

2. 发明专利

TW201610486A 光學薄膜之製造方法、光學薄膜及影像顯示裝置审中-公开
简体标题：光学薄膜之制造方法、光学薄膜及影像显示设备
公开(公告)号：TW201610486A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW104122899
申请日：2015-07-15
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：品川雅 , SHINAGAWA, MASASHI , 井上龍一 , INOUE, RYUUICHI
IPC分类号： G02B5/30 , G09F9/30
CPC分类号： B05D3/00 , B05D7/04 , B29C65/48 , C09J5/02 , G02B5/30
摘要：本發明之光學薄膜之製造方法具有第1塗布步驟，係使用後計量塗布方式，於第1薄膜之貼合面及第2薄膜之貼合面塗布黏度1~10000cP的液狀物，藉此去除異物。並且，宜具有以下第2塗布步驟：當僅於其中一薄膜之貼合面塗布液狀物時於未塗布液狀物之薄膜之貼合面、或當於兩薄膜之貼合面塗布液狀物時於至少其中一薄膜之貼合面，使用後計量塗布方式塗布接著劑組成物或黏著劑組成物。
简体摘要：本发明之光学薄膜之制造方法具有第1涂布步骤，系使用后计量涂布方式，于第1薄膜之贴合面及第2薄膜之贴合面涂布黏度1~10000cP的液状物，借此去除异物。并且，宜具有以下第2涂布步骤：当仅于其中一薄膜之贴合面涂布液状物时于未涂布液状物之薄膜之贴合面、或当于两薄膜之贴合面涂布液状物时于至少其中一薄膜之贴合面，使用后计量涂布方式涂布接着剂组成物或黏着剂组成物。

3. 发明专利

TW201522534A 用於增強薄膜形成之水性底塗組合物及其使用方法审中-公开
简体标题：用于增强薄膜形成之水性底涂组合物及其使用方法
公开(公告)号：TW201522534A
公开(公告)日：2015-06-16
申请号：TW103131441
申请日：2014-09-11
申请人：塞特工業公司 , CYTEC INDUSTRIES INC.
发明人：趙藝強 , ZHAO, YIQIANG , 柯里達利夫庫瑪 , KOHLI, DALIP KUMAR , 夏高朗庫納 , SHAH, GAURANG KUNAL
IPC分类号： C09D163/00 , C09D7/12 , C09J5/02
CPC分类号： C09D5/12 , B05D1/02 , B05D3/0406 , B05D3/102 , B32B37/12 , B32B37/1284 , B32B2037/1253 , B32B2305/72 , B32B2305/74 , B32B2311/24 , B32B2363/00 , B32B2369/00 , C09D5/002 , C09D7/61 , C09D7/63 , C09D163/00 , C09J5/02 , C09J7/50 , C09J2463/003 , Y10T428/31529
摘要：本發明係關於基於水之黏合底塗組合物及在黏著劑黏合之前將該組合物施加至金屬表面上之方法。該黏合底塗組合物係基於水之分散液，其含有水、一或多種環氧樹脂、一或多種固化劑、矽烷化合物、少量碳酸丙二酯(PC)及可選添加劑。該黏合底塗組合物可藉由噴霧形成實質上平滑之薄膜，且同時滿足環境法規並提供高黏合性能。
简体摘要：本发明系关于基于水之黏合底涂组合物及在黏着剂黏合之前将该组合物施加至金属表面上之方法。该黏合底涂组合物系基于水之分散液，其含有水、一或多种环氧树脂、一或多种固化剂、硅烷化合物、少量碳酸丙二酯(PC)及可选添加剂。该黏合底涂组合物可借由喷雾形成实质上平滑之薄膜，且同时满足环境法规并提供高黏合性能。

