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11. 发明专利

TW200635975A 抗焊用熱硬化性組成物及其硬化物 THERMOSETTING COMPOSITION FOR SOLDER RESIST AND CURED PRODUCT THEREOF 审中-公开
简体标题：抗焊用热硬化性组成物及其硬化物 THERMOSETTING COMPOSITION FOR SOLDER RESIST AND CURED PRODUCT THEREOF
公开(公告)号：TW200635975A
公开(公告)日：2006-10-16
申请号：TW095105808
申请日：2006-02-21
申请人：昭和電工股份有限公司 SHOWA DENKO K. K.
发明人：宮島芳生 MIYAJIMA, YOSHIO , 和田哲夫 WADA, TETSUO , 中村綾子 NAKAMURA, AYAKO
IPC分类号： C08G , H05K
CPC分类号： C08G59/4207 , C08G59/20 , C08L63/00 , H05K3/285 , H05K2201/0239 , H05K2203/124
摘要：本發明係提供具備優異的可撓性、硬化時的低翹曲性、焊耐熱性、PCT抗性、HHBT抗性，適用於印刷電路板，特別是適用於FPC用的抗焊油墨之新穎的抗焊用熱硬化性組成物。本發明之抗焊用熱硬化性組成物，其特徵係含有：分子中具有2個以上的環氧基之環氧樹脂(A)、下述一般式(I)：095105808-p01.bmp(式中，R為2價的有機基，n為2～30的整數)所示之聚酸酐(B)、及偶合劑(C)作為必須成份。
简体摘要：本发明系提供具备优异的可挠性、硬化时的低翘曲性、焊耐热性、PCT抗性、HHBT抗性，适用于印刷电路板，特别是适用于FPC用的抗焊油墨之新颖的抗焊用热硬化性组成物。本发明之抗焊用热硬化性组成物，其特征系含有：分子中具有2个以上的环氧基之环氧树脂(A)、下述一般式(I)：095105808-p01.bmp(式中，R为2价的有机基，n为2～30的整数)所示之聚酸酐(B)、及偶合剂(C)作为必须成份。

12. 发明专利

TW200301759A 多元羧酸混合物多西酸混合物失效
公开(公告)号：TW200301759A
公开(公告)日：2003-07-16
申请号：TW091137920
申请日：2002-12-27
申请人：旭化成股份有限公司
发明人：伊達英城
IPC分类号： C07C
CPC分类号： C09D163/00 , C08G59/4207
摘要：本發明係揭示一種多元羧酸混合物，其特徵為，1,3,6-己烷三羧酸含量為80質量%以上之多元羧酸混合物中，明亮度指數L之值為98以上，色彩指數a之值為-2.0至2.0，色彩指數b之值為-2.0至3.0且氮含量為5,000質量ppm以下。
简体摘要：本发明系揭示一种多元羧酸混合物，其特征为，1,3,6-己烷三羧酸含量为80质量%以上之多元羧酸混合物中，明亮度指数L之值为98以上，色彩指数a之值为-2.0至2.0，色彩指数b之值为-2.0至3.0且氮含量为5,000质量ppm以下。

13. 发明专利

TW353107B 用於增進底材黏附力之具含檸檬酸聚合物之塗料組合物失效
简体标题：用于增进底材黏附力之具含柠檬酸聚合物之涂料组合物
公开(公告)号：TW353107B
公开(公告)日：1999-02-21
申请号：TW086114033
申请日：1997-09-26
申请人：片片堅工業公司
发明人：布魯斯艾柯尼里
IPC分类号： C09D
CPC分类号： C09D163/00 , C08F8/14 , C08G59/4207 , C09D133/062 , C08L2666/14
摘要：一種包含形成薄膜之聚合物之塗料組合物，該聚合物為(a)一種包含側基及／或終端的羥基或環氧基官能基之化合物和(b)檸檬酸或檸檬酸酐之反應產物。該等塗料組合物具有對鍍鋅和鍍鋅燒(galvanealed)鋼底材之增進黏附力而沒有使用含鉻洗滌底漆。
简体摘要：一种包含形成薄膜之聚合物之涂料组合物，该聚合物为(a)一种包含侧基及／或终端的羟基或环氧基官能基之化合物和(b)柠檬酸或柠檬酸酐之反应产物。该等涂料组合物具有对镀锌和镀锌烧(galvanealed)钢底材之增进黏附力而没有使用含铬洗涤底漆。