4. 发明专利

TW201512361A 複合材料之黏結审中-公开
简体标题：复合材料之黏结
公开(公告)号：TW201512361A
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：TW103123701
申请日：2014-07-09
申请人：塞特工業公司 , CYTEC INDUSTRIES INC.
发明人：麥亞當斯李奧納 , MACADAMS, LEONARD , 柯里達利夫K , KOHLI, DALIP K.
IPC分类号： C09J5/02 , B29C65/52 , B32B33/00
CPC分类号： B32B37/1207 , B29C65/02 , B29C65/4835 , B29C65/5057 , B29C66/0224 , B29C66/1122 , B29C66/30322 , B29C66/45 , B29C66/71 , B29C66/721 , B29C66/7212 , B29C66/72141 , B29C66/72143 , B29C66/73161 , B29C66/73751 , B29C66/7394 , B29C66/73941 , B29C70/54 , B29L2031/30 , B32B5/02 , B32B5/12 , B32B7/06 , B32B7/12 , B32B27/20 , B32B27/38 , B32B37/0038 , B32B37/025 , B32B37/12 , B32B38/10 , B32B2037/1253 , B32B2038/0076 , B32B2260/046 , B32B2262/02 , B32B2262/10 , B32B2305/188 , B32B2305/74 , B32B2315/085 , B32B2363/00 , B32B2605/18 , C08J5/24 , C08J2363/00 , C08J2363/04 , C08J2463/02 , C09J5/02 , C09J163/00 , C09J163/04 , C09J2463/003 , Y10T428/249921 , B29K2309/08 , B29K2307/04 , B29K2277/10 , B29K2223/06 , B29K2267/00 , B29K2063/00
摘要：本發明係關於用於表面預處理之剝離層及一種在膠合黏結之前之表面預處理之方法。將富含樹脂之剝離層塗覆至可固化、基於樹脂之複合基板上，隨後共固化。在共固化之後，該複合基板係完全固化而該剝離層中的該基質樹脂保持部分固化。當移除該剝離層時，暴露出具有化學活性官能基之粗糙、可黏結表面。可將具有該化學活性、可黏結表面之該複合基板黏結至另一複合基板以形成共價黏結結構。
简体摘要：本发明系关于用于表面预处理之剥离层及一种在胶合黏结之前之表面预处理之方法。将富含树脂之剥离层涂覆至可固化、基于树脂之复合基板上，随后共固化。在共固化之后，该复合基板系完全固化而该剥离层中的该基质树脂保持部分固化。当移除该剥离层时，暴露出具有化学活性官能基之粗糙、可黏结表面。可将具有该化学活性、可黏结表面之该复合基板黏结至另一复合基板以形成共价黏结结构。

5. 发明专利

TW201509953A 唑矽烷化合物、表面處理液、表面處理方法及其應用审中-公开
简体标题：唑硅烷化合物、表面处理液、表面处理方法及其应用
公开(公告)号：TW201509953A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：TW103122789
申请日：2014-07-01
申请人：四國化成工業股份有限公司 , SHIKOKU CHEMICALS CORPORATION
发明人：三浦昌三 , MIURA, SHOZO , 村井孝行 , MURAI, TAKAYUKI , 奧村尚登 , OKUMURA, NAOTO , 谷岡宮 , TANIOKA, MIYA , 勝村真人 , KATSUMURA, MASATO , 山地範明 , YAMAJI, NORIAKI
IPC分类号： C07F7/18 , C08K5/5419 , C09K3/00 , C23C26/00 , C09D7/12 , C09D5/00 , C09J11/06 , C09J5/02 , H05K3/38 , H01B3/30
CPC分类号： C07F7/1836 , B32B37/12 , B32B37/14 , B32B2311/12 , B32B2315/02 , B32B2315/08 , B32B2333/04 , B32B2363/00 , B32B2377/00 , B32B2457/08 , C08K5/5442 , C09J5/02 , C09J2400/163 , C09J2400/166 , C09J2400/226 , C09J2400/228 , C09J2433/008 , C09J2463/008 , C09J2479/088 , H05K1/0306 , H05K1/09 , H05K3/28 , H05K3/389 , H05K2201/0154 , H05K2203/124
摘要：本發明之目的在於提供一種新穎之唑矽烷化合物及其合成方法、以及以該唑矽烷化合物作為成分之矽烷偶合劑；而且提供使用該唑矽烷化合物之表面處理液、表面處理方法及相異之兩材料的接黏方法。本發明之唑矽烷化合物係特定之化學式(I-1)或(II-1)所示的化合物。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种新颖之唑硅烷化合物及其合成方法、以及以该唑硅烷化合物作为成分之硅烷偶合剂；而且提供使用该唑硅烷化合物之表面处理液、表面处理方法及相异之两材料的接黏方法。本发明之唑硅烷化合物系特定之化学式(I-1)或(II-1)所示的化合物。

6. 发明专利

TW201429691A 複合材料之結合审中-公开
简体标题：复合材料之结合
公开(公告)号：TW201429691A
公开(公告)日：2014-08-01
申请号：TW102142725
申请日：2013-11-22
申请人：塞特工業公司 , CYTEC INDUSTRIES INC.
发明人：麥亞當斯李奧納A , MACADAMS, LEONARD A. , 柯里達利夫K , KOHLI, DALIP K.
IPC分类号： B29C65/54
CPC分类号： B29C70/30 , B29C65/14 , B29C65/1406 , B29C65/4835 , B29C66/71 , B29C66/721 , B29C66/7212 , B29C66/72141 , B29C66/72143 , B29C66/73161 , B29C66/73754 , B29C66/73941 , B29L2031/3055 , B29L2031/3076 , C09J5/02 , C09J2400/263 , C09J2461/00 , C09J2463/00 , C09J2467/00 , C09J2479/08 , F16B11/006 , B29K2307/04 , B29K2277/10 , B29K2063/00 , B29K2061/04 , B29K2067/06 , B29K2079/08
摘要：本發明揭示一種複合結合方法。將兩個基於樹脂之可固化複合基板中之至少一者部分地固化至至少10%但小於75%完全固化之固化程度。然後使用該等複合基板之間之可固化黏著劑使其彼此接合。對該等接合基板實施共固化以形成結合之複合結構，藉此該黏著劑以化學方式結合至且以機械方式擴散有該等複合基板之樹脂基質，從而在該黏著劑與每一複合基板之間得到化學結合界面。另外，結合可在接合表面上存在污染物下發生。
简体摘要：本发明揭示一种复合结合方法。将两个基于树脂之可固化复合基板中之至少一者部分地固化至至少10%但小于75%完全固化之固化程度。然后使用该等复合基板之间之可固化黏着剂使其彼此接合。对该等接合基板实施共固化以形成结合之复合结构，借此该黏着剂以化学方式结合至且以机械方式扩散有该等复合基板之树脂基质，从而在该黏着剂与每一复合基板之间得到化学结合界面。另外，结合可在接合表面上存在污染物下发生。

7. 发明专利

TW201348368A 滲透障壁用之具硬及軟嵌段的可交聯黏著劑审中-公开
简体标题：渗透障壁用之具硬及软嵌段的可交联黏着剂
公开(公告)号：TW201348368A
公开(公告)日：2013-12-01
申请号：TW102113253
申请日：2013-04-15
申请人：特薩股份有限公司 , TESA SE
发明人：葛魯諾爾朱迪斯 , GRUENAUER, JUDITH , 艾林格珍 , ELLINGER, JAN , 奎溫凱朵斯坦 , KRAWINKEL, THORSTEN , 凱特特格布契克勞斯 , KEITE-TELGENBUESCHER, KLAUS
IPC分类号： C09J153/00 , C09J123/26 , C09J163/00 , C09J7/02 , H01L23/29 , H01L51/00 , H05B33/04
CPC分类号： C09J153/025 , C08F8/36 , C08K5/0091 , C08K5/07 , C08L53/025 , C08L91/00 , C08L2205/02 , C09J5/02 , C09J5/06 , C09J7/20 , C09J7/35 , C09J7/387 , C09J11/06 , C09J153/00 , C09J193/04 , C09J2203/318 , C09J2453/00 , H01L51/5246 , H01L2924/0002 , Y10T428/2852 , H01L2924/00
摘要：滲透障壁用之黏著劑，含有：(i)嵌段共聚物及此嵌段共聚物之混合物，具有A-B-A、(A-B)n、(A-B)nX或(A-B-A)nX之結構，其中X代表耦合試劑的殘基，n代表一個介於2至10的整數，A代表乙烯芳香族的聚合物，B代表烯烴或二烯的聚合物，而且這個聚合物嵌段也可以被氫化，條件是至少有一部分A嵌段被硫化，也可以是具有A-B結構之雙嵌段共聚物的混合成分，以及(ii)至少一種黏性樹脂。
简体摘要：渗透障壁用之黏着剂，含有：(i)嵌段共聚物及此嵌段共聚物之混合物，具有A-B-A、(A-B)n、(A-B)nX或(A-B-A)nX之结构，其中X代表耦合试剂的残基，n代表一个介于2至10的整数，A代表乙烯芳香族的聚合物，B代表烯烃或二烯的聚合物，而且这个聚合物嵌段也可以被氢化，条件是至少有一部分A嵌段被硫化，也可以是具有A-B结构之双嵌段共聚物的混合成分，以及(ii)至少一种黏性树脂。

8. 发明专利

TWI412098B 半導體晶圓之保持方法及半導體晶圓之保持裝置有权
简体标题：半导体晶圆之保持方法及半导体晶圆之保持设备
公开(公告)号：TWI412098B
公开(公告)日：2013-10-11
申请号：TW096128947
申请日：2007-08-07
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：山本雅之 , YAMAMOTO, MASAYUKI
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67132 , B24B37/30 , B24B37/345 , C09J5/02 , C09J2203/326 , H01L21/68785 , Y10T156/1028