14. 发明专利

TWI445019B 導電性接著劑組成物、連接體及太陽電池模組及其製造方法有权
简体标题：导电性接着剂组成物、连接体及太阳电池模块及其制造方法
公开(公告)号：TWI445019B
公开(公告)日：2014-07-11
申请号：TW101101075
申请日：2012-01-11
申请人：日立化成股份有限公司 , HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD.
发明人：須方振一郎 , SUKATA, SHINICHIROU , 林宏樹 , HAYASHI, HIROKI , 桃崎彩 , MOMOZAKI, AYA
IPC分类号： H01B1/22 , H01L31/0687 , H01L31/18
CPC分类号： H01L31/0512 , C08G59/4042 , C08G59/4207 , C08K3/22 , C08K2003/2231 , C09J9/02 , C09J11/04 , C09J163/00 , H01B1/22 , H01L31/022425 , Y02E10/50

15. 发明专利

TW201418313A 潛在催化之固化劑审中-公开
简体标题：潜在催化之固化剂
公开(公告)号：TW201418313A
公开(公告)日：2014-05-16
申请号：TW102121009
申请日：2013-06-14
申请人：陶氏全球科技公司 , DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC
发明人：馬克斯毛利斯J , MARKS, MAURICE J.
IPC分类号： C08G59/24 , C08G59/40 , C08G59/68 , C08K5/42 , C08K5/5333 , C08K5/101
CPC分类号： C08G59/4207 , C08G59/226 , C08G59/245 , C08G59/4064 , C08G59/4071 , C08K5/101 , C08K5/42 , C08K5/5333 , C08L63/00
摘要：本發明係關於一種可固化組成物，其包括(a)至少一種二氧化二乙烯基芳烴及(b)至少一種潛在催化固化劑；一種製備該可固化組成物之方法；及由該可固化組成物製備之固化組成物。
简体摘要：本发明系关于一种可固化组成物，其包括(a)至少一种二氧化二乙烯基芳烃及(b)至少一种潜在催化固化剂；一种制备该可固化组成物之方法；及由该可固化组成物制备之固化组成物。

16. 发明专利

TWI371656B 含有具伸乙二羰基結構之聚合物的微影蝕刻用抗反射膜形成組成物 ANTIREFLECTIVE COATING FORMING COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY CONTAINING POLYMER HAVING ETHYLENEDICARBONYL STRUCTURE 有权
简体标题：含有具伸乙二羰基结构之聚合物的微影蚀刻用抗反射膜形成组成物 ANTIREFLECTIVE COATING FORMING COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY CONTAINING POLYMER HAVING ETHYLENEDICARBONYL STRUCTURE
公开(公告)号：TWI371656B
公开(公告)日：2012-09-01
申请号：TW095113976
申请日：2006-04-19
申请人：日產化學工業股份有限公司
发明人：坂本力丸
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/091 , C08G59/4207 , Y10S438/952
摘要：【課題】本發明係提供於製造半導體裝置之微影蝕刻步驟中所使用，顯示優良之抗反射效果，且不會引起與光阻的居間混合，具有比光阻更大之蝕刻速度的抗反射膜、及形成該抗反射膜之組成物。
【解決手段】含有具伸乙二羰基結構之聚合物及溶劑之微影蝕刻用抗反射膜形成組成物，由該組成物所形成之抗反射膜，及使用該組成物之光阻圖型的形成方法。
简体摘要：【课题】本发明系提供于制造半导体设备之微影蚀刻步骤中所使用，显示优良之抗反射效果，且不会引起与光阻的居间混合，具有比光阻更大之蚀刻速度的抗反射膜、及形成该抗反射膜之组成物。【解决手段】含有具伸乙二羰基结构之聚合物及溶剂之微影蚀刻用抗反射膜形成组成物，由该组成物所形成之抗反射膜，及使用该组成物之光阻图型的形成方法。