9. 发明专利

TW201114871A 黏合UV可交聯材料至基板之改良方法 PROCESS FOR IMPROVING THE ADHESION OF A UV-CROSSLINKABLE MATERIAL TO A SUBSTRATE 审中-公开
简体标题：黏合UV可交联材料至基板之改良方法 PROCESS FOR IMPROVING THE ADHESION OF A UV-CROSSLINKABLE MATERIAL TO A SUBSTRATE
公开(公告)号：TW201114871A
公开(公告)日：2011-05-01
申请号：TW099122164
申请日：2010-07-06
申请人：原子能與替代能源委員會
发明人：艾特蒙瑪莉 , 班瓦迪摩安德
IPC分类号： C09J , H01L
CPC分类号： C09J5/02 , C08J3/28 , C08J5/12 , C09J2205/31
摘要：本發明係關於一種黏合藉由暴露於UV射線而可交聯的材料所製造的層至基質之改良方法，及亦關於一種電晶體製造方法，其包含至少一個執行此種方法的步驟。黏合由材料M所製造層至基質S表面的此改善方法特徵在於：-材料M為一種藉由暴露於UV射線而可交聯的材料，及特徵在於其包含下列步驟：a)將未經聚合的可聚合組合物P沉積於至少一個基質S表面，此未經聚合的可聚合組合物P包含至少一分子F，該至少一分子F含有藉由暴露於UV射線而能夠與材料M表面的反應基M1反應的第一反應基F1，及能夠與構成基質S表面的材料形成鍵的第二反應基F2。b)將由未交聯材料M所製造的層沉積於在步驟a)所得到的未聚合組合物P的層上，及c)將在步驟b)所得到三層結構暴露於UV射線。本發明可特別應用於電晶體製造領域。
简体摘要：本发明系关于一种黏合借由暴露于UV射线而可交联的材料所制造的层至基质之改良方法，及亦关于一种晶体管制造方法，其包含至少一个运行此种方法的步骤。黏合由材料M所制造层至基质S表面的此改善方法特征在于：-材料M为一种借由暴露于UV射线而可交联的材料，及特征在于其包含下列步骤：a)将未经聚合的可聚合组合物P沉积于至少一个基质S表面，此未经聚合的可聚合组合物P包含至少一分子F，该至少一分子F含有借由暴露于UV射线而能够与材料M表面的反应基M1反应的第一反应基F1，及能够与构成基质S表面的材料形成键的第二反应基F2。b)将由未交联材料M所制造的层沉积于在步骤a)所得到的未聚合组合物P的层上，及c)将在步骤b)所得到三层结构暴露于UV射线。本发明可特别应用于晶体管制造领域。

10. 发明专利

TW200920601A 黏著型光學膜之製造方法、黏著型光學膜及圖像顯示裝置审中-公开
简体标题：黏着型光学膜之制造方法、黏着型光学膜及图像显示设备
公开(公告)号：TW200920601A
公开(公告)日：2009-05-16
申请号：TW097132928
申请日：2008-08-28
申请人：日東電工股份有限公司 NITTO DENKO CORPORATION
发明人：小島理 KOJIMA, TADASHI , 杉野晶子 SUGINO, AKIKO , 佐竹正之 SATAKE, MASAYUKI , 妙治一由 TAEJI, KAZUYOSHI
IPC分类号： B32B , G02B
CPC分类号： C09J5/02 , C09J7/22 , C09J2400/228 , G02F2202/28
摘要：本發明係一種黏著型光學膜之製造方法,其具有於光學膜之至少一面上積層黏著劑層之步驟,上述積層步驟係藉由於待進行該積層步驟之上述光學膜之面及黏著劑層之面上進行表面活性處理後,積層經該表面活性處理之光學膜之面及黏著劑層之面而進行。藉由上述方法可獲得一種捲曲受到抑制、且密著性較佳、無黏著劑殘留或黏著劑不足之黏著型光學膜。
简体摘要：本发明系一种黏着型光学膜之制造方法,其具有于光学膜之至少一面上积层黏着剂层之步骤,上述积层步骤系借由于待进行该积层步骤之上述光学膜之面及黏着剂层之面上进行表面活性处理后,积层经该表面活性处理之光学膜之面及黏着剂层之面而进行。借由上述方法可获得一种卷曲受到抑制、且密着性较佳、无黏着剂残留或黏着剂不足之黏着型光学膜。

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