17. 发明专利

TW201033304A 環氧化物基組合物 EPOXIDE-BASED COMPOSITION 审中-公开
简体标题：环氧化物基组合物 EPOXIDE-BASED COMPOSITION
公开(公告)号：TW201033304A
公开(公告)日：2010-09-16
申请号：TW099106205
申请日：2010-03-03
申请人：氣體產品及化學品股份公司
发明人：千葉康夫 , 亞伯道拉札克艾提伊休斯森 , 森本裕也
IPC分类号： C09D , C08K
CPC分类号： C08G59/22 , C08G59/4207 , C08G59/506 , C08L63/00 , C08L2666/22
摘要：一種環氧化物基組合物，其包含環氧化物和硬化劑的組合，其中該環氧化物選自苯基縮水甘油醚基多環氧化物，並且該硬化劑是包含N-鏈烷醇呱啶和羧酸的鹽化合物。
简体摘要：一种环氧化物基组合物，其包含环氧化物和硬化剂的组合，其中该环氧化物选自苯基缩水甘油醚基多环氧化物，并且该硬化剂是包含N-链烷醇哌啶和羧酸的盐化合物。

18. 发明专利

TW200702919A 含有具伸乙二羰基結構之聚合物的微影蝕刻用抗反射膜形成組成物 ANTIREFLECTIVE COATING FORMING COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY CONTAINING POLYMER HAVING ETHYLENEDICARBONYL STRUCTURE 审中-公开
简体标题：含有具伸乙二羰基结构之聚合物的微影蚀刻用抗反射膜形成组成物 ANTIREFLECTIVE COATING FORMING COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY CONTAINING POLYMER HAVING ETHYLENEDICARBONYL STRUCTURE
公开(公告)号：TW200702919A
公开(公告)日：2007-01-16
申请号：TW095113976
申请日：2006-04-19
申请人：日產化學工業股份有限公司 NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人： 本力丸 SAKAMOTO, RIKIMARU
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/091 , C08G59/4207 , Y10S438/952
摘要：【課題】本發明係提供於製造半導體裝置之微影蝕刻步驟中所使用,顯示優良之抗反射效果,且不會引起與光阻的居間混合,具有比光阻更大之蝕刻速度的抗反射膜、及形成該抗反射膜之組成物。【解決手段】含有具伸乙二羰基結構之聚合物及溶劑之微影蝕刻用抗反射膜形成組成物,由該組成物所形成之抗反射膜,及使用該組成物之光阻圖型的形成方法。
简体摘要：【课题】本发明系提供于制造半导体设备之微影蚀刻步骤中所使用,显示优良之抗反射效果,且不会引起与光阻的居间混合,具有比光阻更大之蚀刻速度的抗反射膜、及形成该抗反射膜之组成物。【解决手段】含有具伸乙二羰基结构之聚合物及溶剂之微影蚀刻用抗反射膜形成组成物,由该组成物所形成之抗反射膜,及使用该组成物之光阻图型的形成方法。

19. 发明专利

TWI245037B 多元羧酸混合物 POLYCARBOXYLIC ACID MIXTURE 失效
公开(公告)号：TWI245037B
公开(公告)日：2005-12-11
申请号：TW091137920
申请日：2002-12-27
申请人：旭化成化學股份有限公司 ASAHI KASEI CHEMICALS CORPORATION
发明人：伊達英城 , 下田晃義
IPC分类号： C07C
CPC分类号： C09D163/00 , C08G59/4207
摘要：本發明係揭示一種多元羧酸混合物，其特徵為，1,3,6-己烷三羧酸含量為80質量%以上之多元羧酸混合物中，明亮度指數L之值為98以上，色彩指數a之值為-2.0至2.0，色彩指數b之值為-2.0至3.0且氮含量為5,000質量ppm以下。
简体摘要：本发明系揭示一种多元羧酸混合物，其特征为，1,3,6-己烷三羧酸含量为80质量%以上之多元羧酸混合物中，明亮度指数L之值为98以上，色彩指数a之值为-2.0至2.0，色彩指数b之值为-2.0至3.0且氮含量为5,000质量ppm以下。

20. 发明专利

TW502043B 自行乳化型水性環氧樹脂分散液之製法,含此樹脂之單液型水性樹脂雙重硬化組合物及單液型水性混成樹脂硬化組合物失效
简体标题：自行乳化型水性环氧树脂分散液之制法,含此树脂之单液型水性树脂双重硬化组合物及单液型水性混成树脂硬化组合物
公开(公告)号：TW502043B
公开(公告)日：2002-09-11
申请号：TW088113573
申请日：1999-08-09
申请人：中國石油股份有限公司
发明人：陳琮文 , 葉正濤 , 陳幹男 , 林雲山
IPC分类号： C08G
CPC分类号： C08L63/00 , C08G59/42 , C08G59/4207 , C08G59/4284 , C08L79/02 , C08L2666/04
摘要：本發明以二羧酸酐與環氧樹脂中之二級醇基進行半酯化反應，製備具有羧酸之環氧樹脂，再以三級胺中和羧酸，形成親水性之羧酸胺鹽，祇要抓水(無須外加乳化劑)，即可成為陰離子自行乳化型水性環氧樹脂分散液。此種穩定之水性環氧樹脂含有羧基及環氧基，兩者均為具反應性之官能基。本發明係利用含有多元伸乙亞胺( polyaziridine)化合物當架橋劑加入此水性環氧樹脂分散液中，形成〝單液〞〝常溫〞〝交聯〞型水性環氧樹脂系統。當此單液型水性環氧樹脂在乾燥過程中，水性環氧樹脂所含之羧基會與伸乙亞胺進行開環反應形成胺基酯類( Amino ester)，此胺基會進一步與此水性環氧樹脂之環氧基進行另一種開環交聯反應達成〝雙重交聯〞的效果。本發明提供含羧基和環氧樹脂一種新的雙重交聯硬化製程，此雙重硬化製程方可應用於水性環氧樹脂分散液與其他含羧基或環氧基水性樹脂所摻合成之混成樹脂，也經由相同之雙重交聯系統達到硬化混成樹脂的目的。
简体摘要：本发明以二羧酸酐与环氧树脂中之二级醇基进行半酯化反应，制备具有羧酸之环氧树脂，再以三级胺中和羧酸，形成亲水性之羧酸胺盐，祇要抓水(无须外加乳化剂)，即可成为阴离子自行乳化型水性环氧树脂分散液。此种稳定之水性环氧树脂含有羧基及环氧基，两者均为具反应性之官能基。本发明系利用含有多元伸乙亚胺( polyaziridine)化合物当架桥剂加入此水性环氧树脂分散液中，形成〝单液〞〝常温〞〝交联〞型水性环氧树脂系统。当此单液型水性环氧树脂在干燥过程中，水性环氧树脂所含之羧基会与伸乙亚胺进行开环反应形成胺基酯类( Amino ester)，此胺基会进一步与此水性环氧树脂之环氧基进行另一种开环交联反应达成〝双重交联〞的效果。本发明提供含羧基和环氧树脂一种新的双重交联硬化制程，此双重硬化制程方可应用于水性环氧树脂分散液与其他含羧基或环氧基水性树脂所掺合成之混成树脂，也经由相同之双重交联系统达到硬化混成树脂的目的。

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